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Presentamos nuestro Magnetron Sputter Target, una solución de vanguardia para sus necesidades de pulverización catódica.Esta tecnología avanzada ofrece pulverización catódica con magnetrón circular, lo que permite una gama versátil de objetivos de pulverización catódica.Ya sea que necesite materiales metálicos, aislantes o magnéticos/no magnéticos, nuestro objetivo de pulverización magnetrón está diseñado para adaptarse a todos ellos.
Con su precisión y eficiencia excepcionales, este producto garantiza un proceso de deposición uniforme y sin interrupciones.El diseño circular mejora la uniformidad de la pulverización, lo que da como resultado películas delgadas confiables y de alta calidad.Ya sea que trabaje en la industria de semiconductores, óptica o electrónica, nuestro objetivo de pulverización catódica con magnetrón es la opción ideal para sus aplicaciones de recubrimiento de película delgada.
Elaborado con la máxima precisión y utilizando materiales de última generación, nuestro Magnetron Sputter Target garantiza un rendimiento y una longevidad excepcionales.Está diseñado para soportar condiciones exigentes y ofrecer resultados consistentes, lo que lo convierte en una inversión confiable para su negocio.
Experimente la comodidad y versatilidad de nuestro objetivo de pulverización catódica con magnetrón, ya que se adapta sin esfuerzo a una amplia gama de objetivos de pulverización catódica.Desde materiales metálicos hasta aislantes, e incluso magnéticos o no magnéticos, este producto ofrece una flexibilidad sin precedentes, garantizando que sus requisitos específicos se cumplan con la máxima precisión.
Elija nuestro objetivo de pulverización catódica con magnetrón y lleve sus procesos de pulverización catódica a nuevas alturas.Con su rendimiento de nivel profesional y su durabilidad excepcional, este producto es un testimonio de nuestro compromiso de brindar soluciones de primer nivel para sus necesidades de recubrimiento de película delgada.Confíe en nuestra experiencia e invierta en el futuro de su negocio con nuestro Magnetron Sputter Target.
Parámetro del producto:
Código | Tipo | Tamaño objetivo(pulgada) | Estructura de refrigeración por agua | Modo de descarga | potencia de radiofrecuencia(W) | Ajuste de caja a juego | Deflector | Oscilación de ángulo |
CV-MST-01 | Objetivo no magnético | 1 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
CV-MST-01M | Objetivo magnético fuerte | 1 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
CV-MST-02 | Objetivo no magnético | 2 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
CV-MST-02M | Objetivo magnético fuerte | 2 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
CV-MST-03 | Objetivo no magnético | 3 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
CV-MST-03M | Objetivo magnético fuerte | 3 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
Presentamos nuestro Magnetron Sputter Target, una solución de vanguardia para sus necesidades de pulverización catódica.Esta tecnología avanzada ofrece pulverización catódica con magnetrón circular, lo que permite una gama versátil de objetivos de pulverización catódica.Ya sea que necesite materiales metálicos, aislantes o magnéticos/no magnéticos, nuestro objetivo de pulverización magnetrón está diseñado para adaptarse a todos ellos.
Con su precisión y eficiencia excepcionales, este producto garantiza un proceso de deposición uniforme y sin interrupciones.El diseño circular mejora la uniformidad de la pulverización, lo que da como resultado películas delgadas confiables y de alta calidad.Ya sea que trabaje en la industria de semiconductores, óptica o electrónica, nuestro objetivo de pulverización catódica con magnetrón es la opción ideal para sus aplicaciones de recubrimiento de película delgada.
Elaborado con la máxima precisión y utilizando materiales de última generación, nuestro Magnetron Sputter Target garantiza un rendimiento y una longevidad excepcionales.Está diseñado para soportar condiciones exigentes y ofrecer resultados consistentes, lo que lo convierte en una inversión confiable para su negocio.
Experimente la comodidad y versatilidad de nuestro objetivo de pulverización catódica con magnetrón, ya que se adapta sin esfuerzo a una amplia gama de objetivos de pulverización catódica.Desde materiales metálicos hasta aislantes, e incluso magnéticos o no magnéticos, este producto ofrece una flexibilidad sin precedentes, garantizando que sus requisitos específicos se cumplan con la máxima precisión.
Elija nuestro objetivo de pulverización catódica con magnetrón y lleve sus procesos de pulverización catódica a nuevas alturas.Con su rendimiento de nivel profesional y su durabilidad excepcional, este producto es un testimonio de nuestro compromiso de brindar soluciones de primer nivel para sus necesidades de recubrimiento de película delgada.Confíe en nuestra experiencia e invierta en el futuro de su negocio con nuestro Magnetron Sputter Target.
Parámetro del producto:
Código | Tipo | Tamaño objetivo(pulgada) | Estructura de refrigeración por agua | Modo de descarga | potencia de radiofrecuencia(W) | Ajuste de caja a juego | Deflector | Oscilación de ángulo |
CV-MST-01 | Objetivo no magnético | 1 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
CV-MST-01M | Objetivo magnético fuerte | 1 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
CV-MST-02 | Objetivo no magnético | 2 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
CV-MST-02M | Objetivo magnético fuerte | 2 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
CV-MST-03 | Objetivo no magnético | 3 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |
CV-MST-03M | Objetivo magnético fuerte | 3 | Sí | radiofrecuencia y corriente continua | 500 | Manual y automático | Tener | Sí |