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TN-MS500S-2TA1S
TN
Magnetron Sputter y Evaporación térmica La máquina de recubrimiento de dos en uno se puede utilizar para el recubrimiento de productos electrónicos, vidrio, muestras de cerámica, metal y otras muestras, especialmente adecuadas para la preparación de la muestra de SEM de laboratorio (microscopio electrónico de barrido).
El equipo está compuesto principalmente de cámara de vacío de acero inoxidable, objetivo de pulverización de magnetrón, fuente de evaporación, tabla de muestra de calentamiento rotativo, unidad de bomba de vacío, medidor de medición de vacío, sistema de admisión de aire y sistema de control.
Parámetro técnico
Modelo | TN-MS500S-2TA1S | |||
Mesa de muestra | Tamaño | Calefacción | ≤500 ℃ | |
Velocidad de rotación | 1-20R/min | Control temporal | ± 1 ℃ | |
Cabezal de magnetrón | Cantidad | 2 pulgadas × 2 | Modo de enfriamiento | Agua enfriada |
Evaporación térmica | fuente del evaporador | Cesta de alambre de tungsteno | Temperatura máxima | 1500 ℃ |
Par termoeléctrico | Tipo S | |||
Cámara de vacío | Tamaño | 300 mmdia. × 300 mmh | Ventana de reloj | 100 mm de diámetro. |
Material | 304 SUS | Modo abierto | Puerta de apertura delantera | |
Sistema de vacío | Bomba mecánica | Bomba de paleta giratoria | Interfaz de extracción | KF16 |
Bombeo | 1.1l/s | |||
Bomba molecular | Bomba turbo | Interfaz de extracción | CF150 | |
Bombeo | 600L/s | Interfaz de escape | KF40 | |
Calibre | Calibre de resistencia + medidor de ionización | |||
Grado de vacío final | 1.3x10-4PA | Fuente de alimentación | AC; 220V 50/60Hz | |
Fuente de alimentación de DC | 1 set | Potencia de salida | ≤1000W | |
Voltaje de salida | ≤600W | Tiempo de respuesta | < 5ms | |
Fuente de alimentación de RF | 1 set | Potencia de salida | ≤1000W | |
Estabilidad de potencia | ≤5W | |||
Frecuencia de RF | 13.56MHz | Estabilidad de RF | ± 0.005% | |
Medidor de espesor de película | Resolución | ± 0.03Hz | Exactitud | ± 0.5% |
Límite de rango superior | 50000 | Velocidad | 100 ~ 1000 ms | |
Sistema de agua enfriada | Volumen de tanque | 9L | Fluir | 10l/min |
Sistema de gas | Tipo de medidor de flujo | MFC (medidor de flujo de masa) | Rango | 200sccm |
Tipo de gas | Arkansas | |||
Otro | Suministro de entrada | AC220V, 50Hz | Tamaño | 1400x750x1300 mm |
Potencia total | 4KW (Host+bomba de vacío) | Peso | 295 kg |
Nueva tabla de muestra está disponible
Muestra | Tamaño | Para Dia.150 mm de muestra máx. | Altura | 70 mm ajustable |
Velocidad de rotación | 1 ~ 20 rpm | Calefacción | 0 ~ 500 ℃ |
Magnetron Sputter y Evaporación térmica La máquina de recubrimiento de dos en uno se puede utilizar para el recubrimiento de productos electrónicos, vidrio, muestras de cerámica, metal y otras muestras, especialmente adecuadas para la preparación de la muestra de SEM de laboratorio (microscopio electrónico de barrido).
El equipo está compuesto principalmente de cámara de vacío de acero inoxidable, objetivo de pulverización de magnetrón, fuente de evaporación, tabla de muestra de calentamiento rotativo, unidad de bomba de vacío, medidor de medición de vacío, sistema de admisión de aire y sistema de control.
Parámetro técnico
Modelo | TN-MS500S-2TA1S | |||
Mesa de muestra | Tamaño | Calefacción | ≤500 ℃ | |
Velocidad de rotación | 1-20R/min | Control temporal | ± 1 ℃ | |
Cabezal de magnetrón | Cantidad | 2 pulgadas × 2 | Modo de enfriamiento | Agua enfriada |
Evaporación térmica | fuente del evaporador | Cesta de alambre de tungsteno | Temperatura máxima | 1500 ℃ |
Par termoeléctrico | Tipo S | |||
Cámara de vacío | Tamaño | 300 mmdia. × 300 mmh | Ventana de reloj | 100 mm de diámetro. |
Material | 304 SUS | Modo abierto | Puerta de apertura delantera | |
Sistema de vacío | Bomba mecánica | Bomba de paleta giratoria | Interfaz de extracción | KF16 |
Bombeo | 1.1l/s | |||
Bomba molecular | Bomba turbo | Interfaz de extracción | CF150 | |
Bombeo | 600L/s | Interfaz de escape | KF40 | |
Calibre | Calibre de resistencia + medidor de ionización | |||
Grado de vacío final | 1.3x10-4PA | Fuente de alimentación | AC; 220V 50/60Hz | |
Fuente de alimentación de DC | 1 set | Potencia de salida | ≤1000W | |
Voltaje de salida | ≤600W | Tiempo de respuesta | < 5ms | |
Fuente de alimentación de RF | 1 set | Potencia de salida | ≤1000W | |
Estabilidad de potencia | ≤5W | |||
Frecuencia de RF | 13.56MHz | Estabilidad de RF | ± 0.005% | |
Medidor de espesor de película | Resolución | ± 0.03Hz | Exactitud | ± 0.5% |
Límite de rango superior | 50000 | Velocidad | 100 ~ 1000 ms | |
Sistema de agua enfriada | Volumen de tanque | 9L | Fluir | 10l/min |
Sistema de gas | Tipo de medidor de flujo | MFC (medidor de flujo de masa) | Rango | 200sccm |
Tipo de gas | Arkansas | |||
Otro | Suministro de entrada | AC220V, 50Hz | Tamaño | 1400x750x1300 mm |
Potencia total | 4KW (Host+bomba de vacío) | Peso | 295 kg |
Nueva tabla de muestra está disponible
Muestra | Tamaño | Para Dia.150 mm de muestra máx. | Altura | 70 mm ajustable |
Velocidad de rotación | 1 ~ 20 rpm | Calefacción | 0 ~ 500 ℃ |
La máquina de recubrimiento compuesto de evaporación y magnetrón de doble objetivo es una solución de vanguardia diseñada para aplicaciones de recubrimiento avanzadas. Una de sus características destacadas es la operación intuitiva de la pantalla táctil, complementado por un medidor de control de temperatura para una detección precisa. Esta interfaz de parámetros digitales y el modo de operación automática proporcionan a los usuarios una plataforma excepcional para la investigación y el desarrollo, simplificando el proceso de materiales de recubrimiento y mejorando la productividad.
Construido con una cámara de vacío hecha de acero inoxidable 304, esta máquina cuenta con un diseño estéticamente agradable junto con una artesanía fina. La cámara incluye una ventana de observación y un deflector, lo que permite a los usuarios monitorear el proceso de recubrimiento de manera efectiva. La brida de sellado principal es una brida de sellado de alta aspiración de la serie CF, asegurando un rendimiento de vacío superior. Cada interfaz de la cámara de vacío está sellada con un anillo de sello de goma duradero, lo que contribuye significativamente a mantener la integridad del vacío y, en consecuencia, la calidad de los recubrimientos producidos.
En términos de funcionalidad, la máquina presenta una disposición de objetivo única donde el objetivo se coloca en la parte inferior de la cavidad, mirando hacia arriba. Este diseño se combina con una tabla de muestra que puede calentar y girar, facilitando un efecto de recubrimiento más uniforme en diferentes sustratos. Esta capacidad es esencial para lograr resultados consistentes, especialmente en procesos de recubrimiento complejos.
El sistema de adquisición de vacío es otro punto destacado, que utiliza un grupo de bombas de vacío de dos etapas. La bomba de respaldo es una bomba mecánica de alta velocidad que reduce eficientemente el tiempo requerido para pasar de la presión atmosférica al vacío bajo. La bomba principal, una bomba molecular de la turbina, mejora este proceso con su alta velocidad de bombeo, asegurando una rápida adquisición de vacío. Juntos, estos componentes crean un entorno de vacío limpio y eficiente, que es crítico para lograr recubrimientos de alta calidad en diversas aplicaciones. En general, esta máquina representa un avance significativo en la tecnología de recubrimiento, que combina funciones fáciles de usar con un rendimiento robusto.
La máquina de recubrimiento compuesto de evaporación y magnetrón de doble objetivo es una solución de vanguardia diseñada para aplicaciones de recubrimiento avanzadas. Una de sus características destacadas es la operación intuitiva de la pantalla táctil, complementado por un medidor de control de temperatura para una detección precisa. Esta interfaz de parámetros digitales y el modo de operación automática proporcionan a los usuarios una plataforma excepcional para la investigación y el desarrollo, simplificando el proceso de materiales de recubrimiento y mejorando la productividad.
Construido con una cámara de vacío hecha de acero inoxidable 304, esta máquina cuenta con un diseño estéticamente agradable junto con una artesanía fina. La cámara incluye una ventana de observación y un deflector, lo que permite a los usuarios monitorear el proceso de recubrimiento de manera efectiva. La brida de sellado principal es una brida de sellado de alta aspiración de la serie CF, asegurando un rendimiento de vacío superior. Cada interfaz de la cámara de vacío está sellada con un anillo de sello de goma duradero, lo que contribuye significativamente a mantener la integridad del vacío y, en consecuencia, la calidad de los recubrimientos producidos.
En términos de funcionalidad, la máquina presenta una disposición de objetivo única donde el objetivo se coloca en la parte inferior de la cavidad, mirando hacia arriba. Este diseño se combina con una tabla de muestra que puede calentar y girar, facilitando un efecto de recubrimiento más uniforme en diferentes sustratos. Esta capacidad es esencial para lograr resultados consistentes, especialmente en procesos de recubrimiento complejos.
El sistema de adquisición de vacío es otro punto destacado, que utiliza un grupo de bombas de vacío de dos etapas. La bomba de respaldo es una bomba mecánica de alta velocidad que reduce eficientemente el tiempo requerido para pasar de la presión atmosférica al vacío bajo. La bomba principal, una bomba molecular de la turbina, mejora este proceso con su alta velocidad de bombeo, asegurando una rápida adquisición de vacío. Juntos, estos componentes crean un entorno de vacío limpio y eficiente, que es crítico para lograr recubrimientos de alta calidad en diversas aplicaciones. En general, esta máquina representa un avance significativo en la tecnología de recubrimiento, que combina funciones fáciles de usar con un rendimiento robusto.