| Cantidad: | |
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TN-MSP180G-DC
TN
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de cabezal único de escritorio para película de óxido de indio y estaño ITO.Esta recubridora de última generación está diseñada con un tono profesional y es perfecta para diversas aplicaciones.
Nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de cabezal único de escritorio cuenta con una cámara robusta de acero inoxidable que garantiza durabilidad y longevidad.Esto permite la preparación de películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones de una o varias capas.
Con su tecnología avanzada, este recubridor ofrece una pulverización catódica precisa y uniforme, lo que da como resultado películas de óxido de indio y estaño ITO de alta calidad.Ya sea que necesite mejorar la conductividad de sus materiales o mejorar sus propiedades ópticas, nuestra recubridora es la solución ideal.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de cabezal único de escritorio ofrece fácil operación y control, lo que lo hace adecuado tanto para entornos de investigación como de producción.Su tamaño compacto permite colocarlo en un escritorio, lo que ahorra un valioso espacio en su laboratorio o instalación.
Invierta en nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de cabezal único de escritorio para una deposición de película eficiente y confiable.Experimente los beneficios de su rendimiento de nivel profesional y obtenga resultados excepcionales en sus aplicaciones de película delgada.
Parámetros técnicos:
Etapa de muestra | Tamaño | ø100mm |
Calefacción | Máx.500℃ | |
Velocidad de rotación | 0-20 rpm ajustable | |
magnetrón cabeza chisporroteante | Cantidad | 2' x1 |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 215 mm |
Observación ventana | Omnidireccional transparente | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Superior cubierta removible | |
Vacío sistema | Mecánico bomba | Giratorio bomba de paletas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Molecular bomba | turbomolecular bomba | |
Bombeo puerto | KF40 | |
Escape interfaz | KF40 | |
Vacío medición | Resistencia manómetro + manómetro de ionización | |
Último vacío | 1.0E-4Pa | |
Fuerza suministrar | C.A. 220V 50/60Hz | |
Bombeo tasa | Mecánico bomba 1.1L/s Bomba molecular 600L/s | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentación x1 |
Máx. potencia de salida | corriente continua fuente de alimentación 150W | |
Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50Hz | |
Otros | Total fuerza | 2kW |
En general tamaño | 550 mm x 350 mm x 400 mm |
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de cabezal único de escritorio para película de óxido de indio y estaño ITO.Esta recubridora de última generación está diseñada con un tono profesional y es perfecta para diversas aplicaciones.
Nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de cabezal único de escritorio cuenta con una cámara robusta de acero inoxidable que garantiza durabilidad y longevidad.Esto permite la preparación de películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones de una o varias capas.
Con su tecnología avanzada, este recubridor ofrece una pulverización catódica precisa y uniforme, lo que da como resultado películas de óxido de indio y estaño ITO de alta calidad.Ya sea que necesite mejorar la conductividad de sus materiales o mejorar sus propiedades ópticas, nuestra recubridora es la solución ideal.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de cabezal único de escritorio ofrece fácil operación y control, lo que lo hace adecuado tanto para entornos de investigación como de producción.Su tamaño compacto permite colocarlo en un escritorio, lo que ahorra un valioso espacio en su laboratorio o instalación.
Invierta en nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de cabezal único de escritorio para una deposición de película eficiente y confiable.Experimente los beneficios de su rendimiento de nivel profesional y obtenga resultados excepcionales en sus aplicaciones de película delgada.
Parámetros técnicos:
Etapa de muestra | Tamaño | ø100mm |
Calefacción | Máx.500℃ | |
Velocidad de rotación | 0-20 rpm ajustable | |
magnetrón cabeza chisporroteante | Cantidad | 2' x1 |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 215 mm |
Observación ventana | Omnidireccional transparente | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Superior cubierta removible | |
Vacío sistema | Mecánico bomba | Giratorio bomba de paletas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Molecular bomba | turbomolecular bomba | |
Bombeo puerto | KF40 | |
Escape interfaz | KF40 | |
Vacío medición | Resistencia manómetro + manómetro de ionización | |
Último vacío | 1.0E-4Pa | |
Fuerza suministrar | C.A. 220V 50/60Hz | |
Bombeo tasa | Mecánico bomba 1.1L/s Bomba molecular 600L/s | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentación x1 |
Máx. potencia de salida | corriente continua fuente de alimentación 150W | |
Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50Hz | |
Otros | Total fuerza | 2kW |
En general tamaño | 550 mm x 350 mm x 400 mm |
