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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de vanadio (V) de alta calidad, diseñados para satisfacer las demandas de diversos procesos de deposición.Estos objetivos de pulverización catódica están diseñados específicamente para un rendimiento excepcional en aplicaciones de deposición de películas delgadas.
Elaborados con precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de vanadio (V) son ideales para su uso en una amplia gama de industrias, incluida la fabricación de semiconductores, óptica y células solares.Exhiben una notable estabilidad térmica, lo que garantiza un rendimiento constante y confiable durante todo el proceso de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica se fabrican meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que da como resultado una estructura uniforme y densa.Esto permite una utilización eficiente del material y una excelente uniformidad de la película, lo que conduce a una mayor productividad y rentabilidad.
Además de los objetivos de pulverización catódica de vanadio (V), también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos productos están diseñados para complementar nuestros objetivos de pulverización catódica, brindando a nuestros clientes una solución completa para sus necesidades de deposición de películas delgadas.
Con un compromiso con la calidad, nuestros productos se someten a rigurosas pruebas y procedimientos de control de calidad para garantizar que cumplan con los más altos estándares de la industria.Nuestros objetivos de pulverización catódica de vanadio (V) garantizan un rendimiento, durabilidad y longevidad excepcionales.
Asóciese con nosotros para todos sus requisitos de deposición de películas delgadas y experimente la confiabilidad y eficiencia que ofrecen nuestros objetivos de pulverización catódica de vanadio (V).Confíe en nuestra experiencia y productos líderes en la industria para lograr recubrimientos de película delgada precisos y uniformes para sus aplicaciones.
Especificaciones de vanadio (V):
tipo de material | Vanadio |
Símbolo | V |
Peso atomico | 50.9415 |
Número atómico | 23 |
Color/Apariencia | Gris plateado metalizado |
Conductividad térmica | 30,7 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.890 |
Coeficiente de expansión termal | 8,4 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 6.11 |
Relación Z | 0.53 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 50* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Mojado Mo. E-beam-evaporado películas preferidas. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de vanadio (V) de alta calidad, diseñados para satisfacer las demandas de diversos procesos de deposición.Estos objetivos de pulverización catódica están diseñados específicamente para un rendimiento excepcional en aplicaciones de deposición de películas delgadas.
Elaborados con precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de vanadio (V) son ideales para su uso en una amplia gama de industrias, incluida la fabricación de semiconductores, óptica y células solares.Exhiben una notable estabilidad térmica, lo que garantiza un rendimiento constante y confiable durante todo el proceso de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica se fabrican meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que da como resultado una estructura uniforme y densa.Esto permite una utilización eficiente del material y una excelente uniformidad de la película, lo que conduce a una mayor productividad y rentabilidad.
Además de los objetivos de pulverización catódica de vanadio (V), también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos productos están diseñados para complementar nuestros objetivos de pulverización catódica, brindando a nuestros clientes una solución completa para sus necesidades de deposición de películas delgadas.
Con un compromiso con la calidad, nuestros productos se someten a rigurosas pruebas y procedimientos de control de calidad para garantizar que cumplan con los más altos estándares de la industria.Nuestros objetivos de pulverización catódica de vanadio (V) garantizan un rendimiento, durabilidad y longevidad excepcionales.
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Especificaciones de vanadio (V):
tipo de material | Vanadio |
Símbolo | V |
Peso atomico | 50.9415 |
Número atómico | 23 |
Color/Apariencia | Gris plateado metalizado |
Conductividad térmica | 30,7 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.890 |
Coeficiente de expansión termal | 8,4 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 6.11 |
Relación Z | 0.53 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 50* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Mojado Mo. E-beam-evaporado películas preferidas. |