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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS) se fabrican meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que da como resultado una pureza y uniformidad excepcionales.Estos objetivos están diseñados específicamente para ofrecer un rendimiento excepcional en aplicaciones de pulverización catódica, asegurando una deposición precisa y eficiente.
Además de los objetivos de pulverización catódica, ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra amplia selección le permite encontrar los materiales perfectos para sus necesidades específicas de deposición, ya sea para recubrimientos de película delgada, aplicaciones ópticas o fabricación de dispositivos semiconductores.
Con nuestro compromiso con la calidad, la confiabilidad y la satisfacción del cliente, puede confiar en que nuestros objetivos de pulverización catódica y materiales de deposición de sulfuro de zinc (ZnS) brindarán resultados excepcionales de manera constante.Elija nuestros productos para mejorar el rendimiento y la eficiencia de sus procesos de deposición.
Invierta en excelencia.Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para todos sus requisitos de recubrimiento de película delgada.
Especificaciones del sulfuro de zinc (ZnS):
tipo de material | Sulfuro de zinc |
Símbolo | ZnS |
Color/Apariencia | Blanco, Sólido Cristalino |
Punto de fusión (°C) | 1.700 |
Densidad Teórica (g/cc) | 3.98 |
Relación Z | 0.775 |
Chisporroteo | RF |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Precaliente suavemente para desgasificar. Las películas se descomponen parcialmente.n=2,356. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS) se fabrican meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que da como resultado una pureza y uniformidad excepcionales.Estos objetivos están diseñados específicamente para ofrecer un rendimiento excepcional en aplicaciones de pulverización catódica, asegurando una deposición precisa y eficiente.
Además de los objetivos de pulverización catódica, ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra amplia selección le permite encontrar los materiales perfectos para sus necesidades específicas de deposición, ya sea para recubrimientos de película delgada, aplicaciones ópticas o fabricación de dispositivos semiconductores.
Con nuestro compromiso con la calidad, la confiabilidad y la satisfacción del cliente, puede confiar en que nuestros objetivos de pulverización catódica y materiales de deposición de sulfuro de zinc (ZnS) brindarán resultados excepcionales de manera constante.Elija nuestros productos para mejorar el rendimiento y la eficiencia de sus procesos de deposición.
Invierta en excelencia.Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para todos sus requisitos de recubrimiento de película delgada.
Especificaciones del sulfuro de zinc (ZnS):
tipo de material | Sulfuro de zinc |
Símbolo | ZnS |
Color/Apariencia | Blanco, Sólido Cristalino |
Punto de fusión (°C) | 1.700 |
Densidad Teórica (g/cc) | 3.98 |
Relación Z | 0.775 |
Chisporroteo | RF |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Precaliente suavemente para desgasificar. Las películas se descomponen parcialmente.n=2,356. |
Los objetivos de pulverización de sulfuro de zinc (ZNS) son componentes esenciales en varias aplicaciones de alta tecnología, particularmente en los campos de óptica, electrónica y energía renovable. Estos objetivos se utilizan en el proceso de pulverización, una técnica de deposición que implica bombardear el material objetivo con iones de alta energía para expulsar átomos, que luego se depositan en un sustrato para formar una película delgada.
Alta pureza y calidad:
Los objetivos de pulverización de sulfuro de zinc están disponibles en altas purezas, típicamente 99.99% o más. Este alto nivel de pureza es crucial para aplicaciones que requieren un rendimiento óptimo y una contaminación mínima, como en recubrimientos ópticos y dispositivos semiconductores.
Excelentes propiedades ópticas:
ZNS tiene un alto índice de refracción y una excelente transparencia en los espectros visibles e infrarrojos. Esto lo hace ideal para recubrimientos ópticos, que incluyen recubrimientos antirreflectantes, espejos de alta reflectividad y filtros infrarrojos.
Estabilidad térmica:
La estabilidad térmica de Zns permite que se use en aplicaciones de alta temperatura sin descomponer. Esta propiedad es particularmente útil en la producción de recubrimientos de evaporación térmica y en entornos donde el material está expuesto a temperaturas elevadas.
Versatilidad en aplicaciones:
Los objetivos de pulverización de ZNS se utilizan en una amplia gama de aplicaciones, incluidos dispositivos semiconductores, recubrimientos ópticos, células fotovoltaicas y tecnologías de visualización. Su capacidad para producir películas delgadas con excelente adhesión y uniformidad las hace adecuadas para estos diversos campos.
Precaliente y desgasificación:
Antes de su uso, los objetivos de pulverización de ZNS a menudo requieren precalentamiento a Outgas cualquier contaminante o humedad atrapados. Este proceso asegura que el material objetivo esté limpio y listo para pulverizar, lo que lleva a películas delgadas de mayor calidad. La temperatura y la duración de precalentamiento se controlan cuidadosamente para evitar dañar el objetivo.
Recubrimientos ópticos:
ZNS se usa ampliamente en la producción de recubrimientos ópticos para diversas aplicaciones, incluidas lentes, filtros y espejos. Su alto índice de refracción y transparencia lo convierten en un material ideal para recubrimientos antirreflectantes, espejos de alta reflectividad y filtros infrarrojos.
Dispositivos de semiconductores:
En la industria de los semiconductores, los objetivos de pulverización de ZNS se utilizan para depositar películas delgadas para varios componentes, incluidos aisladores, conductores y dieléctricos. Estas películas son esenciales para el rendimiento y la fiabilidad de los dispositivos semiconductores.
Células fotovoltaicas:
ZNS se usa en la producción de células solares de película delgada, donde sus excelentes propiedades ópticas y estabilidad térmica ayudan a mejorar la eficiencia y la longevidad de las células. Las películas delgadas depositadas utilizando objetivos ZNS pueden mejorar la absorción de luz y las propiedades eléctricas de las células solares.
Tecnologías de visualización:
En las tecnologías de exhibición, ZNS se utiliza para crear películas delgadas que mejoren el brillo, el contraste y la durabilidad de las pantallas. Estas películas se utilizan en pantallas LCD y OLED, lo que contribuye al rendimiento visual de alta calidad de las pantallas modernas.
Los objetivos de pulverización de sulfuro de zinc (ZNS) son materiales versátiles y de alto rendimiento que juegan un papel fundamental en varias aplicaciones de alta tecnología. Su alta pureza, excelentes propiedades ópticas, estabilidad térmica y versatilidad los hacen ideales para su uso en recubrimientos ópticos, dispositivos semiconductores, células fotovoltaicas y tecnologías de visualización. El precalentamiento adecuado y la división de estos objetivos son esenciales para lograr películas delgadas de alta calidad, asegurando un rendimiento óptimo en los productos finales.
Los objetivos de pulverización de sulfuro de zinc (ZNS) son componentes esenciales en varias aplicaciones de alta tecnología, particularmente en los campos de óptica, electrónica y energía renovable. Estos objetivos se utilizan en el proceso de pulverización, una técnica de deposición que implica bombardear el material objetivo con iones de alta energía para expulsar átomos, que luego se depositan en un sustrato para formar una película delgada.
Alta pureza y calidad:
Los objetivos de pulverización de sulfuro de zinc están disponibles en altas purezas, típicamente 99.99% o más. Este alto nivel de pureza es crucial para aplicaciones que requieren un rendimiento óptimo y una contaminación mínima, como en recubrimientos ópticos y dispositivos semiconductores.
Excelentes propiedades ópticas:
ZNS tiene un alto índice de refracción y una excelente transparencia en los espectros visibles e infrarrojos. Esto lo hace ideal para recubrimientos ópticos, que incluyen recubrimientos antirreflectantes, espejos de alta reflectividad y filtros infrarrojos.
Estabilidad térmica:
La estabilidad térmica de Zns permite que se use en aplicaciones de alta temperatura sin descomponer. Esta propiedad es particularmente útil en la producción de recubrimientos de evaporación térmica y en entornos donde el material está expuesto a temperaturas elevadas.
Versatilidad en aplicaciones:
Los objetivos de pulverización de ZNS se utilizan en una amplia gama de aplicaciones, incluidos dispositivos semiconductores, recubrimientos ópticos, células fotovoltaicas y tecnologías de visualización. Su capacidad para producir películas delgadas con excelente adhesión y uniformidad las hace adecuadas para estos diversos campos.
Precaliente y desgasificación:
Antes de su uso, los objetivos de pulverización de ZNS a menudo requieren precalentamiento a Outgas cualquier contaminante o humedad atrapados. Este proceso asegura que el material objetivo esté limpio y listo para pulverizar, lo que lleva a películas delgadas de mayor calidad. La temperatura y la duración de precalentamiento se controlan cuidadosamente para evitar dañar el objetivo.
Recubrimientos ópticos:
ZNS se usa ampliamente en la producción de recubrimientos ópticos para diversas aplicaciones, incluidas lentes, filtros y espejos. Su alto índice de refracción y transparencia lo convierten en un material ideal para recubrimientos antirreflectantes, espejos de alta reflectividad y filtros infrarrojos.
Dispositivos de semiconductores:
En la industria de los semiconductores, los objetivos de pulverización de ZNS se utilizan para depositar películas delgadas para varios componentes, incluidos aisladores, conductores y dieléctricos. Estas películas son esenciales para el rendimiento y la fiabilidad de los dispositivos semiconductores.
Células fotovoltaicas:
ZNS se usa en la producción de células solares de película delgada, donde sus excelentes propiedades ópticas y estabilidad térmica ayudan a mejorar la eficiencia y la longevidad de las células. Las películas delgadas depositadas utilizando objetivos ZNS pueden mejorar la absorción de luz y las propiedades eléctricas de las células solares.
Tecnologías de visualización:
En las tecnologías de exhibición, ZNS se utiliza para crear películas delgadas que mejoren el brillo, el contraste y la durabilidad de las pantallas. Estas películas se utilizan en pantallas LCD y OLED, lo que contribuye al rendimiento visual de alta calidad de las pantallas modernas.
Los objetivos de pulverización de sulfuro de zinc (ZNS) son materiales versátiles y de alto rendimiento que juegan un papel fundamental en varias aplicaciones de alta tecnología. Su alta pureza, excelentes propiedades ópticas, estabilidad térmica y versatilidad los hacen ideales para su uso en recubrimientos ópticos, dispositivos semiconductores, células fotovoltaicas y tecnologías de visualización. El precalentamiento adecuado y la división de estos objetivos son esenciales para lograr películas delgadas de alta calidad, asegurando un rendimiento óptimo en los productos finales.