| Cantidad: | |
|---|---|
TN
Fuente de rayos X de ánodo dual para revestimientos por evaporación térmica
Parámetro del producto:
material del ánodo | Al、Mg |
Energía de bombardeo de electrones del objetivo de Al | 15(keV) |
Poder de bombardeo de electrones del objetivo Al | 600(W) |
Energía de bombardeo de electrones del objetivo de Mg. | 15 (keV) |
Poder de bombardeo de electrones del objetivo de Mg. | 400(W) |
Energía del rayo AlKα1/2 (eV) | 1486.6（La mitad ancho 0.9eV） |
MgKα1/2 Energía del rayo (eV) | 1253.6（La mitad ancho 0.7eV） |
Brida | ICF70 |
agua de refrigeración | >3,5 l/min |
Distancia a la muestra | >14mm |
Temperatura de horneado | 200℃ |
Aplicación | XPS |
Fuente de rayos X de ánodo dual para revestimientos por evaporación térmica
Parámetro del producto:
material del ánodo | Al、Mg |
Energía de bombardeo de electrones del objetivo de Al | 15(keV) |
Poder de bombardeo de electrones del objetivo Al | 600(W) |
Energía de bombardeo de electrones del objetivo de Mg. | 15 (keV) |
Poder de bombardeo de electrones del objetivo de Mg. | 400(W) |
Energía del rayo AlKα1/2 (eV) | 1486.6（La mitad ancho 0.9eV） |
MgKα1/2 Energía del rayo (eV) | 1253.6（La mitad ancho 0.7eV） |
Brida | ICF70 |
agua de refrigeración | >3,5 l/min |
Distancia a la muestra | >14mm |
Temperatura de horneado | 200℃ |
Aplicación | XPS |
