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Fuente de evaporación por bombardeo de electrones de desviación magnética para recubridor por evaporación térmica

Fuente de evaporación por bombardeo de electrones de desviación magnética para recubridor por evaporación térmica
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  • TN

Fuente de evaporación por bombardeo de electrones de desviación magnética para recubridor por evaporación térmica

Parámetro del producto:

Modo calefacción

Radiación de bombardeo de electrones.

Filamento

Cable W、Ta   cable

Voltaje de aceleración de electrones

1000-3000V

Ángulo de deflexión del haz de electrones

270°

Temperatura de evaporación

>2300℃

Crisol

Grafito、Mo、Ta

Volumen del crisol

2 cc

número de crisol

1-3

Cubierta de refrigeración por agua

Tener

Deflector

Alternativa

Fuente de alimentación

5kW

Brida

icf152

Temperatura de horneado

200℃


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Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Que es un fabricante especializado en la producción de instrumentos científicos de laboratorio.Nuestros productos se utilizan ampliamente en universidades, instituciones de investigación y laboratorios.

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