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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de itrio (Y) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.Estos objetivos se fabrican meticulosamente para garantizar un rendimiento y confiabilidad excepcionales, lo que los convierte en la opción ideal para una amplia gama de aplicaciones.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de itrio están diseñados específicamente para aplicaciones de pulverización catódica, proporcionando una excelente utilización del material y una deposición uniforme de la película.Con su pureza y composición superiores, permiten un control preciso sobre el crecimiento de películas finas, lo que garantiza resultados consistentes y minimiza los defectos.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos productos se elaboran meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que garantiza un rendimiento óptimo y compatibilidad con varios sistemas de deposición.
Nuestro compromiso con la calidad es inquebrantable, ya que cumplimos con estrictos estándares de fabricación y llevamos a cabo rigurosas medidas de control de calidad.Esto garantiza que nuestros productos cumplan o superen constantemente las especificaciones de la industria, lo que le permitirá lograr resultados excepcionales en sus procesos de deposición.
Ya sea que esté involucrado en investigación, desarrollo o producción a gran escala, nuestros objetivos de pulverización catódica de itrio, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición son la elección perfecta para sus necesidades de recubrimiento de película delgada.Confíe en nuestra experiencia y conocimientos para ofrecer el más alto nivel de calidad y rendimiento, permitiéndole mantenerse a la vanguardia de su campo.
Invierta hoy en nuestros objetivos de pulverización catódica de itrio y materiales de deposición relacionados y experimente la diferencia en rendimiento y confiabilidad que nos diferencia de la competencia.
Especificaciones del itrio (Y):
tipo de material | Itrio |
Símbolo | Y |
Peso atomico | 88.90585 |
Número atómico | 39 |
Color/Apariencia | Blanco plateado, metálico |
Conductividad térmica | 17,2 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.522 |
Coeficiente de expansión termal | 10,6 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 4.47 |
Relación Z | 0.835 |
Chisporroteo | RF, CC |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 30* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Alta solubilidad de Ta. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de itrio (Y) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.Estos objetivos se fabrican meticulosamente para garantizar un rendimiento y confiabilidad excepcionales, lo que los convierte en la opción ideal para una amplia gama de aplicaciones.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de itrio están diseñados específicamente para aplicaciones de pulverización catódica, proporcionando una excelente utilización del material y una deposición uniforme de la película.Con su pureza y composición superiores, permiten un control preciso sobre el crecimiento de películas finas, lo que garantiza resultados consistentes y minimiza los defectos.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos productos se elaboran meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que garantiza un rendimiento óptimo y compatibilidad con varios sistemas de deposición.
Nuestro compromiso con la calidad es inquebrantable, ya que cumplimos con estrictos estándares de fabricación y llevamos a cabo rigurosas medidas de control de calidad.Esto garantiza que nuestros productos cumplan o superen constantemente las especificaciones de la industria, lo que le permitirá lograr resultados excepcionales en sus procesos de deposición.
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Especificaciones del itrio (Y):
tipo de material | Itrio |
Símbolo | Y |
Peso atomico | 88.90585 |
Número atómico | 39 |
Color/Apariencia | Blanco plateado, metálico |
Conductividad térmica | 17,2 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.522 |
Coeficiente de expansión termal | 10,6 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 4.47 |
Relación Z | 0.835 |
Chisporroteo | RF, CC |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 30* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Alta solubilidad de Ta. |
