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TN-MSP360G-1DC
TN
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único, un equipo avanzado y versátil diseñado para la preparación de películas de precisión.Con sus capacidades excepcionales, este recubridor es ideal para crear películas de una o varias capas en diversas aplicaciones, incluidas películas ferroeléctricas, conductoras, de aleaciones, semiconductoras, cerámicas, dieléctricas, ópticas, de óxido y duras.
Nuestro recubridor de última generación utiliza tecnología de pulverización catódica con magnetrón de última generación, lo que garantiza una deposición precisa y uniforme de materiales sobre los sustratos.Esto permite a los investigadores y fabricantes lograr una calidad y consistencia de película superiores, satisfaciendo las demandas incluso de los proyectos más complejos.
Con una construcción robusta y una interfaz fácil de usar, nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de CC de un solo objetivo ofrece confiabilidad y facilidad de operación incomparables.Su avanzado sistema de control permite un control preciso de los parámetros de deposición, como el espesor de la película, la tasa de deposición y la utilización del objetivo, brindando a los usuarios una flexibilidad y precisión inigualables.
Equipada con un sistema de vacío de alto rendimiento, esta recubridora garantiza un ambiente limpio y libre de contaminación durante el proceso de deposición.Además, su eficiente sistema de refrigeración garantiza un control óptimo de la temperatura, evitando posibles daños a materiales sensibles.
Diseñado con la máxima atención al detalle, nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo está diseñado para soportar un uso riguroso y ofrecer resultados excepcionales.Su tamaño compacto lo hace adecuado para diversos entornos industriales o de laboratorio, mientras que su diseño energéticamente eficiente ayuda a reducir los costos operativos sin comprometer el rendimiento.
Invierta en nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único y descubra posibilidades ilimitadas en la preparación de películas.Con sus excelentes características y rendimiento de nivel profesional, este equipo es la elección perfecta para investigadores, ingenieros y fabricantes que buscan alcanzar la excelencia en sus procesos de deposición de películas.
Soltero Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón DC objetivo | ||
Muestra Mesa | Dimensiones totales | Ø 360 mm |
RPM ajustables | 1-20 rpm ajustable | |
Controlado por magneto objetivo pistola | Plano objetivo | Objetivo plano circular |
vacío de pulverización | 0,1 Pa a 3 Pa | |
Diámetro objetivo | 100 a 101,6 mm | |
Espesor objetivo | 3mm | |
Tensión de aislamiento | >2000V | |
Especificaciones de cables | SL-16 | |
Temperatura objetivo de la cabeza | ≦ 65℃ | |
Vacío cámara | Tratamiento de la pared interior | Pulido electrolítico |
Tamaño de la cavidad | Φ500mm x 500mm | |
Material de la cavidad | acero inoxidable 304 | |
ventana de visualización | Ventana de cuarzo, φ100 mm de diámetro | |
Método de apertura | Apertura lateral | |
Gas control | Control de flujo | Caudalímetro másico, rango de medición 0 ~ 100SCCM |
Tipo de gas | Argón, nitrógeno, oxígeno y otros gases. son disponible | |
Tipos de válvulas reguladoras | Regulador de solenoide | |
Estado estático de la válvula reguladora. | Cierre normal | |
Medición de linealidad | Más o menos 1,5% FS | |
Medición precisión de repetición | Más o menos 0,2% FS | |
Medir el tiempo de respuesta | ≤8 segundos (T95) | |
Rango de trabajo diferencia de presión | 0,3 MPa | |
Cuerpo resistente a la presión | 3MPa | |
Temperatura ambiente de trabajo | (5 ~ 45)℃ | |
Cuerpo material | Acero inoxidable 316L | |
Tasa de fuga del cuerpo | 1×10-8Pa.m3/s | |
Accesorios de tuberia | 1/4 'uniones encamisadas | |
Señales de entrada/salida | 0 a 5V | |
Fuente de alimentación | ±15V (±5%) (+15V 50mA, -15V 200mA) | |
Dimensiones totales mm | 130 (ancho) x 102 (alto) x 28 (alto) | |
Interface de comunicación | Protocolo RS485 MODBUS | |
Energía DC suministrar | Fuente de alimentación | 1500W |
Película espesor medirme Nuevo Testamento | Requerimientos de energía | CC: 5 V (± 10 %) Corriente máxima 400 mA |
Resolución | ±0,03 Hz (5-6 MHz), 0,0136 A/medida (aluminio) | |
Precisión de la medición | ±0,5 % de espesor +1 recuento | |
Ciclo de medición | 100mS ~ 1S/tiempo (se puede configurar) | |
Rango de medición | 500.000 A (aluminio) | |
Frecuencia de cristal | 6MHz | |
Interface de comunicación | Interfaz serie RS-232/485 | |
bits de visualización | Pantalla LED de 8 bits | |
Molecular bomba | Velocidad de bombeo molecular | 1200L/S |
velocidad nominal | 24000 rpm | |
Valor de vibración | ≦ 0,1 micras | |
Tiempo de inicio | 5 minutos | |
Falta del tiempo | 7 minutos | |
método de enfriamiento | Refrigeración por agua + refrigeración por aire | |
Temperatura del agua de refrigeración | ≦37℃ | |
Caudal de agua de refrigeración | 1L/minuto | |
Dirección de montaje | Vertical ±5. | |
Interfaz de extracción de aire | 150CF | |
Puerto de escape | KF40 | |
Frente bomba | Tasa de bombeo | VRD-16 |
Vacío definitivo | 1Pa | |
Fuente de alimentación | CA: 220 V/50 Hz. | |
Fuerza de motor | 400W | |
Ruido | ≦56dB | |
Interfaz de extracción de aire | KF40 | |
Puerto de escape | KF25 | |
Válvula | Válvula de compuerta | Se dispone una válvula de compuerta entre el vacío cámara y bomba molecular |
válvula de corte | Se instala una válvula de corte entre el bomba molecular y la etapa frontal | |
Válvula de drenaje lateral | Se instala una válvula de drenaje lateral entre el cámara de vacío y la etapa frontal | |
válvula de purga | Una válvula de purga electromagnética es instalado en la cámara de vacío | |
Vacío último del conjunto. máquina | ≦5X10-4Pa | |
Objetivo de prueba | 1 pieza de objetivo de níquel de 4 pulgadas de diámetro y 3 mm de espesor | |
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único, un equipo avanzado y versátil diseñado para la preparación de películas de precisión.Con sus capacidades excepcionales, este recubridor es ideal para crear películas de una o varias capas en diversas aplicaciones, incluidas películas ferroeléctricas, conductoras, de aleaciones, semiconductoras, cerámicas, dieléctricas, ópticas, de óxido y duras.
Nuestro recubridor de última generación utiliza tecnología de pulverización catódica con magnetrón de última generación, lo que garantiza una deposición precisa y uniforme de materiales sobre los sustratos.Esto permite a los investigadores y fabricantes lograr una calidad y consistencia de película superiores, satisfaciendo las demandas incluso de los proyectos más complejos.
Con una construcción robusta y una interfaz fácil de usar, nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de CC de un solo objetivo ofrece confiabilidad y facilidad de operación incomparables.Su avanzado sistema de control permite un control preciso de los parámetros de deposición, como el espesor de la película, la tasa de deposición y la utilización del objetivo, brindando a los usuarios una flexibilidad y precisión inigualables.
Equipada con un sistema de vacío de alto rendimiento, esta recubridora garantiza un ambiente limpio y libre de contaminación durante el proceso de deposición.Además, su eficiente sistema de refrigeración garantiza un control óptimo de la temperatura, evitando posibles daños a materiales sensibles.
Diseñado con la máxima atención al detalle, nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo está diseñado para soportar un uso riguroso y ofrecer resultados excepcionales.Su tamaño compacto lo hace adecuado para diversos entornos industriales o de laboratorio, mientras que su diseño energéticamente eficiente ayuda a reducir los costos operativos sin comprometer el rendimiento.
Invierta en nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único y descubra posibilidades ilimitadas en la preparación de películas.Con sus excelentes características y rendimiento de nivel profesional, este equipo es la elección perfecta para investigadores, ingenieros y fabricantes que buscan alcanzar la excelencia en sus procesos de deposición de películas.
Soltero Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón DC objetivo | ||
Muestra Mesa | Dimensiones totales | Ø 360 mm |
RPM ajustables | 1-20 rpm ajustable | |
Controlado por magneto objetivo pistola | Plano objetivo | Objetivo plano circular |
vacío de pulverización | 0,1 Pa a 3 Pa | |
Diámetro objetivo | 100 a 101,6 mm | |
Espesor objetivo | 3mm | |
Tensión de aislamiento | >2000V | |
Especificaciones de cables | SL-16 | |
Temperatura objetivo de la cabeza | ≦ 65℃ | |
Vacío cámara | Tratamiento de la pared interior | Pulido electrolítico |
Tamaño de la cavidad | Φ500mm x 500mm | |
Material de la cavidad | acero inoxidable 304 | |
ventana de visualización | Ventana de cuarzo, φ100 mm de diámetro | |
Método de apertura | Apertura lateral | |
Gas control | Control de flujo | Caudalímetro másico, rango de medición 0 ~ 100SCCM |
Tipo de gas | Argón, nitrógeno, oxígeno y otros gases. son disponible | |
Tipos de válvulas reguladoras | Regulador de solenoide | |
Estado estático de la válvula reguladora. | Cierre normal | |
Medición de linealidad | Más o menos 1,5% FS | |
Medición precisión de repetición | Más o menos 0,2% FS | |
Medir el tiempo de respuesta | ≤8 segundos (T95) | |
Rango de trabajo diferencia de presión | 0,3 MPa | |
Cuerpo resistente a la presión | 3MPa | |
Temperatura ambiente de trabajo | (5 ~ 45)℃ | |
Cuerpo material | Acero inoxidable 316L | |
Tasa de fuga del cuerpo | 1×10-8Pa.m3/s | |
Accesorios de tuberia | 1/4 'uniones encamisadas | |
Señales de entrada/salida | 0 a 5V | |
Fuente de alimentación | ±15V (±5%) (+15V 50mA, -15V 200mA) | |
Dimensiones totales mm | 130 (ancho) x 102 (alto) x 28 (alto) | |
Interface de comunicación | Protocolo RS485 MODBUS | |
Energía DC suministrar | Fuente de alimentación | 1500W |
Película espesor medirme Nuevo Testamento | Requerimientos de energía | CC: 5 V (± 10 %) Corriente máxima 400 mA |
Resolución | ±0,03 Hz (5-6 MHz), 0,0136 A/medida (aluminio) | |
Precisión de la medición | ±0,5 % de espesor +1 recuento | |
Ciclo de medición | 100mS ~ 1S/tiempo (se puede configurar) | |
Rango de medición | 500.000 A (aluminio) | |
Frecuencia de cristal | 6MHz | |
Interface de comunicación | Interfaz serie RS-232/485 | |
bits de visualización | Pantalla LED de 8 bits | |
Molecular bomba | Velocidad de bombeo molecular | 1200L/S |
velocidad nominal | 24000 rpm | |
Valor de vibración | ≦ 0,1 micras | |
Tiempo de inicio | 5 minutos | |
Falta del tiempo | 7 minutos | |
método de enfriamiento | Refrigeración por agua + refrigeración por aire | |
Temperatura del agua de refrigeración | ≦37℃ | |
Caudal de agua de refrigeración | 1L/minuto | |
Dirección de montaje | Vertical ±5. | |
Interfaz de extracción de aire | 150CF | |
Puerto de escape | KF40 | |
Frente bomba | Tasa de bombeo | VRD-16 |
Vacío definitivo | 1Pa | |
Fuente de alimentación | CA: 220 V/50 Hz. | |
Fuerza de motor | 400W | |
Ruido | ≦56dB | |
Interfaz de extracción de aire | KF40 | |
Puerto de escape | KF25 | |
Válvula | Válvula de compuerta | Se dispone una válvula de compuerta entre el vacío cámara y bomba molecular |
válvula de corte | Se instala una válvula de corte entre el bomba molecular y la etapa frontal | |
Válvula de drenaje lateral | Se instala una válvula de drenaje lateral entre el cámara de vacío y la etapa frontal | |
válvula de purga | Una válvula de purga electromagnética es instalado en la cámara de vacío | |
Vacío último del conjunto. máquina | ≦5X10-4Pa | |
Objetivo de prueba | 1 pieza de objetivo de níquel de 4 pulgadas de diámetro y 3 mm de espesor | |
