Usted está aquí: Hogar / Productos / Objetivo de chisporroteo / Objetivos de pulverización catódica de óxido de tungsteno (WO3)

Objetivos de pulverización catódica de óxido de tungsteno (WO3)

objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición
Estado de Disponibilidad:
Cantidad:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN

Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de tungsteno (WO3), el epítome de los materiales de deposición de alta calidad.Diseñados para aplicaciones profesionales, nuestros objetivos de pulverización catódica están meticulosamente elaborados para proporcionar un rendimiento y confiabilidad excepcionales.


Elaborados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de tungsteno (WO3) son ideales para su uso en diversos procesos de pulverización catódica y evaporación.Estos objetivos están diseñados específicamente para ofrecer una deposición de película consistente y uniforme, asegurando resultados óptimos en aplicaciones de película delgada.


Nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de tungsteno (WO3) se fabrican utilizando técnicas avanzadas y materiales de óxido de tungsteno de calidad superior.Esto garantiza los niveles de pureza más altos, lo que da como resultado impurezas mínimas y una calidad de película mejorada.Con nuestros objetivos de pulverización catódica, puede lograr un control preciso sobre el espesor y la composición de la película, lo que le permitirá cumplir incluso con los requisitos más exigentes de sus procesos de deposición.


Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos materiales se seleccionan cuidadosamente para proporcionar una excelente estabilidad térmica y compatibilidad con diversas técnicas de deposición.Ya sea que necesite materiales para evaporación térmica, evaporación por haz de electrones o pulverización catódica con magnetrón, nuestra amplia selección garantiza que pueda encontrar la solución perfecta para sus necesidades específicas.


Elija nuestros objetivos de pulverización catódica y materiales de deposición de óxido de tungsteno (WO3) para obtener un rendimiento, confiabilidad y consistencia incomparables en sus aplicaciones de película delgada.Confíe en nuestros productos de calidad profesional para llevar sus procesos de deposición a nuevas alturas de excelencia.

Especificaciones del óxido de tungsteno (WO3):

tipo de material

Óxido de tungsteno

Símbolo

WO3

Color/Apariencia

Amarillo limón, sólido

Punto de fusión (°C)

1.473

Densidad Teórica (g/cc)

7.16

Relación Z

**1.00

Chisporroteo

RF-R

Tipo de bono

Indio, Elastómero

Comentarios

Precaliente suavemente para desgasificar.W.   Reduce ligeramente el óxido.


Anterior: 
Siguiente: 
CONSULTA DE PRODUCTO
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Que es un fabricante especializado en la producción de instrumentos científicos de laboratorio.Nuestros productos se utilizan ampliamente en universidades, instituciones de investigación y laboratorios.

ENLACES RÁPIDOS

CONTÁCTENOS

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Habitación 401, 4.º piso, edificio 5, ciudad nueva tecnológica de Zhengzhou Yida, calle Jinzhan, zona de alta tecnología, ciudad de Zhengzhou
Derechos de autor © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Con apoyo de leadong.com