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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC) de alta calidad, diseñados para satisfacer las exigentes necesidades de diversos procesos de deposición.Con nuestra gama de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición, proporcionamos la solución ideal para sus requisitos de recubrimiento de película delgada.
Elaborados con la máxima precisión y utilizando técnicas de fabricación avanzadas, nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC) ofrecen un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.Estos objetivos están diseñados específicamente para garantizar una deposición de película uniforme y eficiente, lo que da como resultado una calidad de recubrimiento superior.
Nuestros objetivos de pulverización catódica están meticulosamente diseñados para soportar altas temperaturas y ambientes de plasma intensos, lo que garantiza una durabilidad prolongada y un rendimiento constante.Con su pureza excepcional y estructura de grano controlada, permiten un control preciso sobre el proceso de deposición, lo que le permite lograr las propiedades de película deseadas con la máxima precisión.
Además de nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC), ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos productos se seleccionan y fabrican cuidadosamente para garantizar la compatibilidad con diversas técnicas de deposición, brindándole una solución completa para sus necesidades de recubrimiento de película delgada.
Con nuestro compromiso con la calidad y la satisfacción del cliente, nos esforzamos por ofrecer productos que cumplan con los más altos estándares de la industria.Investigadores, ingenieros y fabricantes de todo el mundo confían en nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC), junto con nuestra amplia gama de materiales de deposición, por su rendimiento y confiabilidad excepcionales.
Experimente la diferencia de nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC) y otros materiales de deposición, y lleve sus procesos de recubrimiento de película delgada a nuevas alturas.Confíe en nuestra experiencia y confíe en nuestros productos de calidad profesional para lograr resultados sobresalientes en sus aplicaciones de deposición.
Especificaciones de carburo de tungsteno (WC):
tipo de material | Carburo de tungsteno |
Símbolo | WC |
Punto de fusión (°C) | 2.860 |
Densidad Teórica (g/cc) | 15.63 |
Relación Z | 0.151 |
Chisporroteo | RF |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC) de alta calidad, diseñados para satisfacer las exigentes necesidades de diversos procesos de deposición.Con nuestra gama de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición, proporcionamos la solución ideal para sus requisitos de recubrimiento de película delgada.
Elaborados con la máxima precisión y utilizando técnicas de fabricación avanzadas, nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC) ofrecen un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.Estos objetivos están diseñados específicamente para garantizar una deposición de película uniforme y eficiente, lo que da como resultado una calidad de recubrimiento superior.
Nuestros objetivos de pulverización catódica están meticulosamente diseñados para soportar altas temperaturas y ambientes de plasma intensos, lo que garantiza una durabilidad prolongada y un rendimiento constante.Con su pureza excepcional y estructura de grano controlada, permiten un control preciso sobre el proceso de deposición, lo que le permite lograr las propiedades de película deseadas con la máxima precisión.
Además de nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC), ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos productos se seleccionan y fabrican cuidadosamente para garantizar la compatibilidad con diversas técnicas de deposición, brindándole una solución completa para sus necesidades de recubrimiento de película delgada.
Con nuestro compromiso con la calidad y la satisfacción del cliente, nos esforzamos por ofrecer productos que cumplan con los más altos estándares de la industria.Investigadores, ingenieros y fabricantes de todo el mundo confían en nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC), junto con nuestra amplia gama de materiales de deposición, por su rendimiento y confiabilidad excepcionales.
Experimente la diferencia de nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno (WC) y otros materiales de deposición, y lleve sus procesos de recubrimiento de película delgada a nuevas alturas.Confíe en nuestra experiencia y confíe en nuestros productos de calidad profesional para lograr resultados sobresalientes en sus aplicaciones de deposición.
Especificaciones de carburo de tungsteno (WC):
tipo de material | Carburo de tungsteno |
Símbolo | WC |
Punto de fusión (°C) | 2.860 |
Densidad Teórica (g/cc) | 15.63 |
Relación Z | 0.151 |
Chisporroteo | RF |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
