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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de circonio (ZrO2, 8 mol % Y2O3 totalmente estabilizados) de alta calidad: la mejor opción para sus objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otras necesidades de materiales de deposición.
Elaborados con la máxima precisión y experiencia, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de circonio ofrecen un rendimiento y confiabilidad excepcionales.Estos objetivos se fabrican utilizando 8 moles % de Y2O3 totalmente estabilizado, lo que garantiza una estabilidad y durabilidad superiores durante el proceso de pulverización catódica.
Diseñados para satisfacer las demandas de diversas aplicaciones, nuestros objetivos de pulverización catódica están diseñados para ofrecer una deposición de película consistente y uniforme.Con su alta pureza y excelente conductividad térmica, estos objetivos garantizan resultados óptimos en procesos de deposición de películas delgadas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de circonio se fabrican meticulosamente para proporcionar una superficie lisa y libre de defectos, lo que permite una deposición de material eficiente y precisa.La calidad y pureza excepcionales de nuestros objetivos garantizan una contaminación mínima, lo que permite un control preciso sobre el proceso de deposición.
Ya sea que necesite objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación u otros materiales de deposición, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de circonio son la elección perfecta.Con su excepcional rendimiento, confiabilidad y compatibilidad con diversas técnicas de deposición, estos objetivos son ideales para aplicaciones en las industrias de semiconductores, ópticas y de películas delgadas.
Confíe en nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de circonio de calidad profesional para mejorar sus procesos de deposición y lograr resultados superiores.Invierta en lo mejor y experimente la diferencia en rendimiento y calidad.
Especificaciones de óxido de circonio (ZrO2, 8% molar Y2O3 totalmente estabilizado)
tipo de material | Óxido de circonio |
Símbolo | ZrO2 |
Color/Apariencia | Blanco sólido |
Punto de fusión (°C) | ~2,700 |
Densidad Teórica (g/cc) | 5.89 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | RF, RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Control de Exportaciones (ECCN) | 1C234 |
Comentarios | Películas deficientes en oxígeno, claro y duro. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de circonio (ZrO2, 8 mol % Y2O3 totalmente estabilizados) de alta calidad: la mejor opción para sus objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otras necesidades de materiales de deposición.
Elaborados con la máxima precisión y experiencia, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de circonio ofrecen un rendimiento y confiabilidad excepcionales.Estos objetivos se fabrican utilizando 8 moles % de Y2O3 totalmente estabilizado, lo que garantiza una estabilidad y durabilidad superiores durante el proceso de pulverización catódica.
Diseñados para satisfacer las demandas de diversas aplicaciones, nuestros objetivos de pulverización catódica están diseñados para ofrecer una deposición de película consistente y uniforme.Con su alta pureza y excelente conductividad térmica, estos objetivos garantizan resultados óptimos en procesos de deposición de películas delgadas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de circonio se fabrican meticulosamente para proporcionar una superficie lisa y libre de defectos, lo que permite una deposición de material eficiente y precisa.La calidad y pureza excepcionales de nuestros objetivos garantizan una contaminación mínima, lo que permite un control preciso sobre el proceso de deposición.
Ya sea que necesite objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación u otros materiales de deposición, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de circonio son la elección perfecta.Con su excepcional rendimiento, confiabilidad y compatibilidad con diversas técnicas de deposición, estos objetivos son ideales para aplicaciones en las industrias de semiconductores, ópticas y de películas delgadas.
Confíe en nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de circonio de calidad profesional para mejorar sus procesos de deposición y lograr resultados superiores.Invierta en lo mejor y experimente la diferencia en rendimiento y calidad.
Especificaciones de óxido de circonio (ZrO2, 8% molar Y2O3 totalmente estabilizado)
tipo de material | Óxido de circonio |
Símbolo | ZrO2 |
Color/Apariencia | Blanco sólido |
Punto de fusión (°C) | ~2,700 |
Densidad Teórica (g/cc) | 5.89 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | RF, RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Control de Exportaciones (ECCN) | 1C234 |
Comentarios | Películas deficientes en oxígeno, claro y duro. |
