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TN-EVP325S-2S
TN
El instrumento de revestimiento por evaporación de alto vacío con fuentes de evaporación múltiples y cuatro fuentes de calentamiento es un equipo de nivel profesional diseñado para la preparación precisa y eficiente de diversas películas.Este instrumento de alta calidad es ideal para aplicaciones que requieren la deposición de películas conductoras, películas semiconductoras, películas ferroeléctricas y películas ópticas.
Con sus fuentes de evaporación múltiple, este instrumento de recubrimiento ofrece una versatilidad y flexibilidad excepcionales en la deposición de películas.Permite la evaporación simultánea de múltiples materiales, lo que permite la creación de estructuras de película complejas con un control preciso sobre la composición y el espesor.Esta característica lo convierte en una opción ideal para investigación y desarrollo, así como para entornos de producción.
Al operar en condiciones de alto vacío, este recubridor por evaporación garantiza un proceso de deposición de película limpio y libre de contaminación.El entorno de vacío elimina la presencia de impurezas no deseadas, lo que da como resultado películas con excelente pureza y uniformidad.Esto es crucial para aplicaciones donde la calidad y el rendimiento de la película son de suma importancia.
Equipado con cuatro fuentes de calentamiento, este instrumento permite un calentamiento eficiente y uniforme de los materiales de evaporación.El control preciso de la temperatura garantiza tasas de evaporación y características de deposición óptimas, lo que da como resultado películas de alta calidad con las propiedades deseadas.Las fuentes de calor se pueden controlar individualmente, lo que permite la evaporación y deposición selectivas de diferentes materiales.
El instrumento de revestimiento por evaporación de alto vacío de fuentes de evaporación múltiples está diseñado con una mentalidad profesional, lo que garantiza resultados confiables y repetibles.Su construcción robusta y sus características avanzadas lo hacen adecuado para una amplia gama de aplicaciones, incluidas la microelectrónica, la óptica, la nanotecnología y la ciencia de materiales.
Invierta en este instrumento recubridor de última generación para mejorar sus capacidades de deposición de películas y lograr resultados superiores en sus procesos de investigación o producción.Con su rendimiento de nivel profesional y características excepcionales, es un activo valioso para cualquier laboratorio o instalación de fabricación que busque una preparación de películas precisa y eficiente.
Parámetros técnicos:
Muestra escenario | Tamaño | máx. soporte de muestra de φ150 mm | Altura | Adjustable arriba y abajo 70mm |
Evaporación fuente | Cantidad | Tungsteno Barco x2 | ||
Vacío cámara | Cámara tamaño | Día. 300 mm x 400 mm | Observación ventana | Frente φ100mm con hoja de sombreado |
Cámara material | 304 acero inoxidable | Apertura método | Frente puerta abierta | |
Película control de espesor | Cristal instrumento de medición de espesor de película vibratoria, película multicanal opcional controlador de espesor | |||
Vacío sistema | Apoyo bomba | Doble bomba de paletas rotativa de etapa | Bombeo puerto | KF16 |
Secundario bomba | Turbo bomba molecular | Bombeo puerto | CF160 | |
Vacío medición | Resistencia + ionización Compuesto indicador de vacio | Escape tasa | Mecánico bomba 1.1L/s Molecular bomba 600L/s | |
Último vacío | 1.0E-5Pa | Fuerza suministrar | CA 220 V 50/60 Hz | |
Bombeo tasa | Giratorio bomba de paletas: 1.1L/S | |||
Medidor de corriente | Uno Medidor de flujo másico de vía 500sccm gas Ar | |||
Control Sistema | SOCIEDAD ANÓNIMA Control automático Operación Interfaz: pantalla táctil + panel de operación | |||
Otro | Suministrar Voltaje | CA 380 V, 50 Hz. | Máquina tamaño | 1000 mm x 800 mm x 1500 mm |
Total fuerza | 5kW | Máquina peso | 350 kilos | |
El instrumento de revestimiento por evaporación de alto vacío con fuentes de evaporación múltiples y cuatro fuentes de calentamiento es un equipo de nivel profesional diseñado para la preparación precisa y eficiente de diversas películas.Este instrumento de alta calidad es ideal para aplicaciones que requieren la deposición de películas conductoras, películas semiconductoras, películas ferroeléctricas y películas ópticas.
Con sus fuentes de evaporación múltiple, este instrumento de recubrimiento ofrece una versatilidad y flexibilidad excepcionales en la deposición de películas.Permite la evaporación simultánea de múltiples materiales, lo que permite la creación de estructuras de película complejas con un control preciso sobre la composición y el espesor.Esta característica lo convierte en una opción ideal para investigación y desarrollo, así como para entornos de producción.
Al operar en condiciones de alto vacío, este recubridor por evaporación garantiza un proceso de deposición de película limpio y libre de contaminación.El entorno de vacío elimina la presencia de impurezas no deseadas, lo que da como resultado películas con excelente pureza y uniformidad.Esto es crucial para aplicaciones donde la calidad y el rendimiento de la película son de suma importancia.
Equipado con cuatro fuentes de calentamiento, este instrumento permite un calentamiento eficiente y uniforme de los materiales de evaporación.El control preciso de la temperatura garantiza tasas de evaporación y características de deposición óptimas, lo que da como resultado películas de alta calidad con las propiedades deseadas.Las fuentes de calor se pueden controlar individualmente, lo que permite la evaporación y deposición selectivas de diferentes materiales.
El instrumento de revestimiento por evaporación de alto vacío de fuentes de evaporación múltiples está diseñado con una mentalidad profesional, lo que garantiza resultados confiables y repetibles.Su construcción robusta y sus características avanzadas lo hacen adecuado para una amplia gama de aplicaciones, incluidas la microelectrónica, la óptica, la nanotecnología y la ciencia de materiales.
Invierta en este instrumento recubridor de última generación para mejorar sus capacidades de deposición de películas y lograr resultados superiores en sus procesos de investigación o producción.Con su rendimiento de nivel profesional y características excepcionales, es un activo valioso para cualquier laboratorio o instalación de fabricación que busque una preparación de películas precisa y eficiente.
Parámetros técnicos:
Muestra escenario | Tamaño | máx. soporte de muestra de φ150 mm | Altura | Adjustable arriba y abajo 70mm |
Evaporación fuente | Cantidad | Tungsteno Barco x2 | ||
Vacío cámara | Cámara tamaño | Día. 300 mm x 400 mm | Observación ventana | Frente φ100mm con hoja de sombreado |
Cámara material | 304 acero inoxidable | Apertura método | Frente puerta abierta | |
Película control de espesor | Cristal instrumento de medición de espesor de película vibratoria, película multicanal opcional controlador de espesor | |||
Vacío sistema | Apoyo bomba | Doble bomba de paletas rotativa de etapa | Bombeo puerto | KF16 |
Secundario bomba | Turbo bomba molecular | Bombeo puerto | CF160 | |
Vacío medición | Resistencia + ionización Compuesto indicador de vacio | Escape tasa | Mecánico bomba 1.1L/s Molecular bomba 600L/s | |
Último vacío | 1.0E-5Pa | Fuerza suministrar | CA 220 V 50/60 Hz | |
Bombeo tasa | Giratorio bomba de paletas: 1.1L/S | |||
Medidor de corriente | Uno Medidor de flujo másico de vía 500sccm gas Ar | |||
Control Sistema | SOCIEDAD ANÓNIMA Control automático Operación Interfaz: pantalla táctil + panel de operación | |||
Otro | Suministrar Voltaje | CA 380 V, 50 Hz. | Máquina tamaño | 1000 mm x 800 mm x 1500 mm |
Total fuerza | 5kW | Máquina peso | 350 kilos | |
