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TN
Presentamos el PP Cavity Small Spin Coater para Photoresist: una solución altamente eficiente y versátil para recubrir materiales líquidos o coloidales sobre diversos sustratos.Diseñado para profesionales en el campo, este recubridor giratorio es ideal para lograr películas delgadas en obleas de silicio, cristales, cuarzo, cerámica y más.
Con su tecnología avanzada e ingeniería de precisión, nuestro recubridor giratorio garantiza una distribución uniforme y controlada del fotorresistente, lo que permite resultados precisos y confiables.Ya sea que trabaje en investigación y desarrollo, fabricación de semiconductores o cualquier otra industria que requiera recubrimiento por rotación fotorresistente, este producto es su solución ideal.
Características clave:
1. Amplia compatibilidad: nuestra recubridora giratoria puede manejar una variedad de sustratos, incluidos obleas de silicio, cristales, cuarzo, cerámica y otros, lo que le permite recubrir diversos materiales sin esfuerzo.
2. Recubrimiento preciso: Logre películas delgadas y uniformes con facilidad, gracias al diseño avanzado de nuestra recubridora giratoria.Garantiza una distribución controlada de materiales líquidos o coloidales, asegurando resultados precisos y repetibles.
3. Operación fácil de usar: Diseñada pensando en los profesionales, nuestra recubridora giratoria ofrece una experiencia de usuario perfecta.Su interfaz intuitiva y sus controles fáciles de usar lo hacen adecuado tanto para operadores experimentados como para recién llegados a la industria.
4. Eficiencia mejorada: ahorre tiempo y aumente la productividad con el rendimiento eficiente de nuestra máquina de recubrimiento por rotación.Su alta velocidad de rotación y su proceso de recubrimiento optimizado permiten un recubrimiento rápido y confiable, lo que reduce el tiempo de inactividad y mejora el flujo de trabajo.
5. Construcción robusta: Construida para soportar entornos exigentes, nuestra recubridora giratoria está fabricada con materiales de alta calidad, lo que garantiza durabilidad y longevidad.Está diseñado para soportar el uso continuo, brindándole una solución confiable para sus necesidades de recubrimiento.
Invierta hoy en el PP Cavity Small Spin Coater para Photoresist y experimente el rendimiento de nivel profesional que ofrece.Con sus características excepcionales y su funcionalidad confiable, esta recubridora giratoria es el complemento perfecto para su laboratorio o instalación de producción, ya que ofrece resultados precisos y consistentes en todo momento.
Parámetros técnicos de la recubridora giratoria pequeña:
Artículo | Detalle | |
Recubrimiento giratorio | Tensión de alimentación | 220 V CA, 50 Hz |
Velocidad de centrifugado | 0~8000rpm | |
Aceleración | 100~5000rpm/s | |
Resolución de velocidad | 1rpm | |
tiempo de un solo paso | 3000 | |
Tamaño del sustrato | Diámetro ≤ 4 pulgadas (100 mm) | |
Material de la cámara | PÁGINAS | |
Método de operación | Botón + pantalla LCD | |
Método de dispensación | Dispensación manual, bomba de jeringa de precisión opcional | |
Curva de recubrimiento | 5 segmentos por curva, se pueden crear un total de 5 curvas. almacenado | |
Puerto de bombeo | Junta de tornillo rápido de Φ8 mm | |
Tamaño global | 210 mm × 250 mm × 180 mm | |
Peso total | 8 kilos | |
Sistema de escape | Bomba aspiradora | Bomba mecánica seca |
Tasa de bombeo | 1,1 l/s | |
Fuente de alimentación | CA 220 V 50/60 Hz. |
Presentamos el PP Cavity Small Spin Coater para Photoresist: una solución altamente eficiente y versátil para recubrir materiales líquidos o coloidales sobre diversos sustratos.Diseñado para profesionales en el campo, este recubridor giratorio es ideal para lograr películas delgadas en obleas de silicio, cristales, cuarzo, cerámica y más.
Con su tecnología avanzada e ingeniería de precisión, nuestro recubridor giratorio garantiza una distribución uniforme y controlada del fotorresistente, lo que permite resultados precisos y confiables.Ya sea que trabaje en investigación y desarrollo, fabricación de semiconductores o cualquier otra industria que requiera recubrimiento por rotación fotorresistente, este producto es su solución ideal.
Características clave:
1. Amplia compatibilidad: nuestra recubridora giratoria puede manejar una variedad de sustratos, incluidos obleas de silicio, cristales, cuarzo, cerámica y otros, lo que le permite recubrir diversos materiales sin esfuerzo.
2. Recubrimiento preciso: Logre películas delgadas y uniformes con facilidad, gracias al diseño avanzado de nuestra recubridora giratoria.Garantiza una distribución controlada de materiales líquidos o coloidales, asegurando resultados precisos y repetibles.
3. Operación fácil de usar: Diseñada pensando en los profesionales, nuestra recubridora giratoria ofrece una experiencia de usuario perfecta.Su interfaz intuitiva y sus controles fáciles de usar lo hacen adecuado tanto para operadores experimentados como para recién llegados a la industria.
4. Eficiencia mejorada: ahorre tiempo y aumente la productividad con el rendimiento eficiente de nuestra máquina de recubrimiento por rotación.Su alta velocidad de rotación y su proceso de recubrimiento optimizado permiten un recubrimiento rápido y confiable, lo que reduce el tiempo de inactividad y mejora el flujo de trabajo.
5. Construcción robusta: Construida para soportar entornos exigentes, nuestra recubridora giratoria está fabricada con materiales de alta calidad, lo que garantiza durabilidad y longevidad.Está diseñado para soportar el uso continuo, brindándole una solución confiable para sus necesidades de recubrimiento.
Invierta hoy en el PP Cavity Small Spin Coater para Photoresist y experimente el rendimiento de nivel profesional que ofrece.Con sus características excepcionales y su funcionalidad confiable, esta recubridora giratoria es el complemento perfecto para su laboratorio o instalación de producción, ya que ofrece resultados precisos y consistentes en todo momento.
Parámetros técnicos de la recubridora giratoria pequeña:
Artículo | Detalle | |
Recubrimiento giratorio | Tensión de alimentación | 220 V CA, 50 Hz |
Velocidad de centrifugado | 0~8000rpm | |
Aceleración | 100~5000rpm/s | |
Resolución de velocidad | 1rpm | |
tiempo de un solo paso | 3000 | |
Tamaño del sustrato | Diámetro ≤ 4 pulgadas (100 mm) | |
Material de la cámara | PÁGINAS | |
Método de operación | Botón + pantalla LCD | |
Método de dispensación | Dispensación manual, bomba de jeringa de precisión opcional | |
Curva de recubrimiento | 5 segmentos por curva, se pueden crear un total de 5 curvas. almacenado | |
Puerto de bombeo | Junta de tornillo rápido de Φ8 mm | |
Tamaño global | 210 mm × 250 mm × 180 mm | |
Peso total | 8 kilos | |
Sistema de escape | Bomba aspiradora | Bomba mecánica seca |
Tasa de bombeo | 1,1 l/s | |
Fuente de alimentación | CA 220 V 50/60 Hz. |
