Fuente de alimentación de pulverización catódica con magnetrón CC de potencia serie MSD

Fuente de alimentación de pulverización catódica con magnetrón CC serie MSD

Principales características:

1. Utiliza tecnología avanzada de fuente de alimentación conmutada en modo actual para reducir los componentes de almacenamiento de energía de salida.Al mismo tiempo, mejora la supresión de chispas y la velocidad de reinicio, y la ventaja del recubrimiento sobre objetivo de aluminio es más obvia.

2. Está disponible en modo de corriente constante/potencia constante.El modo de potencia constante garantiza la repetibilidad del proceso de recubrimiento en comparación con el modo de corriente constante convencional.

3. Tiene una característica ideal de caída pronunciada de voltaje, reconoce automáticamente el fenómeno de pseudoignición y satisface completamente la continuidad del proceso de pulverización catódica del magnetrón.

4. Los parámetros principales se pueden ajustar en una amplia gama.

5. Control manual opcional/control de interfaz analógica, interfaz de comunicación RS485 opcional.

6. Utiliza módulos IGBT y MOS de alta potencia importados, utiliza tecnología avanzada de modulación de ancho de pulso PWM y utiliza IGBT o MOSFET importados como dispositivo de conmutación de energía.Es de tamaño pequeño, liviano, funcional, estable y confiable en rendimiento, y el proceso de producción es estricto y perfecto.

Esta serie de productos utiliza un sistema de control DSP avanzado para garantizar completamente la repetibilidad del proceso de recubrimiento y tiene la función de restringir la descarga de arco objetivo y resistir cortocircuitos.

Esta serie de productos tiene una excelente capacidad de adaptación de carga, que no solo garantiza la estabilidad del proceso de limpieza de la superficie objetivo, sino que también mejora la velocidad de limpieza de la superficie objetivo;

Los parámetros principales se pueden ajustar continuamente en una amplia gama;

Fácil mantenimiento y alta confiabilidad;

Interfaz PLC y función de expansión de interfaz RS485, control automático fácil de lograr.

La fuente de alimentación de pulverización catódica con magnetrón de CC es una tecnología común de preparación de películas delgadas.Sus campos de aplicación incluyen pero no se limitan a:

Fabricación de materiales de película delgada de compuestos metálicos: la tecnología de pulverización catódica con magnetrón CC se puede utilizar para fabricar diversos materiales de película delgada de compuestos metálicos, que se pueden usar para preparar diversas piezas metálicas, moldes y componentes electrónicos.Por ejemplo, puede fabricar alambres metálicos, electrodos, películas metálicas, nanocables y dispositivos magnetoeléctricos.Estos materiales se utilizan ampliamente en la industria, la electrónica y la biomedicina.

Campo óptico: la tecnología de pulverización catódica con magnetrón CC se puede utilizar para fabricar diversas películas ópticas, como revestimientos antirreflectantes, películas reflectantes, filtros, etc. Estas películas se utilizan ampliamente en instrumentos ópticos, iluminación, fotografía y otros campos.

Fabricación de paneles solares: la tecnología de pulverización catódica con magnetrón CC se puede utilizar para fabricar paneles solares, que pueden convertir la energía luminosa en energía eléctrica cuando se iluminan con la luz solar.

Campos de decoración y construcción: la tecnología de pulverización catódica con magnetrón CC se puede utilizar para producir diversas películas decorativas, como vidrio revestido, películas plásticas, etc. Estos materiales se pueden utilizar para la decoración exterior e interior de edificios.

Fabricación de componentes electrónicos: la tecnología de pulverización catódica por magnetrón de CC se puede utilizar para fabricar diversos componentes electrónicos, como resistencias, condensadores, inductores, etc. Estos componentes desempeñan un papel importante en los equipos electrónicos.

Parámetros técnicos: