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TN-MSP190S-1T-A
TN
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único de escritorio con cavidad de acero inoxidable para películas electrónicas.Esta recubridora avanzada está diseñada para satisfacer las necesidades de los profesionales en el campo, ofreciendo un rendimiento y confiabilidad excepcionales.
Nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón es capaz de preparar películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones tanto de una sola capa como de múltiples capas.Con su tecnología de vanguardia, esta recubridora garantiza una deposición precisa y uniforme de películas, lo que da como resultado resultados consistentes y de alta calidad.
La cavidad de acero inoxidable de nuestra recubridora proporciona una excelente durabilidad y resistencia a la corrosión, lo que garantiza una larga vida útil y un rendimiento óptimo.Su diseño de escritorio compacto permite una fácil instalación e integración en cualquier laboratorio o instalación de investigación.
Equipada con tecnología de pulverización catódica con magnetrón de última generación, esta recubridora ofrece mayor eficiencia y productividad.Permite una deposición de película rápida y eficiente, ahorrando tiempo y recursos valiosos.Los parámetros ajustables y los controles intuitivos facilitan la personalización del proceso de recubrimiento según requisitos específicos.
Nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único de escritorio es la elección perfecta para los profesionales de la industria cinematográfica electrónica.Su diseño profesional y elegante, combinado con sus características excepcionales, lo convierte en una herramienta esencial para cualquier laboratorio o centro de investigación.Confíe en nuestra recubridora para obtener resultados sobresalientes y elevar sus procesos de deposición de películas a nuevas alturas.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:
nombre del producto | Objetivo único de escritorio Recubridor por pulverización catódica con magnetrón y cavidad de acero inoxidable. |
Modelo del Producto | TN-MSP190S-1T-A |
Condición de instalación | 1, temperatura ambiente de trabajo: 25 ℃ ± 15 ℃, humedad: 55% Rh ± 10% Rh; 2, fuente de alimentación del equipo: CA 220 V, 50 Hz, debe estar bien conectada a tierra; 3, potencia nominal: 1000w; 4,Equipo para gas: La cámara del equipo debe llenarse con gas argón para su limpieza. El cliente debe preparar gas argón con una pureza ≥99,99%. 5, requisitos de tamaño de la mesa: 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacidad de carga ≥ 50 kg; 6, la posición debe estar bien ventilada y refrigerada. |
Indicadores Técnicos | 1. Fuente de alimentación intermitente: fuente de alimentación CC 300 W; voltaje de salida máximo 600 V, salida de corriente limitada 500 mA 2. Objetivo del magnetrón: objetivo de equilibrio de 2 pulgadas, magnético deflector de acoplamiento; 3. Material objetivo adecuado: φ50 mm x 3 mm de espesor 4 、 Tamaño de la cavidad: exterior diámetro 194, diámetro interior 186 mm x altura 230 mm 5. Material de la cavidad: acero inoxidable 304. 6 、 Muestra de calentamiento giratoria mesa: rotar velocidad 1~20rpm continuamente ajustable; calentamiento máximo temperatura 500 ℃, el Velocidad de calentamiento más baja recomendada 10 ℃/min, la Velocidad de calentamiento más alta recomendada: 20 ℃/min. 7. Modo de enfriamiento: objetivo magnético y La bomba molecular requiere un enfriador de agua circulante. 8 、 Máquina de refrigeración por agua: volumen del tanque 9L, flujo tasa 10L/min 9 、 Sistema de suministro de gas: medidor de flujo másico, tipo de Gas argón, flujo 1 ~ 30 sccm (personalizable) 10. Precisión del caudalímetro: ±1,5 % del rango de medición. 11 、 La interfaz de bombeo de aire de la cámara de vacío es KF25 12. La interfaz de entrada de aire está Junta de doble virola de 1/4 de pulgada 13 、 La pantalla táctil es de 7 pulgadas pantalla táctil a color 14 、 pulverización ajustable Se pueden configurar el valor actual de seguridad de pulverización y el valor de vacío de seguridad; 15, Protección de seguridad: sobrecorriente, el vacío es demasiado bajo. corta automáticamente la corriente de pulverización 16 、 Vacío máximo: 5E-4Pa (molecular coincidente bomba); 17 、 Vacío La medición es el vacuómetro Paraná, el rango es: 1 ~ 105 Pa. |
Aviso | 1, pulverización magnetrón Tiene un vacío de trabajo alto, generalmente dentro de 2 Pa, y debe usarse con moléculas. bomba. 2, para lograr un En un entorno con alto contenido de oxígeno, la cámara de vacío debe limpiarse al menos 3 veces con gas inerte de alta pureza. 3, la farfulla magnetrón es sensible a la entrada de aire, por lo que se necesita un medidor de flujo másico para controlar la entrada de aire |
Accesorio opcional | |
Película monitor de espesor | 1, espesor de la película Resolución: 0,0136 Å (aluminio) 2, precisión de la película espesor: ± 0,5%, Depende de las condiciones del proceso, especialmente la posición del sensor, la tensión del material, temperatura y densidad 3, velocidad de medición: 100 ms-1 s/veces, medición Se puede configurar el rango: 500000Å (aluminio) 4, cristal sensor estándar: 6MHz 5, adecuado para oblea frecuencia: 6MHz adecuado para tamaño de oblea: Φ14 mm brida de montaje: CF35 |
Otro accesorio | · 1, serie CY-CZK103 de alto rendimiento conjunto de bomba molecular (incluido vacuómetro compuesto, rango de medición 10-5Pa~105Pa) Conjunto de bomba molecular pequeña serie CY-GZK60 (incluido vacuómetro compuesto, rango de medición 10-5Pa~102Pa) Paleta rotativa bipolar VRD-4 bomba aspiradora 2, fuelles de vacío KF25; La longitud puede ser de 0,5 m, 1 mo 1,5 m.Soporte de abrazadera KF40 3, medidor de espesor de película Oscilador de cristal; |
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único de escritorio con cavidad de acero inoxidable para películas electrónicas.Esta recubridora avanzada está diseñada para satisfacer las necesidades de los profesionales en el campo, ofreciendo un rendimiento y confiabilidad excepcionales.
Nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón es capaz de preparar películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones tanto de una sola capa como de múltiples capas.Con su tecnología de vanguardia, esta recubridora garantiza una deposición precisa y uniforme de películas, lo que da como resultado resultados consistentes y de alta calidad.
La cavidad de acero inoxidable de nuestra recubridora proporciona una excelente durabilidad y resistencia a la corrosión, lo que garantiza una larga vida útil y un rendimiento óptimo.Su diseño de escritorio compacto permite una fácil instalación e integración en cualquier laboratorio o instalación de investigación.
Equipada con tecnología de pulverización catódica con magnetrón de última generación, esta recubridora ofrece mayor eficiencia y productividad.Permite una deposición de película rápida y eficiente, ahorrando tiempo y recursos valiosos.Los parámetros ajustables y los controles intuitivos facilitan la personalización del proceso de recubrimiento según requisitos específicos.
Nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único de escritorio es la elección perfecta para los profesionales de la industria cinematográfica electrónica.Su diseño profesional y elegante, combinado con sus características excepcionales, lo convierte en una herramienta esencial para cualquier laboratorio o centro de investigación.Confíe en nuestra recubridora para obtener resultados sobresalientes y elevar sus procesos de deposición de películas a nuevas alturas.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:
nombre del producto | Objetivo único de escritorio Recubridor por pulverización catódica con magnetrón y cavidad de acero inoxidable. |
Modelo del Producto | TN-MSP190S-1T-A |
Condición de instalación | 1, temperatura ambiente de trabajo: 25 ℃ ± 15 ℃, humedad: 55% Rh ± 10% Rh; 2, fuente de alimentación del equipo: CA 220 V, 50 Hz, debe estar bien conectada a tierra; 3, potencia nominal: 1000w; 4,Equipo para gas: La cámara del equipo debe llenarse con gas argón para su limpieza. El cliente debe preparar gas argón con una pureza ≥99,99%. 5, requisitos de tamaño de la mesa: 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacidad de carga ≥ 50 kg; 6, la posición debe estar bien ventilada y refrigerada. |
Indicadores Técnicos | 1. Fuente de alimentación intermitente: fuente de alimentación CC 300 W; voltaje de salida máximo 600 V, salida de corriente limitada 500 mA 2. Objetivo del magnetrón: objetivo de equilibrio de 2 pulgadas, magnético deflector de acoplamiento; 3. Material objetivo adecuado: φ50 mm x 3 mm de espesor 4 、 Tamaño de la cavidad: exterior diámetro 194, diámetro interior 186 mm x altura 230 mm 5. Material de la cavidad: acero inoxidable 304. 6 、 Muestra de calentamiento giratoria mesa: rotar velocidad 1~20rpm continuamente ajustable; calentamiento máximo temperatura 500 ℃, el Velocidad de calentamiento más baja recomendada 10 ℃/min, la Velocidad de calentamiento más alta recomendada: 20 ℃/min. 7. Modo de enfriamiento: objetivo magnético y La bomba molecular requiere un enfriador de agua circulante. 8 、 Máquina de refrigeración por agua: volumen del tanque 9L, flujo tasa 10L/min 9 、 Sistema de suministro de gas: medidor de flujo másico, tipo de Gas argón, flujo 1 ~ 30 sccm (personalizable) 10. Precisión del caudalímetro: ±1,5 % del rango de medición. 11 、 La interfaz de bombeo de aire de la cámara de vacío es KF25 12. La interfaz de entrada de aire está Junta de doble virola de 1/4 de pulgada 13 、 La pantalla táctil es de 7 pulgadas pantalla táctil a color 14 、 pulverización ajustable Se pueden configurar el valor actual de seguridad de pulverización y el valor de vacío de seguridad; 15, Protección de seguridad: sobrecorriente, el vacío es demasiado bajo. corta automáticamente la corriente de pulverización 16 、 Vacío máximo: 5E-4Pa (molecular coincidente bomba); 17 、 Vacío La medición es el vacuómetro Paraná, el rango es: 1 ~ 105 Pa. |
Aviso | 1, pulverización magnetrón Tiene un vacío de trabajo alto, generalmente dentro de 2 Pa, y debe usarse con moléculas. bomba. 2, para lograr un En un entorno con alto contenido de oxígeno, la cámara de vacío debe limpiarse al menos 3 veces con gas inerte de alta pureza. 3, la farfulla magnetrón es sensible a la entrada de aire, por lo que se necesita un medidor de flujo másico para controlar la entrada de aire |
Accesorio opcional | |
Película monitor de espesor | 1, espesor de la película Resolución: 0,0136 Å (aluminio) 2, precisión de la película espesor: ± 0,5%, Depende de las condiciones del proceso, especialmente la posición del sensor, la tensión del material, temperatura y densidad 3, velocidad de medición: 100 ms-1 s/veces, medición Se puede configurar el rango: 500000Å (aluminio) 4, cristal sensor estándar: 6MHz 5, adecuado para oblea frecuencia: 6MHz adecuado para tamaño de oblea: Φ14 mm brida de montaje: CF35 |
Otro accesorio | · 1, serie CY-CZK103 de alto rendimiento conjunto de bomba molecular (incluido vacuómetro compuesto, rango de medición 10-5Pa~105Pa) Conjunto de bomba molecular pequeña serie CY-GZK60 (incluido vacuómetro compuesto, rango de medición 10-5Pa~102Pa) Paleta rotativa bipolar VRD-4 bomba aspiradora 2, fuelles de vacío KF25; La longitud puede ser de 0,5 m, 1 mo 1,5 m.Soporte de abrazadera KF40 3, medidor de espesor de película Oscilador de cristal; |
