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TN-EVV195-II-HH-SS
TN
Presentamos nuestro instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de última generación, diseñado para satisfacer las diversas necesidades de deposición de películas delgadas en diversas industrias. Este instrumento de vanguardia está equipado con tecnología avanzada para proporcionar recubrimientos de alta calidad para una amplia gama de aplicaciones.
Nuestro instrumento de recubrimiento por evaporación térmica es capaz de depositar una variedad de recubrimientos, incluidos recubrimientos ópticos, recubrimientos metálicos y dieléctricos, recubrimientos decorativos, recubrimientos de barrera y recubrimientos protectores. Ya sea que necesite una película delgada para fines ópticos o una capa protectora para aplicaciones industriales, nuestro instrumento puede ofrecer resultados excepcionales.
Una de las características clave de nuestro instrumento de recubrimiento por evaporación térmica es su capacidad de evaporación térmica de alto vacío. Esta tecnología permite un control preciso sobre el proceso de deposición, garantizando recubrimientos uniformes y consistentes en todo momento. Con este instrumento podrá conseguir con facilidad el espesor y la composición deseados del revestimiento.
Además de sus capacidades avanzadas, nuestro instrumento de recubrimiento por evaporación térmica está diseñado para ofrecer facilidad de uso y confiabilidad. Su interfaz fácil de usar y sus controles intuitivos hacen que su funcionamiento sea sencillo, mientras que su construcción robusta garantiza un rendimiento duradero.
Confíe en nuestro instrumento de recubrimiento por evaporación térmica para satisfacer sus necesidades de deposición de películas delgadas con precisión y eficiencia. Contáctenos hoy para obtener más información sobre cómo este instrumento puede beneficiar a su negocio.
Parámetros técnicos del instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío:
Nombre del producto | Térmica de doble fuente de alto vacío revestimiento de evaporación | |
Modelo de producto | TN-EVV195-II-HH-SS | |
Etapa de muestra | Posición | Ajuste superior |
Dimensions | Diámetro ø65mm | |
Velocidad | 0-20 rpm | |
Paso | Distancia ajustable entre portamuestras. y fuente de evaporación | |
Temperatura ajustable | ≦ 500 ℃ | |
Fuente de evaporación térmica | Cesta de alambre de tungsteno × 2, bote de tungsteno × 2 | |
Fuente de alimentación de evaporación | Cada fuente de evaporación está equipada con una fuente de alimentación independiente; Se pueden evaporar dos fuentes de evaporación al mismo tiempo. mismo tiempo | |
Cámara de vacío | Tamaño de la cavidad | diámetroφ195mm×H210mm |
Ventana de observación | diámetroφ100mm | |
Material de la cavidad | Acero inoxidable 304 | |
Método de apertura | tapa abierta | |
Medición del espesor de la película | Medición del espesor de la película de cristal Instrumento (el controlador de espesor de película también es opcional) | |
Sistema de vacío | bomba delantera | Bomba de paletas rotativa bipolar, bombeo de gas velocidad 1.1L/S |
bomba secundaria | Bomba turbomolecular, velocidad de bombeo de gas. 600L/S | |
Medición de vacío | Vacuómetro compuesto (medidor de ionización + medidor de resistencia) | |
Sistema de vacío | 5×10-4Pa | |
Sistema de control | CYKYSarrollo propio de nivel profesional controlador | |
Otros parámetros | Fuente de alimentación | CA 380 V, 50 Hz. |
Tamaño completo | 600 mm × 650 mm × 1500 mm | |
poder completo | 7kW | |
peso completo | 260 kilos | |
El recubridor por evaporación térmica de alto vacío es un equipo que se utiliza para depositar películas delgadas sobre sustratos mediante un proceso de evaporación térmica en un ambiente de alto vacío. Estos son los principales propósitos y aplicaciones de una recubridora por evaporación térmica de alto vacío:
Deposición de película delgada: El objetivo principal de un recubridor por evaporación térmica de alto vacío es depositar películas delgadas de diversos materiales, como metales, semiconductores y dieléctricos, sobre sustratos. El proceso implica calentar un material en alto vacío hasta que se evapora y luego se condensa sobre el sustrato, formando una película delgada.
Microelectrónica y fabricación de semiconductores.: La evaporación térmica se utiliza en la industria de los semiconductores para depositar contactos metálicos, capas de adhesión y otras películas conductoras sobre obleas semiconductoras. Es una técnica clave en la fabricación de dispositivos microelectrónicos como transistores, diodos y circuitos integrados.
Recubrimientos ópticos: El recubridor se usa ampliamente para aplicar recubrimientos ópticos, incluidos recubrimientos antirreflectantes, divisores de haz y espejos, sobre lentes, vidrio y otros componentes ópticos. El entorno de alto vacío garantiza que los recubrimientos sean uniformes, puros y tengan las propiedades ópticas deseadas.
Recubrimientos Metálicos y Dieléctricos: La evaporación térmica de alto vacío se utiliza para depositar películas metálicas (como oro, plata, aluminio) y películas dieléctricas (como dióxido de silicio, dióxido de titanio) para diversas aplicaciones, incluidos revestimientos reflectantes, condensadores y capas aislantes.
Recubrimientos decorativos: El recubridor también se utiliza con fines decorativos, donde se depositan finas películas metálicas sobre productos de consumo como relojes, joyas y carcasas de dispositivos electrónicos para darles un acabado metálico o atractivo estético.
Investigación y desarrollo: En los laboratorios de investigación, la evaporación térmica es un método común para preparar películas delgadas para la investigación en ciencia de materiales, física y nanotecnología. La capacidad de controlar el espesor y la uniformidad de la película la convierte en una herramienta valiosa para estudios experimentales y creación de prototipos.
Fabricación de dispositivos orgánicos e inorgánicos.: La evaporación térmica se utiliza en la fabricación de diodos emisores de luz orgánicos (OLED), transistores de película delgada (TFT) y otros dispositivos electrónicos orgánicos. La técnica también se emplea en la producción de dispositivos inorgánicos de película delgada, como células solares y sensores.
Aplicaciones de la nanotecnología: En nanotecnología, la evaporación térmica se utiliza para depositar películas delgadas para la fabricación de nanoestructuras y dispositivos a nanoescala. El entorno de alto vacío garantiza que la deposición sea limpia y precisa, lo cual es crucial para aplicaciones a nanoescala.
Recubrimientos de barrera y protectores: El recubridor se puede utilizar para aplicar revestimientos protectores y de barrera en diversos sustratos para mejorar su durabilidad, resistencia a la corrosión y otras propiedades de la superficie. Estos recubrimientos se utilizan en industrias que van desde el embalaje hasta la aeroespacial.
En general, un recubridor por evaporación térmica de alto vacío es una herramienta versátil que desempeña un papel crucial en diversas industrias y campos de investigación. Se valora por su capacidad para depositar películas delgadas uniformes y de alta pureza con un control preciso sobre el espesor, lo que lo hace esencial para aplicaciones en microelectrónica, óptica, ciencia de materiales y más.
Presentamos nuestro instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de última generación, diseñado para satisfacer las diversas necesidades de deposición de películas delgadas en diversas industrias. Este instrumento de vanguardia está equipado con tecnología avanzada para proporcionar recubrimientos de alta calidad para una amplia gama de aplicaciones.
Nuestro instrumento de recubrimiento por evaporación térmica es capaz de depositar una variedad de recubrimientos, incluidos recubrimientos ópticos, recubrimientos metálicos y dieléctricos, recubrimientos decorativos, recubrimientos de barrera y recubrimientos protectores. Ya sea que necesite una película delgada para fines ópticos o una capa protectora para aplicaciones industriales, nuestro instrumento puede ofrecer resultados excepcionales.
Una de las características clave de nuestro instrumento de recubrimiento por evaporación térmica es su capacidad de evaporación térmica de alto vacío. Esta tecnología permite un control preciso sobre el proceso de deposición, garantizando recubrimientos uniformes y consistentes en todo momento. Con este instrumento podrá conseguir con facilidad el espesor y la composición deseados del revestimiento.
Además de sus capacidades avanzadas, nuestro instrumento de recubrimiento por evaporación térmica está diseñado para ofrecer facilidad de uso y confiabilidad. Su interfaz fácil de usar y sus controles intuitivos hacen que su funcionamiento sea sencillo, mientras que su construcción robusta garantiza un rendimiento duradero.
Confíe en nuestro instrumento de recubrimiento por evaporación térmica para satisfacer sus necesidades de deposición de películas delgadas con precisión y eficiencia. Contáctenos hoy para obtener más información sobre cómo este instrumento puede beneficiar a su negocio.
Parámetros técnicos del instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío:
Nombre del producto | Térmica de doble fuente de alto vacío revestimiento de evaporación | |
Modelo de producto | TN-EVV195-II-HH-SS | |
Etapa de muestra | Posición | Ajuste superior |
Dimensions | Diámetro ø65mm | |
Velocidad | 0-20 rpm | |
Paso | Distancia ajustable entre portamuestras. y fuente de evaporación | |
Temperatura ajustable | ≦ 500 ℃ | |
Fuente de evaporación térmica | Cesta de alambre de tungsteno × 2, bote de tungsteno × 2 | |
Fuente de alimentación de evaporación | Cada fuente de evaporación está equipada con una fuente de alimentación independiente; Se pueden evaporar dos fuentes de evaporación al mismo tiempo. mismo tiempo | |
Cámara de vacío | Tamaño de la cavidad | diámetroφ195mm×H210mm |
Ventana de observación | diámetroφ100mm | |
Material de la cavidad | Acero inoxidable 304 | |
Método de apertura | tapa abierta | |
Medición del espesor de la película | Medición del espesor de la película de cristal Instrumento (el controlador de espesor de película también es opcional) | |
Sistema de vacío | bomba delantera | Bomba de paletas rotativa bipolar, bombeo de gas velocidad 1.1L/S |
bomba secundaria | Bomba turbomolecular, velocidad de bombeo de gas. 600L/S | |
Medición de vacío | Vacuómetro compuesto (medidor de ionización + medidor de resistencia) | |
Sistema de vacío | 5×10-4Pa | |
Sistema de control | CYKYSarrollo propio de nivel profesional controlador | |
Otros parámetros | Fuente de alimentación | CA 380 V, 50 Hz. |
Tamaño completo | 600 mm × 650 mm × 1500 mm | |
poder completo | 7kW | |
peso completo | 260 kilos | |
El recubridor por evaporación térmica de alto vacío es un equipo que se utiliza para depositar películas delgadas sobre sustratos mediante un proceso de evaporación térmica en un ambiente de alto vacío. Estos son los principales propósitos y aplicaciones de una recubridora por evaporación térmica de alto vacío:
Deposición de película delgada: El objetivo principal de un recubridor por evaporación térmica de alto vacío es depositar películas delgadas de diversos materiales, como metales, semiconductores y dieléctricos, sobre sustratos. El proceso implica calentar un material en alto vacío hasta que se evapora y luego se condensa sobre el sustrato, formando una película delgada.
Microelectrónica y fabricación de semiconductores.: La evaporación térmica se utiliza en la industria de los semiconductores para depositar contactos metálicos, capas de adhesión y otras películas conductoras sobre obleas semiconductoras. Es una técnica clave en la fabricación de dispositivos microelectrónicos como transistores, diodos y circuitos integrados.
Recubrimientos ópticos: El recubridor se usa ampliamente para aplicar recubrimientos ópticos, incluidos recubrimientos antirreflectantes, divisores de haz y espejos, sobre lentes, vidrio y otros componentes ópticos. El entorno de alto vacío garantiza que los recubrimientos sean uniformes, puros y tengan las propiedades ópticas deseadas.
Recubrimientos Metálicos y Dieléctricos: La evaporación térmica de alto vacío se utiliza para depositar películas metálicas (como oro, plata, aluminio) y películas dieléctricas (como dióxido de silicio, dióxido de titanio) para diversas aplicaciones, incluidos revestimientos reflectantes, condensadores y capas aislantes.
Recubrimientos decorativos: El recubridor también se utiliza con fines decorativos, donde se depositan finas películas metálicas sobre productos de consumo como relojes, joyas y carcasas de dispositivos electrónicos para darles un acabado metálico o atractivo estético.
Investigación y desarrollo: En los laboratorios de investigación, la evaporación térmica es un método común para preparar películas delgadas para la investigación en ciencia de materiales, física y nanotecnología. La capacidad de controlar el espesor y la uniformidad de la película la convierte en una herramienta valiosa para estudios experimentales y creación de prototipos.
Fabricación de dispositivos orgánicos e inorgánicos.: La evaporación térmica se utiliza en la fabricación de diodos emisores de luz orgánicos (OLED), transistores de película delgada (TFT) y otros dispositivos electrónicos orgánicos. La técnica también se emplea en la producción de dispositivos inorgánicos de película delgada, como células solares y sensores.
Aplicaciones de la nanotecnología: En nanotecnología, la evaporación térmica se utiliza para depositar películas delgadas para la fabricación de nanoestructuras y dispositivos a nanoescala. El entorno de alto vacío garantiza que la deposición sea limpia y precisa, lo cual es crucial para aplicaciones a nanoescala.
Recubrimientos de barrera y protectores: El recubridor se puede utilizar para aplicar revestimientos protectores y de barrera en diversos sustratos para mejorar su durabilidad, resistencia a la corrosión y otras propiedades de la superficie. Estos recubrimientos se utilizan en industrias que van desde el embalaje hasta la aeroespacial.
En general, un recubridor por evaporación térmica de alto vacío es una herramienta versátil que desempeña un papel crucial en diversas industrias y campos de investigación. Se valora por su capacidad para depositar películas delgadas uniformes y de alta pureza con un control preciso sobre el espesor, lo que lo hace esencial para aplicaciones en microelectrónica, óptica, ciencia de materiales y más.
