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La fuente de alimentación CC de alta potencia para el recubridor por pulverización catódica con magnetrón es una fuente de energía controlada con precisión diseñada para aplicaciones de pulverización catódica continua y pulsada. Proporciona resultados consistentes y fluidos para lograr la deposición de películas delgadas de alta calidad para semiconductores, MEMS y laboratorios de investigación.
Con alta eficiencia de conversión, ondulación ultrabaja y funciones de protección integrales, esta fuente de CC admite sistemas de pulverización catódica de uno o varios cátodos, lo que brinda una uniformidad de recubrimiento superior y una larga vida útil del objetivo.
| Parámetro | Especificación | Descripción |
|---|---|---|
| Potencia de salida | 3 kilovatios – 60 kilovatios | Niveles de potencia opcionales para cumplir con diversos requisitos del sistema. |
| Voltaje de salida | 0 – 1200 V CC (ajustable) | Amplio rango de voltaje para diferentes materiales de destino |
| Corriente de salida | 0 – 100 A (Ajustable) | Alta corriente para pulverización catódica en grandes áreas |
| Ondulación de salida | ≤ 0,1% | Garantiza un plasma estable y un espesor de película uniforme |
| Modo de control | Voltaje / Corriente / Potencia | Opciones de control flexibles |
| Protección | Sobretensión, sobrecorriente, sobretemperatura, cortocircuito | Protección de seguridad integral |
| Método de enfriamiento | Refrigeración por aire/agua | Disipación de calor eficiente para uso a largo plazo |
| Interfaz | Analógico/RS-485/Ethernet (opcional) | Admite automatización y monitoreo remoto |
| Dimensions | Personalizado | Configuraciones compactas, de montaje en bastidor o independientes |
Rangos de potencia y configuraciones personalizados disponibles a pedido.
El control PWM avanzado garantiza una salida de CC estable con una ondulación mínima, manteniendo condiciones de plasma consistentes durante el recubrimiento.
Adopta tecnología de conmutación suave de alta frecuencia con una eficiencia de conversión de energía superior al 90% , lo que reduce la pérdida de energía y la generación de calor.
La protección incorporada contra sobretensión, sobrecorriente y sobrecalentamiento garantiza seguridad y confiabilidad en uso industrial 24 horas al día, 7 días a la semana.
Adecuado para pulverización catódica pulsada , con magnetrón CC y otros sistemas PVD. Compatible con una amplia gama de objetivos y recámaras.
Equipado con opciones de control digital y analógico, admite comunicación por computadora a través de RS-485 o Ethernet y permite el registro de datos de proceso y diagnóstico remoto.
La estructura compacta con diseño modular permite un fácil mantenimiento e integración en los sistemas de pulverización catódica existentes.
Esta fuente de CC de alta potencia es ideal para diversas aplicaciones de deposición de películas delgadas, que incluyen:
Fabricación de semiconductores : deposición de películas metálicas y dieléctricas.
Recubrimientos ópticos : películas delgadas de alta uniformidad para lentes y filtros
Fabricación MEMS : pulverización catódica de capas de oro, titanio o aluminio
Ingeniería de superficies : revestimientos contra el desgaste, la corrosión o la conductividad
Investigación científica : laboratorios de ciencia de materiales y nanotecnología.
Compatible con recubridores por pulverización catódica con magnetrón CoaterFilm y sistemas de vacío personalizados.
Opciones de montaje: bastidor estándar de 19' o gabinete personalizado
Entrada de energía: CA 380 V ±10 %, trifásica, 50/60 Hz
Interfaz de conexión: Plug-and-play con cátodos de pulverización estándar
Enfriamiento: Circulación forzada de aire o agua; asegurar una ventilación adecuada
Entorno: Temperatura de funcionamiento 0–40°C, humedad ≤80%
Siga el manual del usuario sobre conexión a tierra y blindaje para evitar interferencias de ruido eléctrico.
Asegúrese de que todas las conexiones estén correctamente conectadas a tierra antes de la operación.
Aumente gradualmente la potencia de salida para alcanzar el nivel de recubrimiento requerido.
Revise periódicamente los cables, ventiladores y líneas de refrigeración por agua.
Limpie el exterior de la unidad de potencia y asegúrese de que el flujo de aire esté libre de obstáculos.
En caso de falla o alarma, consulte la guía de solución de problemas o comuníquese con el soporte técnico.
Los modelos van desde 3 kW hasta 60 kW , dependiendo de los requisitos de su sistema de pulverización catódica.
Sí, los módulos opcionales permiten el funcionamiento con CC pulsada para aplicaciones avanzadas de película delgada.
La protección contra sobrecorriente, sobretensión, sobretemperatura y cortocircuitos son todas estándar.
Sí, CoaterFilm ofrece configuraciones personalizadas de voltaje, corriente y interfaz de comunicación .
La garantía estándar es de 12 meses , con soporte técnico de por vida disponible.
Más de 15 años de experiencia en sistemas de pulverización catódica y vacío.
Alta confiabilidad y rendimiento probado en instituciones de investigación globales.
Equipo técnico profesional para diseño personalizado y soporte en sitio.
Entrega rápida y servicio OEM/ODM flexible
Producción con certificación ISO y garantía de calidad.
CoaterFilm es su socio de confianza para equipos de precisión de película delgada y soluciones de energía.
Laboratorio de materiales de la Universidad XYZ : suministro de CC de 10 kW integrado con un recubridor por pulverización catódica de doble cátodo, tasa de deposición mejorada en un 25 %.
OptoTech Inc .: unidad de alta potencia de 40 kW utilizada en una línea de recubrimiento óptico, funcionamiento 24 horas al día, 7 días a la semana, sin fallas en 18 meses.
(Más casos de solicitud disponibles a pedido).
Garantía: 12 meses de cobertura estándar
Soporte técnico: asistencia por correo electrónico 24 horas al día, 7 días a la semana y diagnóstico remoto
Piezas de repuesto: componentes en stock para una sustitución rápida
Manuales y recursos: descargue hojas de datos detalladas y manuales de operación
CoaterFilm Vacuum Technology Co., Ltd.
Fabricante líder de equipos de recubrimiento al vacío y sistemas de pulverización catódica.
Serie de fuentes de alimentación con certificación ISO 9001 y aprobación CE.
La fuente de alimentación CC de alta potencia para el recubridor por pulverización catódica con magnetrón es una fuente de energía controlada con precisión diseñada para aplicaciones de pulverización catódica continua y pulsada. Proporciona resultados consistentes y fluidos para lograr la deposición de películas delgadas de alta calidad para semiconductores, MEMS y laboratorios de investigación.
Con alta eficiencia de conversión, ondulación ultrabaja y funciones de protección integrales, esta fuente de CC admite sistemas de pulverización catódica de uno o varios cátodos, lo que brinda una uniformidad de recubrimiento superior y una larga vida útil del objetivo.
| Parámetro | Especificación | Descripción |
|---|---|---|
| Potencia de salida | 3 kilovatios – 60 kilovatios | Niveles de potencia opcionales para cumplir con diversos requisitos del sistema. |
| Voltaje de salida | 0 – 1200 V CC (ajustable) | Amplio rango de voltaje para diferentes materiales de destino |
| Corriente de salida | 0 – 100 A (Ajustable) | Alta corriente para pulverización catódica en grandes áreas |
| Ondulación de salida | ≤ 0,1% | Garantiza un plasma estable y un espesor de película uniforme |
| Modo de control | Voltaje / Corriente / Potencia | Opciones de control flexibles |
| Protección | Sobretensión, sobrecorriente, sobretemperatura, cortocircuito | Protección de seguridad integral |
| Método de enfriamiento | Refrigeración por aire/agua | Disipación de calor eficiente para uso a largo plazo |
| Interfaz | Analógico/RS-485/Ethernet (opcional) | Admite automatización y monitoreo remoto |
| Dimensions | Personalizado | Configuraciones compactas, de montaje en bastidor o independientes |
Rangos de potencia y configuraciones personalizados disponibles a pedido.
El control PWM avanzado garantiza una salida de CC estable con una ondulación mínima, manteniendo condiciones de plasma consistentes durante el recubrimiento.
Adopta tecnología de conmutación suave de alta frecuencia con una eficiencia de conversión de energía superior al 90% , lo que reduce la pérdida de energía y la generación de calor.
La protección incorporada contra sobretensión, sobrecorriente y sobrecalentamiento garantiza seguridad y confiabilidad en uso industrial 24 horas al día, 7 días a la semana.
Adecuado para pulverización catódica pulsada , con magnetrón CC y otros sistemas PVD. Compatible con una amplia gama de objetivos y recámaras.
Equipado con opciones de control digital y analógico, admite comunicación por computadora a través de RS-485 o Ethernet y permite el registro de datos de proceso y diagnóstico remoto.
La estructura compacta con diseño modular permite un fácil mantenimiento e integración en los sistemas de pulverización catódica existentes.
Esta fuente de CC de alta potencia es ideal para diversas aplicaciones de deposición de películas delgadas, que incluyen:
Fabricación de semiconductores : deposición de películas metálicas y dieléctricas.
Recubrimientos ópticos : películas delgadas de alta uniformidad para lentes y filtros
Fabricación MEMS : pulverización catódica de capas de oro, titanio o aluminio
Ingeniería de superficies : revestimientos contra el desgaste, la corrosión o la conductividad
Investigación científica : laboratorios de ciencia de materiales y nanotecnología.
Compatible con recubridores por pulverización catódica con magnetrón CoaterFilm y sistemas de vacío personalizados.
Opciones de montaje: bastidor estándar de 19' o gabinete personalizado
Entrada de energía: CA 380 V ±10 %, trifásica, 50/60 Hz
Interfaz de conexión: Plug-and-play con cátodos de pulverización estándar
Enfriamiento: Circulación forzada de aire o agua; asegurar una ventilación adecuada
Entorno: Temperatura de funcionamiento 0–40°C, humedad ≤80%
Siga el manual del usuario sobre conexión a tierra y blindaje para evitar interferencias de ruido eléctrico.
Asegúrese de que todas las conexiones estén correctamente conectadas a tierra antes de la operación.
Aumente gradualmente la potencia de salida para alcanzar el nivel de recubrimiento requerido.
Revise periódicamente los cables, ventiladores y líneas de refrigeración por agua.
Limpie el exterior de la unidad de potencia y asegúrese de que el flujo de aire esté libre de obstáculos.
En caso de falla o alarma, consulte la guía de solución de problemas o comuníquese con el soporte técnico.
Los modelos van desde 3 kW hasta 60 kW , dependiendo de los requisitos de su sistema de pulverización catódica.
Sí, los módulos opcionales permiten el funcionamiento con CC pulsada para aplicaciones avanzadas de película delgada.
La protección contra sobrecorriente, sobretensión, sobretemperatura y cortocircuitos son todas estándar.
Sí, CoaterFilm ofrece configuraciones personalizadas de voltaje, corriente y interfaz de comunicación .
La garantía estándar es de 12 meses , con soporte técnico de por vida disponible.
Más de 15 años de experiencia en sistemas de pulverización catódica y vacío.
Alta confiabilidad y rendimiento probado en instituciones de investigación globales.
Equipo técnico profesional para diseño personalizado y soporte en sitio.
Entrega rápida y servicio OEM/ODM flexible
Producción con certificación ISO y garantía de calidad.
CoaterFilm es su socio de confianza para equipos de precisión de película delgada y soluciones de energía.
Laboratorio de materiales de la Universidad XYZ : suministro de CC de 10 kW integrado con un recubridor por pulverización catódica de doble cátodo, tasa de deposición mejorada en un 25 %.
OptoTech Inc .: unidad de alta potencia de 40 kW utilizada en una línea de recubrimiento óptico, funcionamiento 24 horas al día, 7 días a la semana, sin fallas en 18 meses.
(Más casos de solicitud disponibles a pedido).
Garantía: 12 meses de cobertura estándar
Soporte técnico: asistencia por correo electrónico 24 horas al día, 7 días a la semana y diagnóstico remoto
Piezas de repuesto: componentes en stock para una sustitución rápida
Manuales y recursos: descargue hojas de datos detalladas y manuales de operación
CoaterFilm Vacuum Technology Co., Ltd.
Fabricante líder de equipos de recubrimiento al vacío y sistemas de pulverización catódica.
Serie de fuentes de alimentación con certificación ISO 9001 y aprobación CE.
