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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio (Zr): el epítome de la excelencia en el campo de los objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Elaborados con la máxima precisión y tecnología de vanguardia, nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio ofrecen un rendimiento y una confiabilidad incomparables.
Diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversas industrias, nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio se fabrican con circonio de alta calidad, lo que garantiza una pureza y uniformidad excepcionales.Con un tono de voz profesional, nos enorgullecemos de ofrecer productos que superan los estándares de la industria, garantizando resultados óptimos en los procesos de deposición de películas delgadas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio están diseñados meticulosamente para ofrecer una eficiencia de pulverización catódica excepcional, lo que permite una deposición precisa y uniforme de películas de circonio sobre diversos sustratos.Esto garantiza una calidad superior de la película y propiedades mejoradas del material, lo que la convierte en una opción ideal para aplicaciones como la fabricación de semiconductores, recubrimientos ópticos e investigación avanzada.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio no solo brindan un rendimiento excepcional, sino que también cuentan con una durabilidad y longevidad excepcionales.Su construcción robusta garantiza resistencia al estrés térmico y al desgaste físico, lo que garantiza un uso prolongado y rentabilidad.
En [Nombre de la empresa], entendemos la importancia de materiales de deposición confiables y consistentes para lograr un rendimiento óptimo de película delgada.Con nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio, puede confiar en que cada proceso de deposición producirá resultados excepcionales, con un control preciso sobre el espesor y la composición de la película.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio (Zr) para sus necesidades de pulverización catódica y evaporación, y experimente el pináculo del profesionalismo y la excelencia en la deposición de películas delgadas.Confíe en nuestra experiencia y únase a las filas de clientes satisfechos que confían en nuestros productos de alta calidad para impulsar la innovación y el éxito en sus respectivas industrias.
Especificaciones de circonio (Zr):
tipo de material | Circonio |
Símbolo | zr |
Peso atomico | 91.224 |
Número atómico | 40 |
Color/Apariencia | Blanco plateado, metálico |
Conductividad térmica | 22,7 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.852 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 5,7 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 6.49 |
Relación Z | 0.6 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 50* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Control de Exportaciones (ECCN) | 1C234 |
Comentarios | Aleaciones con W. Films oxidarse fácilmente |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio (Zr): el epítome de la excelencia en el campo de los objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Elaborados con la máxima precisión y tecnología de vanguardia, nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio ofrecen un rendimiento y una confiabilidad incomparables.
Diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversas industrias, nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio se fabrican con circonio de alta calidad, lo que garantiza una pureza y uniformidad excepcionales.Con un tono de voz profesional, nos enorgullecemos de ofrecer productos que superan los estándares de la industria, garantizando resultados óptimos en los procesos de deposición de películas delgadas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio están diseñados meticulosamente para ofrecer una eficiencia de pulverización catódica excepcional, lo que permite una deposición precisa y uniforme de películas de circonio sobre diversos sustratos.Esto garantiza una calidad superior de la película y propiedades mejoradas del material, lo que la convierte en una opción ideal para aplicaciones como la fabricación de semiconductores, recubrimientos ópticos e investigación avanzada.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio no solo brindan un rendimiento excepcional, sino que también cuentan con una durabilidad y longevidad excepcionales.Su construcción robusta garantiza resistencia al estrés térmico y al desgaste físico, lo que garantiza un uso prolongado y rentabilidad.
En [Nombre de la empresa], entendemos la importancia de materiales de deposición confiables y consistentes para lograr un rendimiento óptimo de película delgada.Con nuestros objetivos de pulverización catódica de circonio, puede confiar en que cada proceso de deposición producirá resultados excepcionales, con un control preciso sobre el espesor y la composición de la película.
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Especificaciones de circonio (Zr):
tipo de material | Circonio |
Símbolo | zr |
Peso atomico | 91.224 |
Número atómico | 40 |
Color/Apariencia | Blanco plateado, metálico |
Conductividad térmica | 22,7 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.852 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 5,7 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 6.49 |
Relación Z | 0.6 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 50* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Control de Exportaciones (ECCN) | 1C234 |
Comentarios | Aleaciones con W. Films oxidarse fácilmente |