| Cantidad: | |
|---|---|
CY-MSP325S-2DC-1RF
TN
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de acero inoxidable de tres objetivos está equipado con una cámara de acero inoxidable y tres objetivos de pulverización catódica con magnetrón, lo que permite una deposición eficiente y precisa de materiales.El recubridor también incluye un medidor de espesor de película, lo que garantiza un control preciso del espesor de la película durante el proceso de recubrimiento.
Con su avanzada tecnología de pulverización catódica con magnetrón, esta recubridora es capaz de producir películas delgadas de alta calidad con excelente adhesión y uniformidad.La cámara de acero inoxidable proporciona un ambiente limpio y estable para la deposición de la película, minimizando la contaminación y garantizando resultados consistentes.
Ya sea que necesite preparar películas delgadas de ITO (óxido de indio y estaño) u otras películas funcionales, este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es una solución confiable y versátil.Su interfaz fácil de usar y sus controles intuitivos facilitan su uso, incluso para usuarios con experiencia limitada.
La recubridora está diseñada con componentes de calidad profesional y construida para resistir el uso continuo en un laboratorio o entorno de producción.Su construcción robusta y su rendimiento confiable garantizan una durabilidad a largo plazo y requisitos mínimos de mantenimiento.
Invierta en el recubridor por pulverización catódica con magnetrón de acero inoxidable de tres objetivos con medidor de espesor de película para ITO Indium T y experimente una deposición de película eficiente y precisa para una amplia gama de aplicaciones.Con sus características de nivel profesional y su diseño fácil de usar, esta recubridora es la elección perfecta para investigadores, ingenieros y fabricantes que buscan recubrimientos de película delgada de alta calidad.
Etapa de muestra | Tamaño | Diámetro 140 mm |
Temperatura de calentamiento | Máximo 500 ℃ | |
Precisión de temperatura | ±1℃ | |
Velocidad rotacional | 1-20 rpm ajustable | |
Cabezal de pulverización magnetrón | Cantidad | 2'×3 (1',2' opcional) |
Modo de enfriamiento | Refrigeración por agua | |
Enfriador de agua | Enfriador de agua circulante con caudal de 10 l/min. | |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Diámetro 300 mm × 300 mm |
Material de la cámara | Acero inoxidable | |
ventana de observación | Diámetro 100 mm | |
Modo de apertura | Tapa superior abierta | |
Medidor de flujo de masa | 2 canales;rango de medición 100SCCM;100SCCM (se puede personalizar según las necesidades del cliente) | |
Sistema de vacío | Modelo | TN-GZK103-A |
bomba molecular | TN-600 | |
Bomba de respaldo | Bomba rotativa de paletas | |
Vacío definitivo | 1.0E-5Pa | |
Interfaz de bombeo | CF160 | |
Interfaz de escape | KF40 | |
Medición de vacío | Vacuómetro compuesto | |
Fuente de alimentación | CA; 220V 50/60Hz | |
Tasa de bombeo | Bomba molecular: 600L/S Bomba rotativa de paletas: 1,1L/S Rendimiento integral de bombeo de gas: vacío de hasta 1,0E-3Pa en 20 minutos | |
Configuración de energía | Cantidad | Fuente de alimentación CC x2 Fuente de alimentación RF x1 |
Potencia máxima de salida | CC 500 W, RF 500 W | |
Otros parámetros | Tensión de alimentación | CA 220 V, 50 Hz. |
Poder total | 4kW | |
Tamaño global | 600 mm × 650 mm × 1200 mm | |
Peso total | Alrededor de 350 kg | |
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de acero inoxidable de tres objetivos está equipado con una cámara de acero inoxidable y tres objetivos de pulverización catódica con magnetrón, lo que permite una deposición eficiente y precisa de materiales.El recubridor también incluye un medidor de espesor de película, lo que garantiza un control preciso del espesor de la película durante el proceso de recubrimiento.
Con su avanzada tecnología de pulverización catódica con magnetrón, esta recubridora es capaz de producir películas delgadas de alta calidad con excelente adhesión y uniformidad.La cámara de acero inoxidable proporciona un ambiente limpio y estable para la deposición de la película, minimizando la contaminación y garantizando resultados consistentes.
Ya sea que necesite preparar películas delgadas de ITO (óxido de indio y estaño) u otras películas funcionales, este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es una solución confiable y versátil.Su interfaz fácil de usar y sus controles intuitivos facilitan su uso, incluso para usuarios con experiencia limitada.
La recubridora está diseñada con componentes de calidad profesional y construida para resistir el uso continuo en un laboratorio o entorno de producción.Su construcción robusta y su rendimiento confiable garantizan una durabilidad a largo plazo y requisitos mínimos de mantenimiento.
Invierta en el recubridor por pulverización catódica con magnetrón de acero inoxidable de tres objetivos con medidor de espesor de película para ITO Indium T y experimente una deposición de película eficiente y precisa para una amplia gama de aplicaciones.Con sus características de nivel profesional y su diseño fácil de usar, esta recubridora es la elección perfecta para investigadores, ingenieros y fabricantes que buscan recubrimientos de película delgada de alta calidad.
Etapa de muestra | Tamaño | Diámetro 140 mm |
Temperatura de calentamiento | Máximo 500 ℃ | |
Precisión de temperatura | ±1℃ | |
Velocidad rotacional | 1-20 rpm ajustable | |
Cabezal de pulverización magnetrón | Cantidad | 2'×3 (1',2' opcional) |
Modo de enfriamiento | Refrigeración por agua | |
Enfriador de agua | Enfriador de agua circulante con caudal de 10 l/min. | |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Diámetro 300 mm × 300 mm |
Material de la cámara | Acero inoxidable | |
ventana de observación | Diámetro 100 mm | |
Modo de apertura | Tapa superior abierta | |
Medidor de flujo de masa | 2 canales;rango de medición 100SCCM;100SCCM (se puede personalizar según las necesidades del cliente) | |
Sistema de vacío | Modelo | TN-GZK103-A |
bomba molecular | TN-600 | |
Bomba de respaldo | Bomba rotativa de paletas | |
Vacío definitivo | 1.0E-5Pa | |
Interfaz de bombeo | CF160 | |
Interfaz de escape | KF40 | |
Medición de vacío | Vacuómetro compuesto | |
Fuente de alimentación | CA; 220V 50/60Hz | |
Tasa de bombeo | Bomba molecular: 600L/S Bomba rotativa de paletas: 1,1L/S Rendimiento integral de bombeo de gas: vacío de hasta 1,0E-3Pa en 20 minutos | |
Configuración de energía | Cantidad | Fuente de alimentación CC x2 Fuente de alimentación RF x1 |
Potencia máxima de salida | CC 500 W, RF 500 W | |
Otros parámetros | Tensión de alimentación | CA 220 V, 50 Hz. |
Poder total | 4kW | |
Tamaño global | 600 mm × 650 mm × 1200 mm | |
Peso total | Alrededor de 350 kg | |
