Recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos con cámara de transición para película cerámica

Modelo del Producto

TN-MSP325G-3T-DVC-2DC-1RF

Condiciones de instalación

1. Temperatura ambiente de funcionamiento 25 ℃ ± 15 ℃, humedad 55 % Rh ± 10 % Rh;

2. Fuente de alimentación del equipo: CA 220 V, 50 Hz, debe estar bien conectada a tierra;

3. Potencia nominal: 5000w;

4. Gas del equipo: la cámara del equipo debe llenarse con argón para su limpieza y el cliente debe preparar argón, con una pureza de ≥99,99%;

5. El tamaño del lugar es de 1200 mm × 1200 mm × 2000 mm;

6. La posición de colocación requiere buena ventilación y disipación de calor.

Parámetros técnicos

1. Fuente de alimentación de pulverización: fuente de alimentación CC 500 W x2;voltaje de salida máximo 600 V, corriente de salida límite 1000 mA

2. Objetivo magnetrón: objetivo equilibrado de 2 pulgadas con deflector de acoplamiento magnético;

3. Material objetivo aplicable para el objetivo del magnetrón: material objetivo de metal conductor de φ50 mm x 3 mm de espesor

4. Tamaño de la cavidad: cavidad principal φ325 mm x 410 mm;cavidad de transición 150x150x150mm

5. Función de la cámara: la cámara principal está equipada con una puerta lateral sellada por un anillo de sellado, una ventana de observación de cuarzo con un deflector y una varilla de operación manual para transferir muestras.La cámara de transición está equipada con una cubierta superior con una ventana de cuarzo sellada por un anillo de sellado, una varilla de empuje de acoplamiento magnético para transportar muestras a la cámara principal y un sistema de vacío independiente.

6. Material de la cavidad: acero inoxidable 304.

7. Mesa de muestra de calentamiento giratoria: la velocidad se puede ajustar continuamente de 1 a 20 rpm;la temperatura de calentamiento es de hasta 500 °C, se recomienda que la velocidad de calentamiento sea de 10 °C/min y la temperatura máxima sea de 20 °C/min.

8. Método de enfriamiento: el objetivo del magnetrón y la bomba molecular necesitan un enfriador de agua circulante;

9. Enfriador de agua: volumen del tanque de agua 9L, caudal 10L/min

10. Sistema de suministro de gas: medidor de flujo másico, gas tipo AR, caudal 1~200sccm (personalizable);

11. Precisión del medidor de flujo: rango de ±1,5%

12. La interfaz de bombeo de la cámara de vacío es CF160;

13. La interfaz de entrada de aire es una junta de doble férula de 1/4 de pulgada;

14. La pantalla consta de 14 computadoras industriales todo en uno;

15. Se puede ajustar la corriente de pulverización catódica y se pueden configurar el valor de corriente segura de pulverización catódica y el valor de vacío seguro;

16. Protección de seguridad: la corriente de pulverización se cortará automáticamente cuando la sobrecorriente y el vacío sean demasiado bajos;

17. Sistema de vacío: la cámara principal está equipada con una bomba molecular de alto vacío TN-GZK103 con una velocidad de bombeo de 600 L/s;la cámara de transición está equipada con una pequeña bomba molecular con una velocidad de bombeo de 60 l/s.Los dos conjuntos de sistemas de vacío pueden funcionar y controlarse de forma independiente, y las válvulas neumáticas entre las cámaras y en el sistema de vacío están controladas por programas, que pueden realizar una acción con una sola tecla, lo cual es conveniente y rápido.

18. Vacío máximo: 5E-4Pa (con bomba molecular);

19. La medición de vacío es un vacuómetro compuesto y su rango es: 10-5Pa~105Pa

Precauciones

1. Para lograr un ambiente libre de oxígeno, la cámara de vacío debe limpiarse con gas inerte de alta pureza al menos 3 veces.

2. La pulverización catódica con magnetrón es más sensible al volumen de aire de entrada y es necesario utilizar un medidor de flujo másico para controlar el volumen de aire de entrada.

3. Mantenga la cavidad al vacío cuando el equipo no esté en uso.

4. Si no se ha aspirado durante mucho tiempo, se debe desgasificar cuando se vuelva a utilizar para mejorar el rendimiento del vacío.

Accesorios Opcionales

Monitor de espesor de película

1. Resolución del espesor de la película: 0,0136 Å (aluminio)

2. Precisión del espesor de la película: ±0,5%, dependiendo de las condiciones del proceso, especialmente la posición del sensor, la tensión del material, la temperatura y la densidad.

3. Velocidad de medición: 100 ms-1 s/tiempo, el rango de medición se puede configurar: 500000 Å (aluminio)

4. Cristal sensor estándar: 6MHz

5. Frecuencia de chip aplicable: 6MHz Tamaño de chip aplicable: Φ14mm Brida de montaje: CF35

Otros accesorios

1. Conjunto de bomba molecular de alto rendimiento serie TN-CZK103 (incluido vacuómetro compuesto, rango de medición 10-5Pa~105Pa);

Conjunto de bomba molecular pequeña serie TN-GZK60 (incluido vacuómetro compuesto, rango de medición 10-5Pa~102Pa)

Bomba de vacío de paletas rotativas bipolar VRD-4;

2. Fuelles de vacío KF25/40;la longitud puede ser de 0,5 m, 1 m, 1,5 m;Soporte de abrazadera KF25

3. Oscilador de cristal del medidor de espesor de película;