| Cantidad: | |
|---|---|
TN-MSP180G-PST
TN
Presentamos nuestro recubridor planetario por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único con cavidad de cuarzo para películas conductoras.Este avanzado sistema de recubrimiento está diseñado para profesionales que necesitan una preparación de película precisa y eficiente.
Con su innovador diseño planetario, nuestro recubridor por pulverización catódica permite la creación de películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones de una o varias capas.Esta versatilidad la convierte en una herramienta invaluable para una amplia gama de aplicaciones en industrias como la electrónica, la óptica y la investigación.
Equipado con una cavidad de cuarzo, nuestro recubridor garantiza una calidad y uniformidad óptimas de la película.El material de cuarzo proporciona una excelente estabilidad térmica y permite altas tasas de deposición, lo que garantiza resultados consistentes y confiables en todo momento.
Diseñado pensando en los profesionales, nuestro recubridor por pulverización catódica ofrece una facilidad de uso y control incomparables.La interfaz fácil de usar permite ajustes precisos de parámetros como el tiempo de deposición, la potencia y el flujo de gas, lo que garantiza las condiciones perfectas para los requisitos específicos de su película.
Además, nuestro recubridor cuenta con una robusta fuente de pulverización catódica con magnetrón, que permite una deposición de película eficiente y uniforme.Esto garantiza una alta productividad y minimiza el desperdicio de material, ahorrándole tiempo y recursos.
Construido con materiales de la más alta calidad y tecnología de vanguardia, nuestro recubridor planetario por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único con cavidad de cuarzo para películas conductoras está diseñado para durar.Su construcción duradera y su rendimiento confiable lo convierten en un activo valioso para cualquier profesional que busque capacidades excepcionales de preparación de películas.
Invierta en nuestra recubridora por pulverización catódica y aproveche el potencial para una preparación de película precisa y eficiente.Experimente la diferencia que nuestra tecnología avanzada y nuestro diseño fácil de usar pueden marcar en su trabajo.Confíe en nuestro compromiso de entregar equipos de calidad profesional que cumplan con los más altos estándares de calidad y rendimiento.
Parámetros técnicos del recubridor planetario por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:
TN-MSP180G-PST (planetario tabla de muestra) recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo | ||||
Muestra escenario | Tamaño | ø50mm x4 | Rotación velocidad | El La velocidad de revolución es ajustable de 0 a 10 rpm, y la revolución y rotación la relación de velocidad es 1:5 |
magnetrón objetivo de chisporroteo | Cantidad | 2' x1 | ||
Vacío cámara | Cámara tamaño | Φ180mm x 100 mm | Observación ventana | Omnidireccional visibilidad |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | Apertura método | Arriba cubierta removible | |
Más bajo brida | Contiene Mecanismo de transmisión planetaria, interfaz de vacío soldada y válvula de admisión. | |||
Vacío sistema | Mecánico bomba | Dos etapas bomba de paletas rotativas | Bombeo interfaz | KF16 |
Molecular bomba | turbomolecular bomba | Bombeo interfaz | KF40 | |
Vacío medición | Resistencia manómetro + manómetro de ionización | Escape interfaz | KF40 | |
Último vacío | 1.0E-3Pa | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50/60Hz | |
Bombeo tasa | Apoyo bomba: 1.1L/s Bomba molecular: 60L/S | |||
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentación x1 | Máximo potencia de salida | corriente continua fuente de alimentación 300W |
Otro | Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50Hz | En general tamaño | 500 mm x 320 mm x 620 mm |
Total fuerza | 2kW | |||
Presentamos nuestro recubridor planetario por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único con cavidad de cuarzo para películas conductoras.Este avanzado sistema de recubrimiento está diseñado para profesionales que necesitan una preparación de película precisa y eficiente.
Con su innovador diseño planetario, nuestro recubridor por pulverización catódica permite la creación de películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones de una o varias capas.Esta versatilidad la convierte en una herramienta invaluable para una amplia gama de aplicaciones en industrias como la electrónica, la óptica y la investigación.
Equipado con una cavidad de cuarzo, nuestro recubridor garantiza una calidad y uniformidad óptimas de la película.El material de cuarzo proporciona una excelente estabilidad térmica y permite altas tasas de deposición, lo que garantiza resultados consistentes y confiables en todo momento.
Diseñado pensando en los profesionales, nuestro recubridor por pulverización catódica ofrece una facilidad de uso y control incomparables.La interfaz fácil de usar permite ajustes precisos de parámetros como el tiempo de deposición, la potencia y el flujo de gas, lo que garantiza las condiciones perfectas para los requisitos específicos de su película.
Además, nuestro recubridor cuenta con una robusta fuente de pulverización catódica con magnetrón, que permite una deposición de película eficiente y uniforme.Esto garantiza una alta productividad y minimiza el desperdicio de material, ahorrándole tiempo y recursos.
Construido con materiales de la más alta calidad y tecnología de vanguardia, nuestro recubridor planetario por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único con cavidad de cuarzo para películas conductoras está diseñado para durar.Su construcción duradera y su rendimiento confiable lo convierten en un activo valioso para cualquier profesional que busque capacidades excepcionales de preparación de películas.
Invierta en nuestra recubridora por pulverización catódica y aproveche el potencial para una preparación de película precisa y eficiente.Experimente la diferencia que nuestra tecnología avanzada y nuestro diseño fácil de usar pueden marcar en su trabajo.Confíe en nuestro compromiso de entregar equipos de calidad profesional que cumplan con los más altos estándares de calidad y rendimiento.
Parámetros técnicos del recubridor planetario por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:
TN-MSP180G-PST (planetario tabla de muestra) recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo | ||||
Muestra escenario | Tamaño | ø50mm x4 | Rotación velocidad | El La velocidad de revolución es ajustable de 0 a 10 rpm, y la revolución y rotación la relación de velocidad es 1:5 |
magnetrón objetivo de chisporroteo | Cantidad | 2' x1 | ||
Vacío cámara | Cámara tamaño | Φ180mm x 100 mm | Observación ventana | Omnidireccional visibilidad |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | Apertura método | Arriba cubierta removible | |
Más bajo brida | Contiene Mecanismo de transmisión planetaria, interfaz de vacío soldada y válvula de admisión. | |||
Vacío sistema | Mecánico bomba | Dos etapas bomba de paletas rotativas | Bombeo interfaz | KF16 |
Molecular bomba | turbomolecular bomba | Bombeo interfaz | KF40 | |
Vacío medición | Resistencia manómetro + manómetro de ionización | Escape interfaz | KF40 | |
Último vacío | 1.0E-3Pa | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50/60Hz | |
Bombeo tasa | Apoyo bomba: 1.1L/s Bomba molecular: 60L/S | |||
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentación x1 | Máximo potencia de salida | corriente continua fuente de alimentación 300W |
Otro | Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50Hz | En general tamaño | 500 mm x 320 mm x 620 mm |
Total fuerza | 2kW | |||
