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Instrumento de revestimiento por evaporación térmica de alto vacío con etapa de muestra de nivel para hacer contactos metálicos con diodos semiconductores

El instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío se puede utilizar para preparar diversas películas conductoras, películas semiconductoras, películas ferroeléctricas, películas ópticas, microprocesamiento de micronanodispositivos, pretratamiento de muestras de microscopio electrónico, etc.
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Este equipo es un pequeño recubridor por evaporación de escritorio, que se instala con una fuente de evaporación de canasta de tungsteno, puede proporcionar una corriente de recubrimiento máxima de 100 A, una temperatura de evaporación máxima de hasta 1800 ℃ y puede satisfacer la evaporación de una variedad de metales y piezas comunes. de no metal.La cámara de vacío está fabricada en acero inoxidable y ha sido desgasificada antes de la entrega.Puede alcanzar el vacío límite de 5x10-5Pa con el grupo de bombas moleculares, que puede cumplir con el ambiente de vacío requerido por la evaporación de la mayoría de los materiales;Al mismo tiempo, el equipo adopta el diseño de tanque alto y plataforma de muestra de elevación eléctrica, puede cumplir con la evaporación.  requerimiento de diferentes muestras y materiales cinematográficos;El mecanismo de elevación adopta fuelles de soldadura para sellar, lo que puede realizar la acción de elevación de la plataforma de muestra bajo la condición de garantizar el sellado.La elevación y rotación de la plataforma de muestras se puede controlar mediante la pantalla, el funcionamiento es sencillo e intuitivo, lo cual es muy adecuado para uso en laboratorio.

El instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío se puede utilizar para preparar diversas películas conductoras, películas semiconductoras, películas ferroeléctricas, películas ópticas, microprocesamiento de micronanodispositivos, pretratamiento de muestras de microscopio electrónico, etc.

           Artículo

Detalle

Suministrar   Voltaje

CA 220 V, 60 Hz.

Máximo   fuerza

800W

Muestra   escenario

Diámetro   φ50 mm;

giratorio,   5 rpm;

El   la distancia entre la etapa de muestra y la fuente de evaporación es ajustable,   rango de ajuste 60 mm-100 mm

Cuarzo   cámara

O.Dφ180mm   x I.Dφ166mm x 235mm

Máximo   temperatura

1700 ℃

Par termoeléctrico

S   tipo termopar, temperatura de trabajo 200 ℃ ~ 1500 ℃

Vacío   indicador

Electrónico   indicador de vacio

Vacío   interfaz

KF16

Consumo   interfaz

1/4NPS

Vacío   bomba

Doble   bomba de vacío de paletas rotativas de etapa


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