| Cantidad: | |
|---|---|
TN-MSP325S-2DCRF
TN
Este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de alto vacío y tres cabezales CC/RF ofrece tecnología avanzada y control de precisión para una deposición de película eficiente y precisa.Con su entorno de alto vacío, garantiza un proceso de recubrimiento limpio y libre de contaminación.
El recubridor está equipado con tres cabezales de pulverización catódica con magnetrón, lo que permite la deposición simultánea de múltiples capas.Esto permite la producción de películas multicapa complejas con un control preciso sobre el espesor y la composición.
Con un sistema de vacío de alta calidad, esta recubridora garantiza una excelente uniformidad y adhesión de la película.Los cabezales de pulverización proporcionan una descarga de plasma estable y consistente, lo que da como resultado una película de alta densidad y baja porosidad.
El equipo es fácil de usar y viene con una interfaz de usuario que permite una fácil operación y control.Ofrece varios modos de deposición, incluida la pulverización catódica de CC y RF, lo que permite flexibilidad en la preparación de la película.
Con su construcción robusta y rendimiento confiable, esta recubridora es adecuada para laboratorios de investigación y desarrollo, así como para instalaciones de producción industrial.Proporciona una solución rentable para la fabricación de películas ópticas multicapa de SiO2/Ta2O5 con excelentes propiedades ópticas.
En resumen, el recubridor por pulverización catódica con magnetrón de alto vacío y tres cabezales CC/RF es un equipo de nivel profesional que ofrece una deposición precisa y eficiente de películas ópticas multicapa de SiO2/Ta2O5.Sus funciones avanzadas y su interfaz fácil de usar lo convierten en una opción ideal para diversas aplicaciones de películas delgadas.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón:
Etapa de muestra | Tamaño | Diámetro 140 mm |
Temperatura de calentamiento | Máximo 500 ℃ | |
Precisión de temperatura | ±1℃ | |
Velocidad rotacional | 1-20 rpm ajustable | |
Cabezal de pulverización magnetrón | Cantidad | 2'×3 (1',2' opcional) |
Modo de enfriamiento | Refrigeración por agua | |
Enfriador de agua | Enfriador de agua circulante con caudal de 10 l/min. | |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Diámetro 300 mm × 300 mm |
Material de la cámara | Acero inoxidable | |
ventana de observación | Diámetro 100 mm | |
Modo de apertura | Tapa superior abierta | |
Medidor de flujo de masa | 2 canales;rango de medición 100SCCM;100SCCM (se puede personalizar según las necesidades del cliente) | |
Sistema de vacío | Modelo | TN-GZK103-A |
bomba molecular | TN-600 | |
Bomba de respaldo | Bomba rotativa de paletas | |
Vacío definitivo | 1.0E-5Pa | |
Interfaz de bombeo | CF160 | |
Interfaz de escape | KF40 | |
Medición de vacío | Vacuómetro compuesto | |
Fuente de alimentación | CA; 220V 50/60Hz | |
Tasa de bombeo | Bomba molecular: 600L/S Bomba rotativa de paletas: 1,1L/S Rendimiento integral de bombeo de gas: vacío de hasta 1,0E-3Pa en 20 minutos | |
Configuración de energía | Cantidad | Fuente de alimentación CC x2 Fuente de alimentación RF x1 |
Potencia máxima de salida | CC 500 W, RF 500 W | |
Otros parámetros | Tensión de alimentación | CA 220 V, 50 Hz. |
Poder total | 4kW | |
Tamaño global | 600 mm × 650 mm × 1280 mm | |
Peso total | Alrededor de 300 kg | |
Este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de alto vacío y tres cabezales CC/RF ofrece tecnología avanzada y control de precisión para una deposición de película eficiente y precisa.Con su entorno de alto vacío, garantiza un proceso de recubrimiento limpio y libre de contaminación.
El recubridor está equipado con tres cabezales de pulverización catódica con magnetrón, lo que permite la deposición simultánea de múltiples capas.Esto permite la producción de películas multicapa complejas con un control preciso sobre el espesor y la composición.
Con un sistema de vacío de alta calidad, esta recubridora garantiza una excelente uniformidad y adhesión de la película.Los cabezales de pulverización proporcionan una descarga de plasma estable y consistente, lo que da como resultado una película de alta densidad y baja porosidad.
El equipo es fácil de usar y viene con una interfaz de usuario que permite una fácil operación y control.Ofrece varios modos de deposición, incluida la pulverización catódica de CC y RF, lo que permite flexibilidad en la preparación de la película.
Con su construcción robusta y rendimiento confiable, esta recubridora es adecuada para laboratorios de investigación y desarrollo, así como para instalaciones de producción industrial.Proporciona una solución rentable para la fabricación de películas ópticas multicapa de SiO2/Ta2O5 con excelentes propiedades ópticas.
En resumen, el recubridor por pulverización catódica con magnetrón de alto vacío y tres cabezales CC/RF es un equipo de nivel profesional que ofrece una deposición precisa y eficiente de películas ópticas multicapa de SiO2/Ta2O5.Sus funciones avanzadas y su interfaz fácil de usar lo convierten en una opción ideal para diversas aplicaciones de películas delgadas.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón:
Etapa de muestra | Tamaño | Diámetro 140 mm |
Temperatura de calentamiento | Máximo 500 ℃ | |
Precisión de temperatura | ±1℃ | |
Velocidad rotacional | 1-20 rpm ajustable | |
Cabezal de pulverización magnetrón | Cantidad | 2'×3 (1',2' opcional) |
Modo de enfriamiento | Refrigeración por agua | |
Enfriador de agua | Enfriador de agua circulante con caudal de 10 l/min. | |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Diámetro 300 mm × 300 mm |
Material de la cámara | Acero inoxidable | |
ventana de observación | Diámetro 100 mm | |
Modo de apertura | Tapa superior abierta | |
Medidor de flujo de masa | 2 canales;rango de medición 100SCCM;100SCCM (se puede personalizar según las necesidades del cliente) | |
Sistema de vacío | Modelo | TN-GZK103-A |
bomba molecular | TN-600 | |
Bomba de respaldo | Bomba rotativa de paletas | |
Vacío definitivo | 1.0E-5Pa | |
Interfaz de bombeo | CF160 | |
Interfaz de escape | KF40 | |
Medición de vacío | Vacuómetro compuesto | |
Fuente de alimentación | CA; 220V 50/60Hz | |
Tasa de bombeo | Bomba molecular: 600L/S Bomba rotativa de paletas: 1,1L/S Rendimiento integral de bombeo de gas: vacío de hasta 1,0E-3Pa en 20 minutos | |
Configuración de energía | Cantidad | Fuente de alimentación CC x2 Fuente de alimentación RF x1 |
Potencia máxima de salida | CC 500 W, RF 500 W | |
Otros parámetros | Tensión de alimentación | CA 220 V, 50 Hz. |
Poder total | 4kW | |
Tamaño global | 600 mm × 650 mm × 1280 mm | |
Peso total | Alrededor de 300 kg | |
