| Cantidad: | |
|---|---|
TN-PSP180G-3TA-R
TN
Con tecnología de punta, proporciona un recubrimiento preciso y uniforme sobre diversos materiales.La máquina está equipada con una cámara de vidrio de cuarzo, lo que garantiza una alta visibilidad durante el proceso de recubrimiento.
Con su diseño compacto, esta máquina recubridora por pulverización catódica por plasma es adecuada para aplicaciones de laboratorio a pequeña escala.Ofrece la capacidad de recubrir muestras con materiales de oro (Au) y platino (Pt), lo que lo hace versátil para una variedad de necesidades de investigación.
El método de pulverización catódica en dos etapas empleado por esta máquina garantiza una excelente adhesión y uniformidad de la película, lo que da como resultado recubrimientos de alta calidad.Es una opción ideal para la preparación de muestras SEM, lo que permite a los investigadores lograr resultados precisos y confiables.
Además, la tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura utilizada por esta máquina recubridora minimiza el riesgo de daño o distorsión de la muestra, lo que garantiza la integridad de las muestras.
Invierta en esta máquina recubridora por pulverización catódica de plasma de tres objetivos con cámara de vidrio de cuarzo para recubrimientos de Au y Pt y mejore sus capacidades de investigación con su rendimiento preciso y eficiente.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-3TA-R | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
Con tecnología de punta, proporciona un recubrimiento preciso y uniforme sobre diversos materiales.La máquina está equipada con una cámara de vidrio de cuarzo, lo que garantiza una alta visibilidad durante el proceso de recubrimiento.
Con su diseño compacto, esta máquina recubridora por pulverización catódica por plasma es adecuada para aplicaciones de laboratorio a pequeña escala.Ofrece la capacidad de recubrir muestras con materiales de oro (Au) y platino (Pt), lo que lo hace versátil para una variedad de necesidades de investigación.
El método de pulverización catódica en dos etapas empleado por esta máquina garantiza una excelente adhesión y uniformidad de la película, lo que da como resultado recubrimientos de alta calidad.Es una opción ideal para la preparación de muestras SEM, lo que permite a los investigadores lograr resultados precisos y confiables.
Además, la tecnología de pulverización catódica por plasma a baja temperatura utilizada por esta máquina recubridora minimiza el riesgo de daño o distorsión de la muestra, lo que garantiza la integridad de las muestras.
Invierta en esta máquina recubridora por pulverización catódica de plasma de tres objetivos con cámara de vidrio de cuarzo para recubrimientos de Au y Pt y mejore sus capacidades de investigación con su rendimiento preciso y eficiente.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-3TA-R | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
