| Cantidad: | |
|---|---|
TN--MSP300S-3DC
TN
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos está equipado con tres objetivos, lo que permite la deposición simultánea de diferentes materiales, lo que lo hace altamente versátil y eficiente.El recubridor funciona según el principio de pulverización catódica con magnetrón CC, lo que garantiza una deposición de película uniforme y de alta calidad.
Con su tecnología avanzada y su sistema de control preciso, este recubridor por pulverización catódica con magnetrón ofrece un control excepcional del espesor de la película, desde unos pocos nanómetros hasta micrómetros.Sus parámetros ajustables permiten personalizar las propiedades de la película, como la densidad, la composición y la fuerza de adhesión.
El diseño compacto y la interfaz fácil de usar de la recubridora facilitan su operación y mantenimiento.Está equipado con funciones de seguridad, incluida protección contra sobrecorriente y sobretensión, lo que garantiza un entorno de trabajo seguro.
Ya sea que trabaje en investigación y desarrollo, en el mundo académico o en la producción industrial, este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es una herramienta indispensable para la preparación de películas metálicas de alta calidad.Su versatilidad, eficiencia y control preciso lo hacen adecuado para una amplia gama de aplicaciones, incluidas electrónica, óptica, almacenamiento de energía y más.
Invierta en esta recubridora de calidad profesional y descubra infinitas posibilidades en la deposición de películas finas.Experimente un rendimiento, confiabilidad y productividad superiores con nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos.
Etapa de muestra | Tamaño | Diámetro 140 mm |
Temperatura de calentamiento | Máximo 500 ℃ | |
Precisión de temperatura | ±1℃ | |
Velocidad rotacional | 1-20 rpm ajustable | |
Cabezal de pulverización magnetrón | Cantidad | 2'×3 (1',2' opcional) |
Modo de enfriamiento | Refrigeración por agua | |
Enfriador de agua | Enfriador de agua circulante con caudal de 10 l/min. | |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Diámetro 300 mm × 300 mm |
Material de la cámara | Acero inoxidable | |
ventana de observación | Diámetro 100 mm | |
Modo de apertura | Tapa superior abierta | |
Medidor de flujo de masa | 2 canales;rango de medición 100SCCM;100SCCM (puede personalizarse según las necesidades del cliente) | |
Sistema de vacío | Modelo | TN-GZK103-A |
bomba molecular | TN-600 | |
Bomba de respaldo | Bomba rotativa de paletas | |
Vacío definitivo | 1.0E-5Pa | |
Interfaz de bombeo | CF160 | |
Interfaz de escape | KF40 | |
Medición de vacío | Vacuómetro compuesto | |
Fuente de alimentación | CA; 220V 50/60Hz | |
Tasa de bombeo | Bomba molecular: Bomba de paletas rotativa 600L/S: 1.1L/S Rendimiento integral de bombeo de gas: vacío hasta 1,0E-3Pa en 20 minutos | |
Configuración de energía | Cantidad | Fuente de alimentación CC x2 Fuente de alimentación RF x1 |
Potencia máxima de salida | CC 500 W, RF 500 W | |
Otros parámetros | Tensión de alimentación | CA 220 V, 50 Hz. |
Poder total | 4kW | |
Tamaño global | 600 mm × 650 mm × 1280 mm | |
Peso total | Alrededor de 300 kg | |
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos está equipado con tres objetivos, lo que permite la deposición simultánea de diferentes materiales, lo que lo hace altamente versátil y eficiente.El recubridor funciona según el principio de pulverización catódica con magnetrón CC, lo que garantiza una deposición de película uniforme y de alta calidad.
Con su tecnología avanzada y su sistema de control preciso, este recubridor por pulverización catódica con magnetrón ofrece un control excepcional del espesor de la película, desde unos pocos nanómetros hasta micrómetros.Sus parámetros ajustables permiten personalizar las propiedades de la película, como la densidad, la composición y la fuerza de adhesión.
El diseño compacto y la interfaz fácil de usar de la recubridora facilitan su operación y mantenimiento.Está equipado con funciones de seguridad, incluida protección contra sobrecorriente y sobretensión, lo que garantiza un entorno de trabajo seguro.
Ya sea que trabaje en investigación y desarrollo, en el mundo académico o en la producción industrial, este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es una herramienta indispensable para la preparación de películas metálicas de alta calidad.Su versatilidad, eficiencia y control preciso lo hacen adecuado para una amplia gama de aplicaciones, incluidas electrónica, óptica, almacenamiento de energía y más.
Invierta en esta recubridora de calidad profesional y descubra infinitas posibilidades en la deposición de películas finas.Experimente un rendimiento, confiabilidad y productividad superiores con nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos.
Etapa de muestra | Tamaño | Diámetro 140 mm |
Temperatura de calentamiento | Máximo 500 ℃ | |
Precisión de temperatura | ±1℃ | |
Velocidad rotacional | 1-20 rpm ajustable | |
Cabezal de pulverización magnetrón | Cantidad | 2'×3 (1',2' opcional) |
Modo de enfriamiento | Refrigeración por agua | |
Enfriador de agua | Enfriador de agua circulante con caudal de 10 l/min. | |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Diámetro 300 mm × 300 mm |
Material de la cámara | Acero inoxidable | |
ventana de observación | Diámetro 100 mm | |
Modo de apertura | Tapa superior abierta | |
Medidor de flujo de masa | 2 canales;rango de medición 100SCCM;100SCCM (puede personalizarse según las necesidades del cliente) | |
Sistema de vacío | Modelo | TN-GZK103-A |
bomba molecular | TN-600 | |
Bomba de respaldo | Bomba rotativa de paletas | |
Vacío definitivo | 1.0E-5Pa | |
Interfaz de bombeo | CF160 | |
Interfaz de escape | KF40 | |
Medición de vacío | Vacuómetro compuesto | |
Fuente de alimentación | CA; 220V 50/60Hz | |
Tasa de bombeo | Bomba molecular: Bomba de paletas rotativa 600L/S: 1.1L/S Rendimiento integral de bombeo de gas: vacío hasta 1,0E-3Pa en 20 minutos | |
Configuración de energía | Cantidad | Fuente de alimentación CC x2 Fuente de alimentación RF x1 |
Potencia máxima de salida | CC 500 W, RF 500 W | |
Otros parámetros | Tensión de alimentación | CA 220 V, 50 Hz. |
Poder total | 4kW | |
Tamaño global | 600 mm × 650 mm × 1280 mm | |
Peso total | Alrededor de 300 kg | |
