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Recubridor de pulverización por magnetrón de doble objetivo de escritorio con sistema de bomba molecular para recubrir oblea de vidrio

El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo de escritorio se puede utilizar para preparar películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones y similares.En comparación con equipos similares, el recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo no solo se usa ampliamente, sino que también tiene las ventajas de un tamaño pequeño y fácil operación, y es un equipo ideal para preparar películas de materiales en un laboratorio.
Estado de Disponibilidad:
Cantidad:
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  • TN-MSP210S-DC-D

  • TN

Este equipo es un recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo, que se puede utilizar en la preparación de películas metálicas, en los campos de la electrónica, óptica, cerámicas especiales, etc. También se puede utilizar para preparar muestras SEM en laboratorio.

Adopta una cámara de acero inoxidable de alto vacío, un diseño de apertura de puerta frontal y una ventana de observación de cuarzo en la puerta, lo cual es conveniente para la observación y grabación del experimento.Al mismo tiempo, el equipo está equipado con una mesa de muestra de calentamiento rotativa, que puede mejorar efectivamente la uniformidad y la calidad de la película.Se instala un juego de placas deflectoras en la cubierta superior y los dos objetivos se pueden cambiar girando la placa deflectora para realizar un recubrimiento multicapa.

Este equipo debe usarse junto con un grupo de bombas moleculares de alto vacío.Los usuarios pueden elegir una bomba molecular pequeña de marca importada para ahorrar aún más el área de instalación.

Al mismo tiempo, el modelo puede equiparse con componentes medidores de espesor de película, que pueden monitorear el espesor de la película en tiempo real y proporcionar parámetros confiables para el proceso experimental.


Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo Parámetro técnico:


Etapa de muestra

Tamaño

100mm

Calefacción

≤500 ℃

Velocidad de rotación

1-20 rpm

Control de temperatura

±1℃

Cabezal de pulverización magnetrón

Cantidad

2'x2

Modo de enfriamiento

Enfriado hidráulicamente

Cámara de vacío

Tamaño

Diámetro 210 mm × 260 mm

ventana de observación

ø40mm

Material

SUS

modo abierto

Apertura frontal

Fuente de alimentación por pulverización

Fuente de alimentación DC

1 juego

Potencia de salida

≤300W

Tensión de salida

≤600V

tiempo de respuesta

<5 ms

Refrigeración por agua

Capacidad del tanque

9L

Fluir

10 l/min

Medidor de espesor de película

Exactitud

0,1 angstrom

Modo de enfriamiento

Refrigeración por agua

Otro

Fuente de alimentación

CA 220 V, 50 Hz.

Poder total

4kW

Sistema de bomba molecular

Bomba de respaldo

Bomba rotativa de paletas

Bombeo

1,1 l/s

bomba secundaria

bomba turbo molecular (doméstica)

Bombeo

600L/s

Interfaz de extracción

KF40

Salida de aire

KF16


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