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Blancos de pulverización catódica de circonio (Zr)
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Objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS) para precalentar suavemente hasta desgasificar.Las películas se descomponen parcialmente.
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Óxido de zinc ZnO (objetivo de pulverización catódica)
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Objetivos de pulverización catódica de zinc (Zn)
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Objetivos de pulverización de óxido de itrio (Y2O3) para películas de pérdida de oxígeno suaves y claras
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Objetivos de pulverización catódica de itrio (Y)
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Objetivos de pulverización catódica de carburo de vanadio (VC)
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Objetivos de pulverización catódica de vanadio (V) para películas evaporadas con haz de electrones
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Objetivos de pulverización catódica de óxido de tungsteno (WO3)
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Objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC)
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Objetivos de pulverización catódica de tungsteno (W)
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Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Que es un fabricante especializado en la producción de instrumentos científicos de laboratorio.Nuestros productos se utilizan ampliamente en universidades, instituciones de investigación y laboratorios.
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