Recubrimiento por evaporación térmica pequeño para tipo guantera con cámara de cuarzo de pureza

Producto   Modelo

TN-EVP180G-1S-G（G   significa guantera）

Condición de instalación

1 、 trabajando   temperatura ambiente: 25 ℃ ± 15 ℃, humedad: 55% Rh ± 10% Rh;

2 、 Equipo   Fuente de alimentación: CA 220 V, 50 Hz,   debe estar bien fundamentado;

3 、 clasificado   potencia: 1200w;

4 、 Equipo   Para gas: la cámara del equipo debe llenarse con argón.   Gas para limpieza.El cliente debe preparar gas argón con una pureza ≥99,99%.

5 、 Mesa   Requisitos de tamaño: 580 mm × 250 mm × 330 mm, rodamiento   capacidad ≥ 30 kg；

6 、 El   La posición debe estar bien ventilada y fresca.

Indicadores Técnicos

1, fuente de evaporación   voltaje: 10V

2 、 la corriente de evaporación   es continuamente ajustable de 0 a 100A

3、 Con un barco de tungsteno, un   cesta de tungsteno;

4 、  acero inoxidable   mesa de muestras, diámetro de 60 mm;

5 、  La distancia   entre la plataforma de muestra y la fuente de evaporación es ajustable desde 20   a 55 mm;

6. La cavidad de vacío es un   cavidad de cuarzo con un diámetro de 180 mm y una altura de 100 mm;；

7、 La interfaz de bombeo de aire   de la cámara de vacío es KF16

8. La interfaz de entrada de aire es   Junta de doble virola de 1/4 de pulgada

9. La pantalla táctil es de 7 pulgadas.   pantalla táctil a color

10 、 pulverización ajustable   actual, chisporroteo   se pueden configurar el valor de corriente de seguridad y el valor de vacío de seguridad;

11 、  Medida de seguridad:   Sobrecorriente, el vacío es demasiado bajo y corta automáticamente la corriente de pulverización.

12 、 Vacío definitivo: 5E-4Pa (a juego   bomba molecular);

13. La medición del vacío es   Vacuómetro Paraná, el   el rango es 1~10⁵Pensilvania

Aviso

1. Para los materiales que   son sensibles al oxígeno, se recomienda agregar un grupo de bomba molecular.

2 、 Para lograr un   En un entorno con alto contenido de oxígeno, la cámara de vacío debe limpiarse al menos 3   veces con gas inerte de alta pureza.

Opcional   accesorio

Película

espesor   Monitor

1, espesor de la película   Resolución: 0,0136 Å (aluminio)

2 、 Precisión de la película   Espesor: ±0,5%, depende de las condiciones del proceso, especialmente del sensor.   Posición, tensión del material, temperatura y densidad.  

3. Velocidad de medición: 100 ms a 1 s por vez, rango de medición se puede configurar: 500000 Å (aluminio)

4 、 sensor estándar   cristal: 6MHz

5 、 adecuado para   Frecuencia de oblea: 6MHz

adecuado para tamaño de oblea: Φ14 mm

brida de montaje: CF35

Otro accesorio

1 、 barco de tungsteno, tungsteno   cesta;

2 、 evaporación orgánica   Fuente (incluyendo fuente de calentamiento de barco de cuarzo y alambre de tungsteno)

3 、 Serie TN-CZK103 alta   Conjunto de bomba molecular de alto rendimiento (incluido vacuómetro compuesto, medición   rango 10-5Pa~105Pa);

Conjunto de bomba molecular pequeña serie TN-GZK60 (incluido   vacuómetro compuesto, rango de medición 10-5Pa~102Pa)

Paleta rotativa bipolar VRD-4   bomba aspiradora

4、KF40   Fuelles de vacío;La longitud puede ser de 0,5 m, 1 mo 1,5 m.soporte de abrazadera KF40;

5 、 película   oscilador de cristal medidor de espesor;