| Cantidad: | |
|---|---|
TN-PSP180G-1TA-RS
TN
Con tecnología de punta, proporciona un recubrimiento de oro preciso y uniforme en varias muestras.El diseño compacto de esta recubridora la hace ideal para espacios de laboratorio limitados.
Con su cavidad de cuarzo, este mini recubridor por pulverización catódica por plasma garantiza una alta pureza y estabilidad durante el proceso de recubrimiento.El material de cuarzo ofrece una excelente resistencia al calor y la corrosión, lo que garantiza un rendimiento duradero.
Equipada con un método de pulverización catódica de dos etapas, esta recubridora permite un mejor control sobre el espesor y la uniformidad del recubrimiento.Es adecuado para la preparación de muestras SEM, lo que permite a los investigadores lograr resultados de imágenes óptimos.Además, también es perfecto para experimentos de recubrimiento de metales, ya que proporciona una solución confiable y eficiente.
La tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura utilizada en este recubridor garantiza un daño mínimo a las muestras delicadas.Ofrece un proceso de recubrimiento suave pero eficaz, que preserva la integridad de las muestras y al mismo tiempo logra un recubrimiento de oro de alta calidad.
Este mini recubridor compacto por pulverización catódica por plasma está diseñado pensando en la comodidad.Cuenta con controles fáciles de usar y una interfaz de operación simple, lo que facilita a los usuarios configurar y ajustar los parámetros de recubrimiento.Su tamaño compacto permite una fácil instalación y movilidad dentro del laboratorio.
En resumen, el minirecubridor compacto por pulverización catódica con plasma con cavidad de cuarzo para oro es una máquina de nivel profesional que ofrece un recubrimiento de oro preciso y uniforme para la preparación de muestras SEM y experimentos de recubrimiento metálico.Su método de pulverización catódica en dos etapas, su tecnología de plasma de baja temperatura y su cavidad de cuarzo garantizan resultados de alta calidad y un rendimiento duradero.Con su diseño compacto y controles fáciles de usar, es una herramienta versátil y conveniente para laboratorios con espacio limitado.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-1TA-RS | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
Con tecnología de punta, proporciona un recubrimiento de oro preciso y uniforme en varias muestras.El diseño compacto de esta recubridora la hace ideal para espacios de laboratorio limitados.
Con su cavidad de cuarzo, este mini recubridor por pulverización catódica por plasma garantiza una alta pureza y estabilidad durante el proceso de recubrimiento.El material de cuarzo ofrece una excelente resistencia al calor y la corrosión, lo que garantiza un rendimiento duradero.
Equipada con un método de pulverización catódica de dos etapas, esta recubridora permite un mejor control sobre el espesor y la uniformidad del recubrimiento.Es adecuado para la preparación de muestras SEM, lo que permite a los investigadores lograr resultados de imágenes óptimos.Además, también es perfecto para experimentos de recubrimiento de metales, ya que proporciona una solución confiable y eficiente.
La tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura utilizada en este recubridor garantiza un daño mínimo a las muestras delicadas.Ofrece un proceso de recubrimiento suave pero eficaz, que preserva la integridad de las muestras y al mismo tiempo logra un recubrimiento de oro de alta calidad.
Este mini recubridor compacto por pulverización catódica por plasma está diseñado pensando en la comodidad.Cuenta con controles fáciles de usar y una interfaz de operación simple, lo que facilita a los usuarios configurar y ajustar los parámetros de recubrimiento.Su tamaño compacto permite una fácil instalación y movilidad dentro del laboratorio.
En resumen, el minirecubridor compacto por pulverización catódica con plasma con cavidad de cuarzo para oro es una máquina de nivel profesional que ofrece un recubrimiento de oro preciso y uniforme para la preparación de muestras SEM y experimentos de recubrimiento metálico.Su método de pulverización catódica en dos etapas, su tecnología de plasma de baja temperatura y su cavidad de cuarzo garantizan resultados de alta calidad y un rendimiento duradero.Con su diseño compacto y controles fáciles de usar, es una herramienta versátil y conveniente para laboratorios con espacio limitado.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-1TA-RS | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
