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TN-PSP180G-2TA-RSH
TN
Gracias a esta tecnología, garantiza un recubrimiento uniforme y de alta calidad de una película de oro conductora sobre diversos sustratos.El mini recubridor por pulverización catódica de plasma al vacío de escritorio está equipado con una cámara de vidrio de cuarzo, que proporciona excelente visibilidad y durabilidad.Su tamaño compacto y diseño fácil de usar lo hacen adecuado para uso en laboratorio o producción a pequeña escala.
Con el método de pulverización catódica en dos etapas, esta máquina ofrece un control preciso sobre el proceso de recubrimiento, asegurando resultados consistentes y reproducibles.La tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura permite la deposición de películas delgadas sin dañar muestras sensibles.Esto lo convierte en una opción ideal para la preparación de muestras SEM, donde se requiere un recubrimiento conductor para la obtención de imágenes y el análisis.
El mini recubridor por pulverización catódica por plasma al vacío de escritorio está diseñado para ofrecer un rendimiento confiable y facilidad de uso.Cuenta con una interfaz fácil de usar con controles intuitivos, lo que permite una fácil operación y ajuste de parámetros.La cámara de vidrio de cuarzo no sólo proporciona una excelente visibilidad durante el proceso de recubrimiento sino que también ofrece una resistencia excepcional a la corrosión química y al choque térmico.
Este recubridor por pulverización catódica es compatible con una amplia gama de sustratos, incluidos vidrio, metal, cerámica y materiales semiconductores.Permite la deposición de películas de oro conductoras con espesor ajustable, cumpliendo con los requisitos específicos de diferentes aplicaciones.El recubrimiento uniforme logrado por esta máquina garantiza resultados precisos y confiables en diversos campos de investigación, como la ciencia de materiales, la nanotecnología y el análisis de superficies.
En conclusión, el mini recubridor por pulverización catódica de plasma al vacío de escritorio con cámara de vidrio de cuarzo es un instrumento de nivel profesional adecuado para recubrir películas de oro conductoras.Su método de pulverización catódica en dos etapas, su tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura y su diseño fácil de usar lo convierten en una excelente opción para la preparación de muestras SEM o experimentos de recubrimiento metálico.Con su tamaño compacto y rendimiento confiable, es una herramienta esencial para investigadores y científicos de diversas industrias.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-2TA-RSH | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
Gracias a esta tecnología, garantiza un recubrimiento uniforme y de alta calidad de una película de oro conductora sobre diversos sustratos.El mini recubridor por pulverización catódica de plasma al vacío de escritorio está equipado con una cámara de vidrio de cuarzo, que proporciona excelente visibilidad y durabilidad.Su tamaño compacto y diseño fácil de usar lo hacen adecuado para uso en laboratorio o producción a pequeña escala.
Con el método de pulverización catódica en dos etapas, esta máquina ofrece un control preciso sobre el proceso de recubrimiento, asegurando resultados consistentes y reproducibles.La tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura permite la deposición de películas delgadas sin dañar muestras sensibles.Esto lo convierte en una opción ideal para la preparación de muestras SEM, donde se requiere un recubrimiento conductor para la obtención de imágenes y el análisis.
El mini recubridor por pulverización catódica por plasma al vacío de escritorio está diseñado para ofrecer un rendimiento confiable y facilidad de uso.Cuenta con una interfaz fácil de usar con controles intuitivos, lo que permite una fácil operación y ajuste de parámetros.La cámara de vidrio de cuarzo no sólo proporciona una excelente visibilidad durante el proceso de recubrimiento sino que también ofrece una resistencia excepcional a la corrosión química y al choque térmico.
Este recubridor por pulverización catódica es compatible con una amplia gama de sustratos, incluidos vidrio, metal, cerámica y materiales semiconductores.Permite la deposición de películas de oro conductoras con espesor ajustable, cumpliendo con los requisitos específicos de diferentes aplicaciones.El recubrimiento uniforme logrado por esta máquina garantiza resultados precisos y confiables en diversos campos de investigación, como la ciencia de materiales, la nanotecnología y el análisis de superficies.
En conclusión, el mini recubridor por pulverización catódica de plasma al vacío de escritorio con cámara de vidrio de cuarzo es un instrumento de nivel profesional adecuado para recubrir películas de oro conductoras.Su método de pulverización catódica en dos etapas, su tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura y su diseño fácil de usar lo convierten en una excelente opción para la preparación de muestras SEM o experimentos de recubrimiento metálico.Con su tamaño compacto y rendimiento confiable, es una herramienta esencial para investigadores y científicos de diversas industrias.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-2TA-RSH | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
