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TN-PLZ180-II-DC-Q
TN
El recubridor por pulverización catódica por plasma es un equipo de última generación esencial para depositar películas delgadas de metales, aleaciones, óxidos, nitruros y otros materiales sobre una variedad de sustratos. Esta tecnología avanzada se utiliza comúnmente en industrias como la fabricación de semiconductores, la óptica y la electrónica.
Este recubridor utiliza un proceso de pulverización catódica por plasma, que implica bombardear un material objetivo con iones de alta energía para liberar átomos que luego se depositan sobre el sustrato. Esto da como resultado un recubrimiento de película delgada uniforme y de alta calidad que es esencial para diversas aplicaciones.
El recubridor por pulverización catódica por plasma es muy versátil y se puede utilizar con una amplia gama de materiales y sustratos, incluidos obleas de silicio, vidrio y cerámica. Ofrece un control preciso sobre el proceso de deposición, lo que permite personalizar el espesor, la composición y la estructura de la película.
Con sus funciones y capacidades avanzadas, el recubridor por pulverización catódica por plasma es una herramienta valiosa para investigadores, ingenieros y fabricantes que buscan crear recubrimientos de película delgada de alto rendimiento para una variedad de aplicaciones. Su confiabilidad, eficiencia y precisión lo convierten en un activo indispensable en el campo de la ciencia y la tecnología de materiales.
Artículo | Detalle |
Modelo de producto | TN-PLZ180-II-DC-Q |
Etapa de muestra | Diámetro φ60 mm, puede cambiar automáticamente entre dos posiciones de destino |
Cabezal de pulverización DC | 2'x1 |
Material de la cámara | Cuarzo de alta pureza |
Tamaño de la cámara | ø180mm x 150mm |
bomba de vacío | Bomba rotativa de paletas |
Vacío definitivo | 1.0E-1Pa |
Interfaz de vacío | KF16 brida de vacío |
Entrada de gas | Conector de casquillo φ 6,35 |
Fuente de alimentación | CA 220 V 50 Hz |
poder total | 1,5 KW/2 KW (calefacción giratoria) |
El recubridor por pulverización catódica por plasma es un equipo de última generación esencial para depositar películas delgadas de metales, aleaciones, óxidos, nitruros y otros materiales sobre una variedad de sustratos. Esta tecnología avanzada se utiliza comúnmente en industrias como la fabricación de semiconductores, la óptica y la electrónica.
Este recubridor utiliza un proceso de pulverización catódica por plasma, que implica bombardear un material objetivo con iones de alta energía para liberar átomos que luego se depositan sobre el sustrato. Esto da como resultado un recubrimiento de película delgada uniforme y de alta calidad que es esencial para diversas aplicaciones.
El recubridor por pulverización catódica por plasma es muy versátil y se puede utilizar con una amplia gama de materiales y sustratos, incluidos obleas de silicio, vidrio y cerámica. Ofrece un control preciso sobre el proceso de deposición, lo que permite personalizar el espesor, la composición y la estructura de la película.
Con sus funciones y capacidades avanzadas, el recubridor por pulverización catódica por plasma es una herramienta valiosa para investigadores, ingenieros y fabricantes que buscan crear recubrimientos de película delgada de alto rendimiento para una variedad de aplicaciones. Su confiabilidad, eficiencia y precisión lo convierten en un activo indispensable en el campo de la ciencia y la tecnología de materiales.
Artículo | Detalle |
Modelo de producto | TN-PLZ180-II-DC-Q |
Etapa de muestra | Diámetro φ60 mm, puede cambiar automáticamente entre dos posiciones de destino |
Cabezal de pulverización DC | 2'x1 |
Material de la cámara | Cuarzo de alta pureza |
Tamaño de la cámara | ø180mm x 150mm |
bomba de vacío | Bomba rotativa de paletas |
Vacío definitivo | 1.0E-1Pa |
Interfaz de vacío | KF16 brida de vacío |
Entrada de gas | Conector de casquillo φ 6,35 |
Fuente de alimentación | CA 220 V 50 Hz |
poder total | 1,5 KW/2 KW (calefacción giratoria) |
