Usted está aquí: Hogar / Productos / Componentes de vacío / Objetivo de magnetrón / Objetivo del PLD

Objetivo del PLD

Cantidad:
Estado de Disponibilidad:





Preguntar Añadir al carrito

Marca del producto:
TN

Descripción del Producto

Objetivo del PLD

Parámetro del producto:

Objeto de conducción	Longitud del viaje	Tipo
Z	0~100 mm	Manual o controlado por motor
Revolución	Infinito	Manual o controlado por motor
Rotación	Infinito, ajustable velocidad	Automático
Tamaño objetivo	Φ20-60mm
Número objetivo	1~6个
Temperatura de calentamiento	>900 ℃, temperatura diferencia < 1 ℃
Brida	ICF152（CF100）

PLD Target

PRODUCTOS RELACIONADOS

Mesa calefactora para recubrimiento por pulverización catódica

Etapa de muestra de 5 ejes PLD

Etapa de muestra PLD de 4 ejes

Objetivo de pulverización catódica con magnetrón para recubridor por pulverización catódica

1 fuente de pulverización de magnetrón con cabezal flexible para recubridor de pulverización de RF y CC DIY para recubridor de pulverización de magnetrón

1 fuente de pulverización de magnetrón con conector rápido de alto vacío para recubridor de pulverización de magnetrón

2 Fuente de pulverización catódica de magnetrón de alto vacío con cabezal flexible y conector rápido

Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.

Que es un fabricante especializado en la producción de instrumentos científicos de laboratorio.Nuestros productos se utilizan ampliamente en universidades, instituciones de investigación y laboratorios.

ENLACES RÁPIDOS

CATEGORÍA DE PRODUCTOS

CONTÁCTENOS

+86-371-5536-5392

+86-185-3800-8121

info@zztainuo.com

Habitación 401, 4.º piso, edificio 5, ciudad nueva tecnológica de Zhengzhou Yida, calle Jinzhan, zona de alta tecnología, ciudad de Zhengzhou