| Cantidad: | |
|---|---|
TN-MSH325-III-DCDCRF-SS
TN
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos de última generación, diseñado para aplicaciones de recubrimiento de precisión en diversas industrias. Este recubridor avanzado está equipado con la última tecnología para producir películas graduadas y multicapa de alta calidad, películas de aleaciones complejas y películas de aleaciones magnéticas con precisión y eficiencia excepcionales.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es capaz de depositar una amplia gama de materiales, incluidas aleaciones de aluminio y cobre, películas de silicio y germanio, aleación permanente (níquel-hierro) y CoFeB (cobalto-hierro-boro). Estos materiales son esenciales para la producción de células solares de película delgada, así como de otros dispositivos electrónicos y ópticos.
Con sus capacidades versátiles y su rendimiento superior, nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es la solución ideal para laboratorios de investigación y desarrollo, universidades y fabricantes industriales que buscan lograr recubrimientos precisos y uniformes en diversos sustratos. Invierta hoy en nuestra recubridora de última generación y experimente la diferencia en calidad y eficiencia que puede aportar a sus procesos de producción.
Producto nombre | Automático Recubrimiento de pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos de alto vacío controlado por programa instrumento para película de óxido | |
Producto modelo | TN-MSH325-III-DCDCRF-SS | |
Fuerza tensión de alimentación | CA 220 V, 50 Hz. | |
Completo fuerza | 6kW | |
Sistema vacío | ≦5×10-4Pa | |
Muestra escenario | Dimensions | ø150mm |
Calefacción temperatura | ≦ 850 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1℃ | |
Adjustable velocidad | ≦20rpm | |
magnetrón Objetivo de chisporroteo | Objetivo tamaño | Diámetro Φ50.8mm, espesor ≦3mm |
Enfriamiento modo | Circulante refrigeración por agua | |
Agua tamaño del flujo | Not Menos de 10 l/min. | |
Cantidad | 3 | |
Vacío cámara | Cavidad tamaño | Diámetro ø325mm |
Cavidad material | SUU304 acero inoxidable | |
Observación ventana | Diámetro ø100mm | |
Apertura método | Arriba apertura | |
Gas control | 1 El medidor de flujo másico se utiliza para controlar el flujo de Ar, con un rango de 200 SCCM | |
Vacío sistema | Equipado con 1 sistema de bomba molecular, velocidad de bombeo de gas 600L/S | |
Película medición de espesor | Opcional Medidor de espesor de película de cristal de cuarzo, resolución 0,10 Å | |
chisporroteo fuente de alimentación | Equipado con fuente de alimentación CC, potencia 500W*2 Fuente de alimentación RF 300W | |
Control sistema | CYKY sistema de control profesional de desarrollo propio | |
Equipo dimensiones | 570 mm × 1040 mm × 1700 mm | |
Equipo peso | 350 kilos | |
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos para películas delgadas de aleaciones es un equipo altamente especializado diseñado para la deposición de composiciones de aleaciones complejas y estructuras multicapa. Al utilizar tres objetivos diferentes, este sistema permite la creación de películas de aleación precisas y materiales en capas con propiedades personalizadas. Estas son las áreas principales donde este tipo de máquina está disponible y se usa comúnmente:
Películas multicapa y graduadas: La configuración de tres objetivos es ideal para depositar películas multicapa o graduadas, donde se pueden depositar diferentes materiales de forma secuencial o simultánea. Esto es crucial en la fabricación de dispositivos semiconductores avanzados, incluidos transistores, condensadores e interconexiones.
Películas de aleaciones complejas: En microelectrónica, a menudo se requieren películas de aleación con propiedades eléctricas y térmicas específicas. Un sistema de tres objetivos permite controlar con precisión la composición de estas aleaciones, como las aleaciones de aluminio y cobre o las películas de silicio y germanio.
Recubrimientos antirreflectantes y reflectantes: La máquina puede depositar recubrimientos ópticos complejos, incluidos aquellos con índices de refracción degradados o pilas de múltiples capas. Estos recubrimientos son esenciales para lentes, espejos y filtros ópticos en una amplia gama de aplicaciones.
Espejos chirriados y divisores de haz: Estos componentes a menudo requieren capas complejas de múltiples materiales, que se pueden crear de manera eficiente utilizando tres objetivos diferentes.
Películas de aleación magnética: La pulverización catódica de tres objetivos se utiliza para depositar películas de aleaciones magnéticas, como permalloy (níquel-hierro) o CoFeB (cobalto-hierro-boro), que son fundamentales en la producción de dispositivos de almacenamiento magnético, sensores y componentes espintrónicos.
Estructuras espintrónicas: La capacidad de crear materiales magnéticos y no magnéticos en capas es clave para los dispositivos espintrónicos, que explotan el espín de los electrones para el almacenamiento de datos y las operaciones lógicas.
Células solares de película delgada: En la producción de células solares de película delgada, como las células CIGS (seleniuro de cobre, indio, galio) o CZTS (sulfuro de cobre, zinc y estaño), es esencial un sistema de tres objetivos para depositar capas absorbentes de aleaciones complejas y óxidos conductores transparentes.
Componentes de baterías y pilas de combustible: La pulverización catódica de tres objetivos se utiliza para depositar películas de aleación para materiales de electrodos en baterías y capas protectoras o catalíticas en pilas de combustible, mejorando la eficiencia y durabilidad de estos dispositivos.
Recubrimientos avanzados para herramientas: El recubridor se utiliza para crear recubrimientos de aleaciones duras y resistentes al desgaste, como nitruro de titanio y aluminio (TiAlN) o nitruro de cromo y aluminio (CrAlN), que se aplican a herramientas de corte, moldes y otros componentes mecánicos para mejorar. su desempeño.
Recubrimientos protectores: Mediante este sistema se depositan revestimientos de aleación que proporcionan resistencia a la corrosión, resistencia a la oxidación o barreras térmicas para su uso en aplicaciones aeroespaciales, automotrices e industriales.
Recubrimientos estéticos: La máquina puede depositar recubrimientos multicapa o de aleación que proporcionan acabados decorativos y propiedades funcionales (como resistencia a los rayones) en productos de consumo como productos electrónicos, joyas y artículos para el hogar.
Recubrimientos Arquitectónicos: La pulverización catódica de tres objetivos se utiliza para crear revestimientos sobre vidrio arquitectónico que mejoran la eficiencia energética, la protección UV y el atractivo estético.
Desarrollo de nuevos materiales: Los investigadores utilizan recubridores por pulverización catódica de tres objetivos para desarrollar y explorar nuevos materiales de aleación con propiedades electrónicas, magnéticas, ópticas o mecánicas específicas. La flexibilidad del sistema permite la creación rápida de prototipos de nuevos materiales.
Nanoestructuras y dispositivos de película delgada: En la investigación en ciencia de materiales y nanotecnología, la capacidad de crear películas complejas de múltiples componentes con un control preciso sobre la composición y el espesor es invaluable para estudiar y desarrollar nuevos dispositivos de películas delgadas.
Materiales superconductores: La máquina se utiliza para depositar películas de aleaciones superconductoras, como NbTi (niobio-titanio) o NbN (nitruro de niobio), para su uso en electrónica superconductora, imanes e investigación sobre superconductividad a altas temperaturas.
Recubrimientos magnéticos avanzados: La pulverización catódica de tres objetivos permite la creación de aleaciones magnéticas complejas y multicapas utilizadas en dispositivos avanzados de almacenamiento de datos, sensores magnéticos y aplicaciones espintrónicas.
Recubrimientos biocompatibles: En ingeniería biomédica, la pulverización catódica de tres objetivos se utiliza para depositar recubrimientos de aleaciones que son biocompatibles y adecuados para implantes médicos, como aleaciones de titanio o recubrimientos que promueven el crecimiento celular.
Biomateriales funcionales: El sistema también se puede utilizar para crear recubrimientos con propiedades superficiales específicas, como superficies antimicrobianas o hidrofílicas, para dispositivos e instrumentos médicos.
En general, un recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es una herramienta versátil y poderosa que se utiliza en múltiples industrias y campos de investigación para la deposición de películas delgadas de aleaciones complejas y estructuras multicapa. Su capacidad para manejar tres materiales diferentes simultáneamente o en secuencia permite el control preciso necesario para desarrollar materiales y dispositivos avanzados con propiedades personalizadas.
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos de última generación, diseñado para aplicaciones de recubrimiento de precisión en diversas industrias. Este recubridor avanzado está equipado con la última tecnología para producir películas graduadas y multicapa de alta calidad, películas de aleaciones complejas y películas de aleaciones magnéticas con precisión y eficiencia excepcionales.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es capaz de depositar una amplia gama de materiales, incluidas aleaciones de aluminio y cobre, películas de silicio y germanio, aleación permanente (níquel-hierro) y CoFeB (cobalto-hierro-boro). Estos materiales son esenciales para la producción de células solares de película delgada, así como de otros dispositivos electrónicos y ópticos.
Con sus capacidades versátiles y su rendimiento superior, nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es la solución ideal para laboratorios de investigación y desarrollo, universidades y fabricantes industriales que buscan lograr recubrimientos precisos y uniformes en diversos sustratos. Invierta hoy en nuestra recubridora de última generación y experimente la diferencia en calidad y eficiencia que puede aportar a sus procesos de producción.
Producto nombre | Automático Recubrimiento de pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos de alto vacío controlado por programa instrumento para película de óxido | |
Producto modelo | TN-MSH325-III-DCDCRF-SS | |
Fuerza tensión de alimentación | CA 220 V, 50 Hz. | |
Completo fuerza | 6kW | |
Sistema vacío | ≦5×10-4Pa | |
Muestra escenario | Dimensions | ø150mm |
Calefacción temperatura | ≦ 850 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1℃ | |
Adjustable velocidad | ≦20rpm | |
magnetrón Objetivo de chisporroteo | Objetivo tamaño | Diámetro Φ50.8mm, espesor ≦3mm |
Enfriamiento modo | Circulante refrigeración por agua | |
Agua tamaño del flujo | Not Menos de 10 l/min. | |
Cantidad | 3 | |
Vacío cámara | Cavidad tamaño | Diámetro ø325mm |
Cavidad material | SUU304 acero inoxidable | |
Observación ventana | Diámetro ø100mm | |
Apertura método | Arriba apertura | |
Gas control | 1 El medidor de flujo másico se utiliza para controlar el flujo de Ar, con un rango de 200 SCCM | |
Vacío sistema | Equipado con 1 sistema de bomba molecular, velocidad de bombeo de gas 600L/S | |
Película medición de espesor | Opcional Medidor de espesor de película de cristal de cuarzo, resolución 0,10 Å | |
chisporroteo fuente de alimentación | Equipado con fuente de alimentación CC, potencia 500W*2 Fuente de alimentación RF 300W | |
Control sistema | CYKY sistema de control profesional de desarrollo propio | |
Equipo dimensiones | 570 mm × 1040 mm × 1700 mm | |
Equipo peso | 350 kilos | |
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos para películas delgadas de aleaciones es un equipo altamente especializado diseñado para la deposición de composiciones de aleaciones complejas y estructuras multicapa. Al utilizar tres objetivos diferentes, este sistema permite la creación de películas de aleación precisas y materiales en capas con propiedades personalizadas. Estas son las áreas principales donde este tipo de máquina está disponible y se usa comúnmente:
Películas multicapa y graduadas: La configuración de tres objetivos es ideal para depositar películas multicapa o graduadas, donde se pueden depositar diferentes materiales de forma secuencial o simultánea. Esto es crucial en la fabricación de dispositivos semiconductores avanzados, incluidos transistores, condensadores e interconexiones.
Películas de aleaciones complejas: En microelectrónica, a menudo se requieren películas de aleación con propiedades eléctricas y térmicas específicas. Un sistema de tres objetivos permite controlar con precisión la composición de estas aleaciones, como las aleaciones de aluminio y cobre o las películas de silicio y germanio.
Recubrimientos antirreflectantes y reflectantes: La máquina puede depositar recubrimientos ópticos complejos, incluidos aquellos con índices de refracción degradados o pilas de múltiples capas. Estos recubrimientos son esenciales para lentes, espejos y filtros ópticos en una amplia gama de aplicaciones.
Espejos chirriados y divisores de haz: Estos componentes a menudo requieren capas complejas de múltiples materiales, que se pueden crear de manera eficiente utilizando tres objetivos diferentes.
Películas de aleación magnética: La pulverización catódica de tres objetivos se utiliza para depositar películas de aleaciones magnéticas, como permalloy (níquel-hierro) o CoFeB (cobalto-hierro-boro), que son fundamentales en la producción de dispositivos de almacenamiento magnético, sensores y componentes espintrónicos.
Estructuras espintrónicas: La capacidad de crear materiales magnéticos y no magnéticos en capas es clave para los dispositivos espintrónicos, que explotan el espín de los electrones para el almacenamiento de datos y las operaciones lógicas.
Células solares de película delgada: En la producción de células solares de película delgada, como las células CIGS (seleniuro de cobre, indio, galio) o CZTS (sulfuro de cobre, zinc y estaño), es esencial un sistema de tres objetivos para depositar capas absorbentes de aleaciones complejas y óxidos conductores transparentes.
Componentes de baterías y pilas de combustible: La pulverización catódica de tres objetivos se utiliza para depositar películas de aleación para materiales de electrodos en baterías y capas protectoras o catalíticas en pilas de combustible, mejorando la eficiencia y durabilidad de estos dispositivos.
Recubrimientos avanzados para herramientas: El recubridor se utiliza para crear recubrimientos de aleaciones duras y resistentes al desgaste, como nitruro de titanio y aluminio (TiAlN) o nitruro de cromo y aluminio (CrAlN), que se aplican a herramientas de corte, moldes y otros componentes mecánicos para mejorar. su desempeño.
Recubrimientos protectores: Mediante este sistema se depositan revestimientos de aleación que proporcionan resistencia a la corrosión, resistencia a la oxidación o barreras térmicas para su uso en aplicaciones aeroespaciales, automotrices e industriales.
Recubrimientos estéticos: La máquina puede depositar recubrimientos multicapa o de aleación que proporcionan acabados decorativos y propiedades funcionales (como resistencia a los rayones) en productos de consumo como productos electrónicos, joyas y artículos para el hogar.
Recubrimientos Arquitectónicos: La pulverización catódica de tres objetivos se utiliza para crear revestimientos sobre vidrio arquitectónico que mejoran la eficiencia energética, la protección UV y el atractivo estético.
Desarrollo de nuevos materiales: Los investigadores utilizan recubridores por pulverización catódica de tres objetivos para desarrollar y explorar nuevos materiales de aleación con propiedades electrónicas, magnéticas, ópticas o mecánicas específicas. La flexibilidad del sistema permite la creación rápida de prototipos de nuevos materiales.
Nanoestructuras y dispositivos de película delgada: En la investigación en ciencia de materiales y nanotecnología, la capacidad de crear películas complejas de múltiples componentes con un control preciso sobre la composición y el espesor es invaluable para estudiar y desarrollar nuevos dispositivos de películas delgadas.
Materiales superconductores: La máquina se utiliza para depositar películas de aleaciones superconductoras, como NbTi (niobio-titanio) o NbN (nitruro de niobio), para su uso en electrónica superconductora, imanes e investigación sobre superconductividad a altas temperaturas.
Recubrimientos magnéticos avanzados: La pulverización catódica de tres objetivos permite la creación de aleaciones magnéticas complejas y multicapas utilizadas en dispositivos avanzados de almacenamiento de datos, sensores magnéticos y aplicaciones espintrónicas.
Recubrimientos biocompatibles: En ingeniería biomédica, la pulverización catódica de tres objetivos se utiliza para depositar recubrimientos de aleaciones que son biocompatibles y adecuados para implantes médicos, como aleaciones de titanio o recubrimientos que promueven el crecimiento celular.
Biomateriales funcionales: El sistema también se puede utilizar para crear recubrimientos con propiedades superficiales específicas, como superficies antimicrobianas o hidrofílicas, para dispositivos e instrumentos médicos.
En general, un recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es una herramienta versátil y poderosa que se utiliza en múltiples industrias y campos de investigación para la deposición de películas delgadas de aleaciones complejas y estructuras multicapa. Su capacidad para manejar tres materiales diferentes simultáneamente o en secuencia permite el control preciso necesario para desarrollar materiales y dispositivos avanzados con propiedades personalizadas.
