| Cantidad: | |
|---|---|
TN-PSP180G-1TA-RSH
TN
Mini Plasma Sputter Coater puede recubrir una película de oro conductora sobre diversos sustratos, como metales, cerámica y vidrio.El minirecubridor por pulverización catódica por plasma está equipado con una cámara de vidrio de cuarzo, lo que garantiza una alta transparencia y una excelente visibilidad durante el proceso de recubrimiento.
Este equipo de nivel profesional está diseñado específicamente para investigadores, científicos y profesionales en el campo de la ciencia de materiales, la nanotecnología y el análisis de superficies.Su tamaño compacto y su interfaz fácil de usar lo hacen adecuado tanto para entornos industriales como de laboratorio.
El método de pulverización catódica en dos etapas empleado por esta máquina garantiza un espesor de recubrimiento uniforme y preciso, lo que da como resultado muestras de alta calidad para análisis SEM o experimentos de recubrimiento metálico.El proceso de pulverización catódica por plasma a baja temperatura garantiza un daño mínimo a muestras delicadas o sensibles al calor, preservando su integridad y precisión.
Con sus características avanzadas y su rendimiento confiable, este mini recubridor por pulverización catódica por plasma es una herramienta esencial para cualquier instalación de investigación o producción que requiera un recubrimiento preciso y eficiente de una película de oro conductora.Invierta en este equipo para mejorar sus capacidades de investigación y lograr resultados superiores en sus experimentos.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-1TA-RSH | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
Mini Plasma Sputter Coater puede recubrir una película de oro conductora sobre diversos sustratos, como metales, cerámica y vidrio.El minirecubridor por pulverización catódica por plasma está equipado con una cámara de vidrio de cuarzo, lo que garantiza una alta transparencia y una excelente visibilidad durante el proceso de recubrimiento.
Este equipo de nivel profesional está diseñado específicamente para investigadores, científicos y profesionales en el campo de la ciencia de materiales, la nanotecnología y el análisis de superficies.Su tamaño compacto y su interfaz fácil de usar lo hacen adecuado tanto para entornos industriales como de laboratorio.
El método de pulverización catódica en dos etapas empleado por esta máquina garantiza un espesor de recubrimiento uniforme y preciso, lo que da como resultado muestras de alta calidad para análisis SEM o experimentos de recubrimiento metálico.El proceso de pulverización catódica por plasma a baja temperatura garantiza un daño mínimo a muestras delicadas o sensibles al calor, preservando su integridad y precisión.
Con sus características avanzadas y su rendimiento confiable, este mini recubridor por pulverización catódica por plasma es una herramienta esencial para cualquier instalación de investigación o producción que requiera un recubrimiento preciso y eficiente de una película de oro conductora.Invierta en este equipo para mejorar sus capacidades de investigación y lograr resultados superiores en sus experimentos.
Parámetros técnicos:
Modelo del Producto | TN-PSP180G-1TA-RSH | |
Muestra escenario | Tamaño | 100mm |
Distancia desde la etapa de muestra hasta la superficie objetivo | 20~35 mm altura ajustable | |
Giratorio velocidad | 1~20rpm ajustable | |
Calefacción temperatura | ≤500 ℃ | |
Temperatura precisión del control | ±1°C PID control de temperatura | |
Plasma fuente de pulverización | Cantidad | 2 pulgadasx1/2/3 |
Enfriamiento método | Agua enfriamiento/enfriamiento natural | |
Vacío cámara | Cámara tamaño | ø180mm x 210 mm |
Observación ventana | Omnidireccional visibilidad | |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | |
Abierto método | Arriba cubierta removible | |
Superior y material de la cubierta inferior | 304 acero inoxidable | |
Bombeo puerto | KF16 | |
Consumo puerto | 1/4 conector de virola en pulgadas | |
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentaciónx1 |
Producción fuerza | Máx. 150W | |
chisporroteo fuerza | 1200V | |
Máx. corriente de chisporroteo | 50mA | |
Vacío sistema | Vacío tipo de bomba | Doble etapa bomba de vacío de paletas rotativas |
Bombeo puerto | KF16 | |
Escape interfaz | KF16 | |
Bombeo tasa | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
Último vacío | ≥0,1Pa | |
Vacío medición | Resistencia indicador de vacio | |
Otros | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50Hz |
Total fuerza | 1,5kW/2kW | |
Dimensión | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
Peso | 30kg | |
