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Presentamos nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc (ZnO), el epítome de la excelencia en el campo de los materiales de deposición.
Elaborado con la máxima precisión y utilizando materiales de la más alta calidad, nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc está diseñado para satisfacer las demandas de diversas aplicaciones de pulverización catódica.
Con su pureza y uniformidad excepcionales, este objetivo de pulverización catódica garantiza un rendimiento superior y resultados consistentes en procesos de deposición de películas delgadas.Ya sea que necesite películas delgadas para recubrimientos ópticos, dispositivos semiconductores o células solares, nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc es la elección perfecta para sus necesidades.
Sin limitarse a aplicaciones de pulverización catódica, nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc también se puede utilizar como fuente de evaporación, ampliando aún más su versatilidad en el ámbito de los materiales de deposición.
Respaldado por tecnología de vanguardia y una extensa investigación, nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc garantiza una calidad de película óptima, altas tasas de deposición y una productividad mejorada.
Invierta en nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc y experimente el pináculo de la excelencia en materiales de deposición.Confíe en nuestro compromiso de ofrecer solo lo mejor para sus objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros requisitos de materiales de deposición.
Especificaciones del óxido de zinc (ZnO):
tipo de material | Óxido de zinc |
Símbolo | Zno |
Color/Apariencia | Blanco, Sólido Cristalino |
Punto de fusión (°C) | 1.975 |
Densidad Teórica (g/cc) | 5.61 |
Relación Z | 0.556 |
Chisporroteo | RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Presentamos nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc (ZnO), el epítome de la excelencia en el campo de los materiales de deposición.
Elaborado con la máxima precisión y utilizando materiales de la más alta calidad, nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc está diseñado para satisfacer las demandas de diversas aplicaciones de pulverización catódica.
Con su pureza y uniformidad excepcionales, este objetivo de pulverización catódica garantiza un rendimiento superior y resultados consistentes en procesos de deposición de películas delgadas.Ya sea que necesite películas delgadas para recubrimientos ópticos, dispositivos semiconductores o células solares, nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc es la elección perfecta para sus necesidades.
Sin limitarse a aplicaciones de pulverización catódica, nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc también se puede utilizar como fuente de evaporación, ampliando aún más su versatilidad en el ámbito de los materiales de deposición.
Respaldado por tecnología de vanguardia y una extensa investigación, nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc garantiza una calidad de película óptima, altas tasas de deposición y una productividad mejorada.
Invierta en nuestro objetivo de pulverización catódica de óxido de zinc y experimente el pináculo de la excelencia en materiales de deposición.Confíe en nuestro compromiso de ofrecer solo lo mejor para sus objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros requisitos de materiales de deposición.
Especificaciones del óxido de zinc (ZnO):
tipo de material | Óxido de zinc |
Símbolo | Zno |
Color/Apariencia | Blanco, Sólido Cristalino |
Punto de fusión (°C) | 1.975 |
Densidad Teórica (g/cc) | 5.61 |
Relación Z | 0.556 |
Chisporroteo | RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
