| Cantidad: | |
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TN-PSP180G-3TA-RS
TN
Gracias a esta tecnología, se garantiza un recubrimiento de película fina uniforme y de alta calidad.La máquina está equipada con un enfriador de agua para mantener una temperatura estable durante el proceso de recubrimiento, asegurando resultados consistentes y precisos.
Con su diseño compacto, esta máquina recubridora por pulverización catódica con objetivo giratorio es perfecta para laboratorios o instituciones de investigación con espacio limitado.Es fácil de operar gracias a su interfaz fácil de usar y controles intuitivos.El método de pulverización catódica en dos etapas permite un control preciso del espesor del recubrimiento, lo que lo hace adecuado para diversas aplicaciones.
La máquina es capaz de recubrir una amplia gama de materiales, incluidos metales, cerámicas y polímeros.Se puede utilizar para la preparación de muestras SEM, experimentos de recubrimiento de metales o cualquier otra aplicación de recubrimiento de película delgada.La tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura garantiza un daño mínimo al sustrato y una excelente adherencia del recubrimiento.
Con su alta eficiencia y confiabilidad, esta máquina recubridora por pulverización catódica por plasma es una herramienta esencial para cualquier laboratorio o instalación de investigación.Ofrece resultados precisos y consistentes, lo que ayuda a los investigadores y científicos a lograr con facilidad los recubrimientos de película delgada que desean.Invierta en esta máquina recubridora de calidad profesional y mejore sus capacidades de investigación hoy.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-3TA-RS | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
Gracias a esta tecnología, se garantiza un recubrimiento de película fina uniforme y de alta calidad.La máquina está equipada con un enfriador de agua para mantener una temperatura estable durante el proceso de recubrimiento, asegurando resultados consistentes y precisos.
Con su diseño compacto, esta máquina recubridora por pulverización catódica con objetivo giratorio es perfecta para laboratorios o instituciones de investigación con espacio limitado.Es fácil de operar gracias a su interfaz fácil de usar y controles intuitivos.El método de pulverización catódica en dos etapas permite un control preciso del espesor del recubrimiento, lo que lo hace adecuado para diversas aplicaciones.
La máquina es capaz de recubrir una amplia gama de materiales, incluidos metales, cerámicas y polímeros.Se puede utilizar para la preparación de muestras SEM, experimentos de recubrimiento de metales o cualquier otra aplicación de recubrimiento de película delgada.La tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura garantiza un daño mínimo al sustrato y una excelente adherencia del recubrimiento.
Con su alta eficiencia y confiabilidad, esta máquina recubridora por pulverización catódica por plasma es una herramienta esencial para cualquier laboratorio o instalación de investigación.Ofrece resultados precisos y consistentes, lo que ayuda a los investigadores y científicos a lograr con facilidad los recubrimientos de película delgada que desean.Invierta en esta máquina recubridora de calidad profesional y mejore sus capacidades de investigación hoy.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-3TA-RS | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
