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TN-MSP500S-DC
TN
Este recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único de alto vacío está diseñado para profesionales que requieren una deposición de película delgada precisa y de alta calidad.Con su tecnología avanzada, permite la preparación de películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones, películas semiconductoras, películas cerámicas y más.
La cámara de acero inoxidable de esta recubridora garantiza una conductividad óptima, proporcionando un entorno estable y confiable para el proceso de deposición.Su alta capacidad de vacío permite la eliminación de impurezas, lo que da como resultado películas finas limpias y puras.
Equipado con un sistema de pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo, este recubridor ofrece una deposición de película precisa y uniforme.Permite un fácil control de los parámetros de deposición, como la tasa de deposición, el espesor y la composición, lo que garantiza la reproducibilidad y la precisión.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único de alto vacío es fácil de usar y de operar.Cuenta con una interfaz fácil de usar que permite un control y seguimiento convenientes del proceso de deposición.Su diseño compacto lo hace adecuado tanto para entornos industriales como de laboratorio.
Ya sea que trabaje en investigación y desarrollo, ciencia de materiales o cualquier otro campo que requiera la deposición de películas delgadas, esta recubridora es la opción ideal.Su desempeño profesional y confiable garantiza excelentes resultados y cumple con los más altos estándares de calidad y precisión.
Invierta hoy en el recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único de alto vacío con cámara de acero inoxidable para conductividad y experimente una deposición de película delgada eficiente y precisa como nunca antes.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:
Instrumento de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo | ||
Etapa de muestra | Dimensions | ø185mm |
Rango de calentamiento | Temperatura ambiente ~ 500 ℃ | |
Velocidad ajustable | 1-20 rpm ajustable | |
magnetic control objetivo pistola | Plano objetivo | Objetivo plano circular |
vacío de pulverización | 10Pa~0,2Pa | |
Diámetro objetivo | 50~50,8 mm | |
Espesor objetivo | 2 ~ 5 mm | |
Tensión de aislamiento | >2000V | |
Especificaciones de cables | SL-16 | |
Temperatura objetivo de la cabeza | ≦65℃ | |
real nulo Cavidad cuerpo | Tratamiento de la pared interior | Pulido electrolítico |
Tamaño de la cavidad | ø300mm × 300mm | |
Material de la cavidad | acero inoxidable 304 | |
Ventana de observación | Ventana de cuarzo, diámetro φ100mm | |
método abierto | Apertura superior, soporte auxiliar cilindro | |
gas cuerpo control sistema | Control de flujo | Medidor de flujo másico, rango 0~200SCCM gas argón |
Tipo de válvula de control | Válvula de solenoide | |
Estado estático de la válvula de control | Normalmente cerrado | |
Medición de linealidad | ±1,5% FS | |
Repetibilidad de la medición | ±0,2% FS | |
Medición del tiempo de respuesta | ≤8 segundos (T95) | |
Rango de presión de trabajo | 0,3MPa | |
Presión del cuerpo de válvula | 3MPa | |
Temperatura de trabajo | (5~45) ℃ | |
Cuerpo material | Acero inoxidable 316L | |
Tasa de fuga del cuerpo de la válvula | 1×10-8Pa.m3/s | |
Uniones de tuberías | Racor de compresión de 1/4″ | |
Señal de entrada y salida | 0~5V | |
Fuente de alimentación | ±15V（±5%）（+15V 50mA, －15V 200mA） | |
Dimensiones totales mm | 130 (ancho) × 102 (alto) × 28 (grosor) | |
Interface de comunicación | Protocolo RS485 MODBUS | |
Fuente de alimentación DC | Fuerza | 500W |
Tensión de salida | 0~600V | |
Duración del tiempo | 65000 segundos | |
Hora de inicio | 1~10 segundos | |
Medición del espesor de la película | Requerimientos de energía | CC: 5 V (± 10 %) Corriente máxima 400mA |
Resolución | ±0,03 Hz (5-6 MHz), 0,0136 Å / Medición (aluminio) | |
Precisión de la medición | ±0,5% de espesor + 1 cuenta | |
Periodo de medición | 100mS～1S/tiempo (se puede configurar) | |
Rango de medición | 500.000 Å (aluminio) | |
Frecuencia de cristal | 6MHz | |
Interface de comunicación | Interfaz serie RS-232/485 | |
Mostrar dígitos | Pantalla LED de 8 dígitos | |
bomba molecular | Velocidad de bombeo de la bomba molecular | 80L/S |
velocidad nominal | 65000 rpm | |
Valor de vibración | ≦0.1um | |
Hora de inicio | ≦4,5 min | |
Falta del tiempo | <7min | |
método de enfriamiento | Aire enfriado | |
Temperatura del agua de refrigeración | ≦37℃ | |
Caudal de agua de refrigeración | 1L/minuto | |
Dirección de instalación | Vertical ±5° | |
Puerto de succión | 150CF | |
Conexión de escape | KF40 | |
bomba delantera | Tasa de bombeo | 1.1L/S(VRD-4) |
Vacío definitivo | 5×10-2Pa | |
Fuente de alimentación | CA: 220 V/50 Hz. | |
Fuerza | 400W | |
Ruido | ≦56dB | |
Puerto de succión | KF40 | |
Conexión de escape | KF25 | |
Válvula de escape | La válvula de liberación de aire controlada electrónicamente y neumática está instalada en la cámara de vacío. | |
El vacío definitivo de toda la máquina. | ≦5×10-4Pa | |
Tasa de aumento de la cámara de vacío | ≦2.5Pa/h | |
Sistema de software | 1 juego de software de seguimiento y gestión. | |
Objetivo de prueba | 2 objetivos de cobre con un diámetro de 2 pulgadas y un espesor de 3 mm | |
Este recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único de alto vacío está diseñado para profesionales que requieren una deposición de película delgada precisa y de alta calidad.Con su tecnología avanzada, permite la preparación de películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones, películas semiconductoras, películas cerámicas y más.
La cámara de acero inoxidable de esta recubridora garantiza una conductividad óptima, proporcionando un entorno estable y confiable para el proceso de deposición.Su alta capacidad de vacío permite la eliminación de impurezas, lo que da como resultado películas finas limpias y puras.
Equipado con un sistema de pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo, este recubridor ofrece una deposición de película precisa y uniforme.Permite un fácil control de los parámetros de deposición, como la tasa de deposición, el espesor y la composición, lo que garantiza la reproducibilidad y la precisión.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único de alto vacío es fácil de usar y de operar.Cuenta con una interfaz fácil de usar que permite un control y seguimiento convenientes del proceso de deposición.Su diseño compacto lo hace adecuado tanto para entornos industriales como de laboratorio.
Ya sea que trabaje en investigación y desarrollo, ciencia de materiales o cualquier otro campo que requiera la deposición de películas delgadas, esta recubridora es la opción ideal.Su desempeño profesional y confiable garantiza excelentes resultados y cumple con los más altos estándares de calidad y precisión.
Invierta hoy en el recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único de alto vacío con cámara de acero inoxidable para conductividad y experimente una deposición de película delgada eficiente y precisa como nunca antes.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:
Instrumento de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo | ||
Etapa de muestra | Dimensions | ø185mm |
Rango de calentamiento | Temperatura ambiente ~ 500 ℃ | |
Velocidad ajustable | 1-20 rpm ajustable | |
magnetic control objetivo pistola | Plano objetivo | Objetivo plano circular |
vacío de pulverización | 10Pa~0,2Pa | |
Diámetro objetivo | 50~50,8 mm | |
Espesor objetivo | 2 ~ 5 mm | |
Tensión de aislamiento | >2000V | |
Especificaciones de cables | SL-16 | |
Temperatura objetivo de la cabeza | ≦65℃ | |
real nulo Cavidad cuerpo | Tratamiento de la pared interior | Pulido electrolítico |
Tamaño de la cavidad | ø300mm × 300mm | |
Material de la cavidad | acero inoxidable 304 | |
Ventana de observación | Ventana de cuarzo, diámetro φ100mm | |
método abierto | Apertura superior, soporte auxiliar cilindro | |
gas cuerpo control sistema | Control de flujo | Medidor de flujo másico, rango 0~200SCCM gas argón |
Tipo de válvula de control | Válvula de solenoide | |
Estado estático de la válvula de control | Normalmente cerrado | |
Medición de linealidad | ±1,5% FS | |
Repetibilidad de la medición | ±0,2% FS | |
Medición del tiempo de respuesta | ≤8 segundos (T95) | |
Rango de presión de trabajo | 0,3MPa | |
Presión del cuerpo de válvula | 3MPa | |
Temperatura de trabajo | (5~45) ℃ | |
Cuerpo material | Acero inoxidable 316L | |
Tasa de fuga del cuerpo de la válvula | 1×10-8Pa.m3/s | |
Uniones de tuberías | Racor de compresión de 1/4″ | |
Señal de entrada y salida | 0~5V | |
Fuente de alimentación | ±15V（±5%）（+15V 50mA, －15V 200mA） | |
Dimensiones totales mm | 130 (ancho) × 102 (alto) × 28 (grosor) | |
Interface de comunicación | Protocolo RS485 MODBUS | |
Fuente de alimentación DC | Fuerza | 500W |
Tensión de salida | 0~600V | |
Duración del tiempo | 65000 segundos | |
Hora de inicio | 1~10 segundos | |
Medición del espesor de la película | Requerimientos de energía | CC: 5 V (± 10 %) Corriente máxima 400mA |
Resolución | ±0,03 Hz (5-6 MHz), 0,0136 Å / Medición (aluminio) | |
Precisión de la medición | ±0,5% de espesor + 1 cuenta | |
Periodo de medición | 100mS～1S/tiempo (se puede configurar) | |
Rango de medición | 500.000 Å (aluminio) | |
Frecuencia de cristal | 6MHz | |
Interface de comunicación | Interfaz serie RS-232/485 | |
Mostrar dígitos | Pantalla LED de 8 dígitos | |
bomba molecular | Velocidad de bombeo de la bomba molecular | 80L/S |
velocidad nominal | 65000 rpm | |
Valor de vibración | ≦0.1um | |
Hora de inicio | ≦4,5 min | |
Falta del tiempo | <7min | |
método de enfriamiento | Aire enfriado | |
Temperatura del agua de refrigeración | ≦37℃ | |
Caudal de agua de refrigeración | 1L/minuto | |
Dirección de instalación | Vertical ±5° | |
Puerto de succión | 150CF | |
Conexión de escape | KF40 | |
bomba delantera | Tasa de bombeo | 1.1L/S(VRD-4) |
Vacío definitivo | 5×10-2Pa | |
Fuente de alimentación | CA: 220 V/50 Hz. | |
Fuerza | 400W | |
Ruido | ≦56dB | |
Puerto de succión | KF40 | |
Conexión de escape | KF25 | |
Válvula de escape | La válvula de liberación de aire controlada electrónicamente y neumática está instalada en la cámara de vacío. | |
El vacío definitivo de toda la máquina. | ≦5×10-4Pa | |
Tasa de aumento de la cámara de vacío | ≦2.5Pa/h | |
Sistema de software | 1 juego de software de seguimiento y gestión. | |
Objetivo de prueba | 2 objetivos de cobre con un diámetro de 2 pulgadas y un espesor de 3 mm | |
