| Cantidad: | |
|---|---|
TN-EVP325S-4S-T
TN
Este equipo es un recubridor por evaporación de alto vacío de cuatro fuentes.El equipo adopta un diseño de cámara de vacío con puerta de apertura frontal.Además, la cámara aumenta a 500 mm.La distancia entre la etapa de muestra y la fuente de evaporación tiene un rango de ajuste mayor, que puede adaptarse a diversas necesidades de evaporación.Evita que la muestra se dañe por la alta temperatura de la fuente de evaporación.
La cámara adopta una etapa de muestra superior, la etapa de muestra se puede girar, calentar y levantar, y todas las operaciones se pueden integrar y controlar a través de la pantalla táctil.El sistema de vacío del equipo es un sistema de vacío de dos etapas compuesto por una bomba de paletas rotativas de dos etapas y una bomba turbomolecular, que puede proporcionar un ambiente de alto vacío limpio y libre de aceite.El equipo está equipado con un sistema de válvulas neumáticas.A través del control automático del sistema operativo, el usuario puede realizar operaciones como bombeo de vacío con un solo botón, extracción y colocación de muestras sin parar y apagado completo desde la pantalla táctil.
El equipo está equipado con cuatro juegos de fuentes de evaporación en barco de tungsteno y un electrodo de cobre enfriado por agua.Cada fuente de evaporación admite una gran corriente de 100 A y una temperatura de calentamiento de 1800 ℃.Puede realizar un recubrimiento multicapa o un recubrimiento mixto de múltiples materiales.
Parámetros técnicos:
cuatro fuente de equipo de recubrimiento por evaporación de alto vacío | ||||
Muestra escenario | Tamaño | Máximo admite muestras de φ150 mm | Altura | Adjustable arriba y abajo 140mm |
Evaporación fuente | Cantidad | Tungsteno Barco x4 | ||
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø325mm x 510mm | Observación ventana | Frente φ100mm con placa de sombreado |
Cámara material | 304 acero inoxidable | Abierto método | Frente puerta abierta | |
Película control de espesor | Cristal Instrumento de medición de espesor de película tipo oscilador, multicanal opcional. controlador de espesor de película | |||
Vacío sistema | Apoyo bomba | Dos bomba de paletas rotativa de etapa | Bombeo puerto | KF16 |
Secundario bomba | turbomolecular bomba | Bombeo puerto | CF160 | |
Vacío medición | Resistencia + ionización Compuesto indicador de vacio | Escape tasa | Mecánico bomba 1.1L/s | |
Último vacío | 1.0E-5Pa | Fuerza suministrar | Molecular bomba 600L/s | |
Control sistema | SOCIEDAD ANÓNIMA Control automático Operación Interfaz: pantalla táctil + panel de operación | |||
Otros | Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50 Hz. | En general tamaño | 1000 mm x 800 mm x 1500 mm |
Total fuerza | 10kW | Total Peso | 350 kilos | |
Este equipo es un recubridor por evaporación de alto vacío de cuatro fuentes.El equipo adopta un diseño de cámara de vacío con puerta de apertura frontal.Además, la cámara aumenta a 500 mm.La distancia entre la etapa de muestra y la fuente de evaporación tiene un rango de ajuste mayor, que puede adaptarse a diversas necesidades de evaporación.Evita que la muestra se dañe por la alta temperatura de la fuente de evaporación.
La cámara adopta una etapa de muestra superior, la etapa de muestra se puede girar, calentar y levantar, y todas las operaciones se pueden integrar y controlar a través de la pantalla táctil.El sistema de vacío del equipo es un sistema de vacío de dos etapas compuesto por una bomba de paletas rotativas de dos etapas y una bomba turbomolecular, que puede proporcionar un ambiente de alto vacío limpio y libre de aceite.El equipo está equipado con un sistema de válvulas neumáticas.A través del control automático del sistema operativo, el usuario puede realizar operaciones como bombeo de vacío con un solo botón, extracción y colocación de muestras sin parar y apagado completo desde la pantalla táctil.
El equipo está equipado con cuatro juegos de fuentes de evaporación en barco de tungsteno y un electrodo de cobre enfriado por agua.Cada fuente de evaporación admite una gran corriente de 100 A y una temperatura de calentamiento de 1800 ℃.Puede realizar un recubrimiento multicapa o un recubrimiento mixto de múltiples materiales.
Parámetros técnicos:
cuatro fuente de equipo de recubrimiento por evaporación de alto vacío | ||||
Muestra escenario | Tamaño | Máximo admite muestras de φ150 mm | Altura | Adjustable arriba y abajo 140mm |
Evaporación fuente | Cantidad | Tungsteno Barco x4 | ||
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø325mm x 510mm | Observación ventana | Frente φ100mm con placa de sombreado |
Cámara material | 304 acero inoxidable | Abierto método | Frente puerta abierta | |
Película control de espesor | Cristal Instrumento de medición de espesor de película tipo oscilador, multicanal opcional. controlador de espesor de película | |||
Vacío sistema | Apoyo bomba | Dos bomba de paletas rotativa de etapa | Bombeo puerto | KF16 |
Secundario bomba | turbomolecular bomba | Bombeo puerto | CF160 | |
Vacío medición | Resistencia + ionización Compuesto indicador de vacio | Escape tasa | Mecánico bomba 1.1L/s | |
Último vacío | 1.0E-5Pa | Fuerza suministrar | Molecular bomba 600L/s | |
Control sistema | SOCIEDAD ANÓNIMA Control automático Operación Interfaz: pantalla táctil + panel de operación | |||
Otros | Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50 Hz. | En general tamaño | 1000 mm x 800 mm x 1500 mm |
Total fuerza | 10kW | Total Peso | 350 kilos | |
