| Cantidad: | |
|---|---|
TN-PSP180G-3TA-RSH
TN
La pequeña máquina de recubrimiento por pulverización catódica por plasma proporciona un recubrimiento preciso y uniforme sobre diversos materiales como oro, platino e indio.El diseño compacto de esta máquina la hace adecuada para espacios de laboratorio pequeños.
Equipada con un objetivo giratorio y una etapa de calentamiento giratoria, esta máquina de recubrimiento por pulverización catódica por plasma garantiza una distribución eficiente y uniforme del recubrimiento.El método de pulverización catódica en dos etapas mejora la calidad del recubrimiento y permite un mejor control sobre el proceso de deposición.
Con su tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura, esta máquina ofrece un proceso de recubrimiento suave, minimizando cualquier daño potencial al sustrato.Esto es particularmente importante para muestras delicadas o materiales sensibles.
El pulverizador de plasma compacto con objetivo giratorio de laboratorio pequeño 3 está diseñado para la preparación de muestras SEM y experimentos de recubrimiento metálico.Es una herramienta esencial para investigadores y científicos en diversos campos como la ciencia de materiales, la nanotecnología y el análisis de superficies.
Además de su rendimiento confiable, esta máquina es fácil de usar, con controles intuitivos y una interfaz fácil de usar.Es fácil de operar, incluso para aquellos con experiencia limitada en pulverización catódica por plasma.
Invertir en este pequeño laboratorio de pulverización catódica compacta de 3 objetivos giratorios con etapa de calentamiento giratoria es una buena elección para laboratorios e instalaciones de investigación.Ofrece resultados de recubrimiento precisos y uniformes, lo que garantiza experimentos precisos y reproducibles.Su tamaño compacto y diseño eficiente lo convierten en una valiosa adición a cualquier espacio de laboratorio.
Elija esta máquina de recubrimiento por pulverización catódica por plasma para sus necesidades de investigación y experimente capacidades de recubrimiento de nivel profesional.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-3TA-RSH | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
La pequeña máquina de recubrimiento por pulverización catódica por plasma proporciona un recubrimiento preciso y uniforme sobre diversos materiales como oro, platino e indio.El diseño compacto de esta máquina la hace adecuada para espacios de laboratorio pequeños.
Equipada con un objetivo giratorio y una etapa de calentamiento giratoria, esta máquina de recubrimiento por pulverización catódica por plasma garantiza una distribución eficiente y uniforme del recubrimiento.El método de pulverización catódica en dos etapas mejora la calidad del recubrimiento y permite un mejor control sobre el proceso de deposición.
Con su tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura, esta máquina ofrece un proceso de recubrimiento suave, minimizando cualquier daño potencial al sustrato.Esto es particularmente importante para muestras delicadas o materiales sensibles.
El pulverizador de plasma compacto con objetivo giratorio de laboratorio pequeño 3 está diseñado para la preparación de muestras SEM y experimentos de recubrimiento metálico.Es una herramienta esencial para investigadores y científicos en diversos campos como la ciencia de materiales, la nanotecnología y el análisis de superficies.
Además de su rendimiento confiable, esta máquina es fácil de usar, con controles intuitivos y una interfaz fácil de usar.Es fácil de operar, incluso para aquellos con experiencia limitada en pulverización catódica por plasma.
Invertir en este pequeño laboratorio de pulverización catódica compacta de 3 objetivos giratorios con etapa de calentamiento giratoria es una buena elección para laboratorios e instalaciones de investigación.Ofrece resultados de recubrimiento precisos y uniformes, lo que garantiza experimentos precisos y reproducibles.Su tamaño compacto y diseño eficiente lo convierten en una valiosa adición a cualquier espacio de laboratorio.
Elija esta máquina de recubrimiento por pulverización catódica por plasma para sus necesidades de investigación y experimente capacidades de recubrimiento de nivel profesional.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-3TA-RSH | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
