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El recubridor de magnetrón de objetivo único de escritorio está equipado con una mesa de muestra alternativa, lo que permite un recubrimiento preciso y uniforme.
Este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo de escritorio de alta calidad es perfecto para investigadores y profesionales en el campo de la deposición de películas delgadas.Con su tecnología avanzada y rendimiento confiable, garantiza una preparación precisa y eficiente de diversas películas delgadas.
El recubridor está diseñado específicamente para la deposición de películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones y otras películas delgadas.Su técnica de pulverización catódica con magnetrón garantiza una excelente calidad y uniformidad de la película.
Equipada con una mesa de muestras alternativa, esta recubridora ofrece un control preciso sobre el proceso de recubrimiento.La mesa de muestras se mueve hacia adelante y hacia atrás, asegurando una distribución uniforme del material pulverizado sobre el sustrato.Esta característica es esencial para lograr resultados consistentes y reproducibles.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo de escritorio es fácil de usar, con una interfaz simple y controles intuitivos.Permite un fácil ajuste de los parámetros de deposición, como la potencia de pulverización, el tiempo de deposición y el caudal de gas.Esto lo hace adecuado tanto para investigadores experimentados como para recién llegados al campo.
El diseño compacto de esta recubridora la hace ideal para laboratorios con espacio limitado.Puede caber fácilmente en una mesa de laboratorio estándar, sin comprometer su rendimiento.Su construcción robusta garantiza durabilidad y confiabilidad a largo plazo.
En conclusión, el recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único de escritorio con una mesa de muestras alternativa es una herramienta de nivel profesional para preparar películas delgadas de alta calidad.Sus funciones avanzadas, su interfaz fácil de usar y su diseño compacto lo convierten en una valiosa adición a cualquier instalación de investigación o producción.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:
Mesa de muestra alternativa | tamaño | 50*100mm | |
alternativo velocidad | 0~50 mm/s | ||
Pistola de magnetrón | Objetivo avión | Objetivo plano circular | |
chisporroteo vacío | 10Pa~0,2Pa | ||
Objetivo diámetro | 2 pulgadas | ||
Objetivo espesor | Recomendado 2 ～ 5 mm | ||
Objetivo temperatura | ≦65℃ | ||
Cámara de vacío | Cavidad tamaño | Acerca de Φ180mm × Alto 215mm | |
Cavidad material | Alto cuarzo pureza | ||
Observación ventana | Omnidireccional transparencia | ||
Apertura método | Retirable la cubierta superior | ||
fuente de alimentación | corriente continua fuente de alimentación | 150W máx. | |
Cantidad | 1 | ||
Sistema de bomba molecular | línea frontal bomba | Giratorio bomba de paletas | VRD-4 |
Bombeo velocidad | 1.1L/S | ||
Último vacío | 5*10-1Pensilvania | ||
Molecular bomba | Molecular velocidad de bombeo | 600L/S | |
Clasificado velocidad | 24000 rpm | ||
Último vacío | 5*10-5Pensilvania | ||
Vibración valor | ≦0.1um | ||
Comenzar Time | ≦4,5 min | ||
Falta del tiempo | <7min | ||
enfriamiento método | Refrigeración por agua + refrigeración por aire | ||
Enfriador de agua | Enfriamiento temperatura de agua | ≦37℃ | |
Enfriamiento Tasa de flujo del agua | 10L/minuto | ||
Tensión de alimentación | CA 220 V 50 Hz. | ||
El recubridor de magnetrón de objetivo único de escritorio está equipado con una mesa de muestra alternativa, lo que permite un recubrimiento preciso y uniforme.
Este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo de escritorio de alta calidad es perfecto para investigadores y profesionales en el campo de la deposición de películas delgadas.Con su tecnología avanzada y rendimiento confiable, garantiza una preparación precisa y eficiente de diversas películas delgadas.
El recubridor está diseñado específicamente para la deposición de películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones y otras películas delgadas.Su técnica de pulverización catódica con magnetrón garantiza una excelente calidad y uniformidad de la película.
Equipada con una mesa de muestras alternativa, esta recubridora ofrece un control preciso sobre el proceso de recubrimiento.La mesa de muestras se mueve hacia adelante y hacia atrás, asegurando una distribución uniforme del material pulverizado sobre el sustrato.Esta característica es esencial para lograr resultados consistentes y reproducibles.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo de escritorio es fácil de usar, con una interfaz simple y controles intuitivos.Permite un fácil ajuste de los parámetros de deposición, como la potencia de pulverización, el tiempo de deposición y el caudal de gas.Esto lo hace adecuado tanto para investigadores experimentados como para recién llegados al campo.
El diseño compacto de esta recubridora la hace ideal para laboratorios con espacio limitado.Puede caber fácilmente en una mesa de laboratorio estándar, sin comprometer su rendimiento.Su construcción robusta garantiza durabilidad y confiabilidad a largo plazo.
En conclusión, el recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único de escritorio con una mesa de muestras alternativa es una herramienta de nivel profesional para preparar películas delgadas de alta calidad.Sus funciones avanzadas, su interfaz fácil de usar y su diseño compacto lo convierten en una valiosa adición a cualquier instalación de investigación o producción.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:
Mesa de muestra alternativa | tamaño | 50*100mm | |
alternativo velocidad | 0~50 mm/s | ||
Pistola de magnetrón | Objetivo avión | Objetivo plano circular | |
chisporroteo vacío | 10Pa~0,2Pa | ||
Objetivo diámetro | 2 pulgadas | ||
Objetivo espesor | Recomendado 2 ～ 5 mm | ||
Objetivo temperatura | ≦65℃ | ||
Cámara de vacío | Cavidad tamaño | Acerca de Φ180mm × Alto 215mm | |
Cavidad material | Alto cuarzo pureza | ||
Observación ventana | Omnidireccional transparencia | ||
Apertura método | Retirable la cubierta superior | ||
fuente de alimentación | corriente continua fuente de alimentación | 150W máx. | |
Cantidad | 1 | ||
Sistema de bomba molecular | línea frontal bomba | Giratorio bomba de paletas | VRD-4 |
Bombeo velocidad | 1.1L/S | ||
Último vacío | 5*10-1Pensilvania | ||
Molecular bomba | Molecular velocidad de bombeo | 600L/S | |
Clasificado velocidad | 24000 rpm | ||
Último vacío | 5*10-5Pensilvania | ||
Vibración valor | ≦0.1um | ||
Comenzar Time | ≦4,5 min | ||
Falta del tiempo | <7min | ||
enfriamiento método | Refrigeración por agua + refrigeración por aire | ||
Enfriador de agua | Enfriamiento temperatura de agua | ≦37℃ | |
Enfriamiento Tasa de flujo del agua | 10L/minuto | ||
Tensión de alimentación | CA 220 V 50 Hz. | ||
