| Cantidad: | |
|---|---|
TN
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de titanio (TiN) de primera línea, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.Con nuestra amplia experiencia en tecnología de película delgada, ofrecemos una gama de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición de alta calidad para satisfacer sus necesidades específicas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de titanio están diseñados meticulosamente con materiales de primera calidad, lo que garantiza un rendimiento excepcional y una durabilidad duradera.Con un tono de voz profesional, le aseguramos que nuestros productos cumplen con los más altos estándares de la industria, lo que los hace ideales para aplicaciones en recubrimientos semiconductores, ópticos y decorativos.
Estos objetivos de pulverización catódica están diseñados para ofrecer una deposición precisa y uniforme, lo que permite la creación de películas delgadas con excelente adhesión y uniformidad.El recubrimiento de nitruro de titanio producido por nuestros objetivos exhibe una notable dureza, resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión, lo que lo convierte en una opción ideal para aplicaciones que requieren propiedades superficiales mejoradas.
Nuestra amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición mejora aún más la versatilidad de nuestra línea de productos.Ya sea que necesite materiales para evaporación térmica, evaporación por haz de electrones o pulverización catódica con magnetrón, lo tenemos cubierto.
En [Nombre de la empresa], estamos orgullosos de nuestro compromiso de brindar soluciones confiables y de alto rendimiento para sus necesidades de deposición de películas delgadas.Nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de titanio, junto con nuestra amplia gama de materiales de deposición, están respaldados por nuestro equipo de expertos que están disponibles para ayudarle a lograr los resultados deseados.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de titanio por su calidad, confiabilidad y rendimiento excepcionales.Experimente la diferencia en sus procesos de deposición con nuestros productos de calidad profesional.Contáctenos hoy para analizar sus requisitos específicos y permítanos ayudarlo a encontrar la solución perfecta para sus necesidades de deposición de películas delgadas.
Especificaciones de nitruro de titanio (TiN):
tipo de material | Nitruro de titanio |
Símbolo | Estaño |
Color/Apariencia | Marrón amarillento, cristalino Sólido |
Punto de fusión (°C) | 2.930 |
Densidad Teórica (g/cc) | 5.4 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | RF, RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Preferiblemente chisporroteo. Se descompone por evaporación térmica. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de titanio (TiN) de primera línea, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.Con nuestra amplia experiencia en tecnología de película delgada, ofrecemos una gama de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición de alta calidad para satisfacer sus necesidades específicas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de titanio están diseñados meticulosamente con materiales de primera calidad, lo que garantiza un rendimiento excepcional y una durabilidad duradera.Con un tono de voz profesional, le aseguramos que nuestros productos cumplen con los más altos estándares de la industria, lo que los hace ideales para aplicaciones en recubrimientos semiconductores, ópticos y decorativos.
Estos objetivos de pulverización catódica están diseñados para ofrecer una deposición precisa y uniforme, lo que permite la creación de películas delgadas con excelente adhesión y uniformidad.El recubrimiento de nitruro de titanio producido por nuestros objetivos exhibe una notable dureza, resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión, lo que lo convierte en una opción ideal para aplicaciones que requieren propiedades superficiales mejoradas.
Nuestra amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición mejora aún más la versatilidad de nuestra línea de productos.Ya sea que necesite materiales para evaporación térmica, evaporación por haz de electrones o pulverización catódica con magnetrón, lo tenemos cubierto.
En [Nombre de la empresa], estamos orgullosos de nuestro compromiso de brindar soluciones confiables y de alto rendimiento para sus necesidades de deposición de películas delgadas.Nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de titanio, junto con nuestra amplia gama de materiales de deposición, están respaldados por nuestro equipo de expertos que están disponibles para ayudarle a lograr los resultados deseados.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de titanio por su calidad, confiabilidad y rendimiento excepcionales.Experimente la diferencia en sus procesos de deposición con nuestros productos de calidad profesional.Contáctenos hoy para analizar sus requisitos específicos y permítanos ayudarlo a encontrar la solución perfecta para sus necesidades de deposición de películas delgadas.
Especificaciones de nitruro de titanio (TiN):
tipo de material | Nitruro de titanio |
Símbolo | Estaño |
Color/Apariencia | Marrón amarillento, cristalino Sólido |
Punto de fusión (°C) | 2.930 |
Densidad Teórica (g/cc) | 5.4 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | RF, RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Preferiblemente chisporroteo. Se descompone por evaporación térmica. |
