| Cantidad: | |
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TN
Principales características:
1. Tiene la función de estabilizar el voltaje y tiene una característica ideal de caída pronunciada de voltaje, que suprime efectivamente la ignición de la superficie de la fuente de iones.
2. Salida de pulso superpuesta de CC, el pico puede alcanzar 2000 V.
3. Frecuencia 40kHz, ciclo de trabajo 45%~90%.
4. Control manual opcional/control de interfaz analógica, interfaz de comunicación RS485 opcional.
Utilizando tecnología avanzada de modulación de ancho de pulso PWM, utilizando IGBT o MOSFET importados como dispositivo de conmutación de energía, es de tamaño pequeño, liviano, funcional, estable y confiable en rendimiento, y el proceso de producción es estricto y perfecto.
Esta serie de productos adopta un sistema de control DSP avanzado para garantizar completamente la repetibilidad del proceso de recubrimiento y tiene la función de restringir la descarga de arco objetivo y resistir cortocircuitos.Esta serie de productos tiene una excelente capacidad de adaptación de carga, que no solo garantiza la estabilidad del proceso de limpieza de la superficie objetivo, sino que también mejora la velocidad de limpieza de la superficie objetivo;
Los parámetros principales se pueden ajustar continuamente en una amplia gama;
Fácil mantenimiento y alta confiabilidad;
Interfaz PLC y función de expansión de interfaz RS485, control automático fácil de lograr.
El rango de aplicación del suministro de energía con fuente de iones es muy amplio e incluye principalmente los siguientes aspectos:
Espectrometría de masas de iones: la fuente de alimentación de iones es uno de los dispositivos clave del espectrómetro de masas de iones, que se puede utilizar para proporcionar energía de ionización y energía de electrones para el bombardeo de electrones.
Espectroscopia de fotoelectrones: la fuente de alimentación de la fuente de iones también se puede utilizar para el estudio de la espectroscopia de fotoelectrones, que puede proporcionar la energía de ionización necesaria.
Galvanoplastia y tratamiento de superficies: la energía de la fuente de iones se puede utilizar para generar haces de iones para galvanoplastia y tratamiento de superficies, que son eficientes y de alta calidad.
Investigación de plasma: la energía de la fuente de iones se puede utilizar para la investigación de plasma, como descarga de chispas, etc., así como para el tratamiento del cáncer en el campo médico.
Recubrimiento al vacío: la aplicación de fuente de alimentación de iones en el recubrimiento al vacío incluye principalmente limpieza de superficies, modificación de superficies y deposición de películas.
En resumen, las fuentes de alimentación con fuentes de iones se utilizan ampliamente en muchos campos y son una parte indispensable de muchos equipos.
Características técnicas:
Modelo | Fuerza (W) | Laboral voltaje pico (V) | Máximo corriente de funcionamiento (A) | Marco principal dimensiones | Enfriamiento método |
ISDP2000V | 700 | 2kV | 0.35A | 482*175*550 (WHD)[4U] | Aire enfriamiento |
Principales características:
1. Tiene la función de estabilizar el voltaje y tiene una característica ideal de caída pronunciada de voltaje, que suprime efectivamente la ignición de la superficie de la fuente de iones.
2. Salida de pulso superpuesta de CC, el pico puede alcanzar 2000 V.
3. Frecuencia 40kHz, ciclo de trabajo 45%~90%.
4. Control manual opcional/control de interfaz analógica, interfaz de comunicación RS485 opcional.
Utilizando tecnología avanzada de modulación de ancho de pulso PWM, utilizando IGBT o MOSFET importados como dispositivo de conmutación de energía, es de tamaño pequeño, liviano, funcional, estable y confiable en rendimiento, y el proceso de producción es estricto y perfecto.
Esta serie de productos adopta un sistema de control DSP avanzado para garantizar completamente la repetibilidad del proceso de recubrimiento y tiene la función de restringir la descarga de arco objetivo y resistir cortocircuitos.Esta serie de productos tiene una excelente capacidad de adaptación de carga, que no solo garantiza la estabilidad del proceso de limpieza de la superficie objetivo, sino que también mejora la velocidad de limpieza de la superficie objetivo;
Los parámetros principales se pueden ajustar continuamente en una amplia gama;
Fácil mantenimiento y alta confiabilidad;
Interfaz PLC y función de expansión de interfaz RS485, control automático fácil de lograr.
El rango de aplicación del suministro de energía con fuente de iones es muy amplio e incluye principalmente los siguientes aspectos:
Espectrometría de masas de iones: la fuente de alimentación de iones es uno de los dispositivos clave del espectrómetro de masas de iones, que se puede utilizar para proporcionar energía de ionización y energía de electrones para el bombardeo de electrones.
Espectroscopia de fotoelectrones: la fuente de alimentación de la fuente de iones también se puede utilizar para el estudio de la espectroscopia de fotoelectrones, que puede proporcionar la energía de ionización necesaria.
Galvanoplastia y tratamiento de superficies: la energía de la fuente de iones se puede utilizar para generar haces de iones para galvanoplastia y tratamiento de superficies, que son eficientes y de alta calidad.
Investigación de plasma: la energía de la fuente de iones se puede utilizar para la investigación de plasma, como descarga de chispas, etc., así como para el tratamiento del cáncer en el campo médico.
Recubrimiento al vacío: la aplicación de fuente de alimentación de iones en el recubrimiento al vacío incluye principalmente limpieza de superficies, modificación de superficies y deposición de películas.
En resumen, las fuentes de alimentación con fuentes de iones se utilizan ampliamente en muchos campos y son una parte indispensable de muchos equipos.
Características técnicas:
Modelo | Fuerza (W) | Laboral voltaje pico (V) | Máximo corriente de funcionamiento (A) | Marco principal dimensiones | Enfriamiento método |
ISDP2000V | 700 | 2kV | 0.35A | 482*175*550 (WHD)[4U] | Aire enfriamiento |
