| Cantidad: | |
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TN-PSP180G-2TA-R
TN
El recubridor por pulverización catódica por plasma de doble objetivo puede proporcionar recubrimientos de oro, platino, indio y plata de alta calidad sobre diversos sustratos.
El recubridor por pulverización catódica de plasma de doble objetivo está diseñado para cumplir con los exigentes requisitos de la preparación de muestras SEM y los experimentos de recubrimiento metálico.Con su tecnología avanzada y control preciso, este recubridor garantiza recubrimientos consistentes y uniformes, lo que permite un análisis y una observación precisos bajo el microscopio electrónico de barrido.
Equipada con una bomba de vacío, esta recubridora crea un ambiente de baja presión necesario para el proceso de pulverización catódica por plasma.La configuración de doble objetivo permite el recubrimiento simultáneo con diferentes materiales, aumentando la productividad y la versatilidad.Ya sea que necesite recubrimientos de oro, platino, indio o plata, este recubridor ofrece resultados excepcionales.
El proceso de pulverización catódica por plasma a baja temperatura utilizado por este recubridor ofrece varias ventajas.Minimiza el riesgo de daño térmico a muestras delicadas, asegurando su integridad durante todo el proceso de recubrimiento.Además, el control preciso de los parámetros de deposición permite ajustar el espesor del recubrimiento, lo que garantiza resultados óptimos para su aplicación específica.
Con su rendimiento de nivel profesional y su interfaz fácil de usar, el recubridor por pulverización catódica de plasma de doble objetivo es la opción ideal para investigadores, científicos y técnicos en el campo de la ciencia de materiales, la nanotecnología y la electrónica.Su confiabilidad, eficiencia y versatilidad lo convierten en una herramienta esencial para cualquier laboratorio o centro de investigación.
Invierta en el recubridor por pulverización catódica de plasma de doble objetivo con bomba de vacío para recubrimientos de oro, platino, indio y plata, y lleve sus experimentos de preparación de muestras y recubrimiento de metales a nuevos niveles de precisión y calidad.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-2TA-R | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
El recubridor por pulverización catódica por plasma de doble objetivo puede proporcionar recubrimientos de oro, platino, indio y plata de alta calidad sobre diversos sustratos.
El recubridor por pulverización catódica de plasma de doble objetivo está diseñado para cumplir con los exigentes requisitos de la preparación de muestras SEM y los experimentos de recubrimiento metálico.Con su tecnología avanzada y control preciso, este recubridor garantiza recubrimientos consistentes y uniformes, lo que permite un análisis y una observación precisos bajo el microscopio electrónico de barrido.
Equipada con una bomba de vacío, esta recubridora crea un ambiente de baja presión necesario para el proceso de pulverización catódica por plasma.La configuración de doble objetivo permite el recubrimiento simultáneo con diferentes materiales, aumentando la productividad y la versatilidad.Ya sea que necesite recubrimientos de oro, platino, indio o plata, este recubridor ofrece resultados excepcionales.
El proceso de pulverización catódica por plasma a baja temperatura utilizado por este recubridor ofrece varias ventajas.Minimiza el riesgo de daño térmico a muestras delicadas, asegurando su integridad durante todo el proceso de recubrimiento.Además, el control preciso de los parámetros de deposición permite ajustar el espesor del recubrimiento, lo que garantiza resultados óptimos para su aplicación específica.
Con su rendimiento de nivel profesional y su interfaz fácil de usar, el recubridor por pulverización catódica de plasma de doble objetivo es la opción ideal para investigadores, científicos y técnicos en el campo de la ciencia de materiales, la nanotecnología y la electrónica.Su confiabilidad, eficiencia y versatilidad lo convierten en una herramienta esencial para cualquier laboratorio o centro de investigación.
Invierta en el recubridor por pulverización catódica de plasma de doble objetivo con bomba de vacío para recubrimientos de oro, platino, indio y plata, y lleve sus experimentos de preparación de muestras y recubrimiento de metales a nuevos niveles de precisión y calidad.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-2TA-R | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
