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TN-MSP500S-2DC-1RF
TN
Recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos con UPS para películas delgadas ferroeléctricas multicapa
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es un equipo rentable de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón desarrollado independientemente por nuestra empresa.Es estandarizado, modular y personalizable.
Campos de aplicación del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos:
Este dispositivo se puede utilizar para preparar películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de PTFE y similares.En comparación con equipos similares, este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos no solo se usa ampliamente, sino que también tiene las ventajas de un tamaño pequeño y fácil operación, y es un equipo ideal para preparar películas de material en un laboratorio.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos:
Voltaje de suministro | l VCA 220, 60 Hz |
UPS | l 20KVA 16KW, retraso de 1 hora l 16 baterías, con capacidad de 38AH |
Cámara de vacío | l Dimensión: Dia.325 mm * altura 385 mm lMaterial: acero inoxidable 304 l Ventana gráfica (ventana): ~4'' (100 mm) con obturador |
Etapa de muestra | l Portamuestras superior l Mesa de muestra: Dia.150mm l Tamaño de la muestra: Máx.4'' de diámetro lVelocidad de rotación: 0-40 rpm ajustable l Temperatura de calentamiento: hasta 700oC l |
Enfriador de agua | l Caudal de agua: 2,3 m3/h lPotencia: 3P Capacidad de refrigeración: 8250 Kcal/h. l Potencia de salida del compresor: 2,25 KW |
Pistola de pulverización magnetrón | l 3 pistolas de pulverización magnetrón de 2'', con obturador automático l Sputtering orientación hacia arriba lDiámetro objetivo: 2'' l Imanes: imán de tierras raras |
Generador de RF | l Fuente de alimentación 3 × RF 300W con coincidencia automática l Rango de potencia de salida: 5W ~ 300W l Potencia máxima reflejada: 100W lEstabilidad de potencia: ±0,1% l Componente armónico: ≤-50dbc l Fuente de alimentación: Monofásica 187-253 VAC, 50/60 HZ lEficiencia: ≥70% lFactor de potencia: ≥90% l Potencia reflejada (a potencia máxima): <3W l Corriente de carga máxima: 30 ARMS l Tensión de carga máxima: 7500VRMS l Conector de salida RF: 50 Ω, L29 o personalizado l Tiempo de partido: 1~3s l Rango real de impedancia adaptada: 0~80Ω l Rango de parte imaginaria de impedancia adaptada:﹣200j~ ﹢200j l Método de enfriamiento: enfriamiento forzado |
Medidor de flujo de masa | l 3 × control de flujo másico MFC (Ar, O2 y N2) l Rangos de medición: hasta 20 sccm l Con válvula(s) de aislamiento neumático y filtro. |
Control automático completo por PC o PLC, para controlar | l Almacenar para un mínimo de 100 recetas. l Controlador plano de 19'' |
Recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos con UPS para películas delgadas ferroeléctricas multicapa
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos es un equipo rentable de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón desarrollado independientemente por nuestra empresa.Es estandarizado, modular y personalizable.
Campos de aplicación del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos:
Este dispositivo se puede utilizar para preparar películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de PTFE y similares.En comparación con equipos similares, este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos no solo se usa ampliamente, sino que también tiene las ventajas de un tamaño pequeño y fácil operación, y es un equipo ideal para preparar películas de material en un laboratorio.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos:
Voltaje de suministro | l VCA 220, 60 Hz |
UPS | l 20KVA 16KW, retraso de 1 hora l 16 baterías, con capacidad de 38AH |
Cámara de vacío | l Dimensión: Dia.325 mm * altura 385 mm lMaterial: acero inoxidable 304 l Ventana gráfica (ventana): ~4'' (100 mm) con obturador |
Etapa de muestra | l Portamuestras superior l Mesa de muestra: Dia.150mm l Tamaño de la muestra: Máx.4'' de diámetro lVelocidad de rotación: 0-40 rpm ajustable l Temperatura de calentamiento: hasta 700oC l |
Enfriador de agua | l Caudal de agua: 2,3 m3/h lPotencia: 3P Capacidad de refrigeración: 8250 Kcal/h. l Potencia de salida del compresor: 2,25 KW |
Pistola de pulverización magnetrón | l 3 pistolas de pulverización magnetrón de 2'', con obturador automático l Sputtering orientación hacia arriba lDiámetro objetivo: 2'' l Imanes: imán de tierras raras |
Generador de RF | l Fuente de alimentación 3 × RF 300W con coincidencia automática l Rango de potencia de salida: 5W ~ 300W l Potencia máxima reflejada: 100W lEstabilidad de potencia: ±0,1% l Componente armónico: ≤-50dbc l Fuente de alimentación: Monofásica 187-253 VAC, 50/60 HZ lEficiencia: ≥70% lFactor de potencia: ≥90% l Potencia reflejada (a potencia máxima): <3W l Corriente de carga máxima: 30 ARMS l Tensión de carga máxima: 7500VRMS l Conector de salida RF: 50 Ω, L29 o personalizado l Tiempo de partido: 1~3s l Rango real de impedancia adaptada: 0~80Ω l Rango de parte imaginaria de impedancia adaptada:﹣200j~ ﹢200j l Método de enfriamiento: enfriamiento forzado |
Medidor de flujo de masa | l 3 × control de flujo másico MFC (Ar, O2 y N2) l Rangos de medición: hasta 20 sccm l Con válvula(s) de aislamiento neumático y filtro. |
Control automático completo por PC o PLC, para controlar | l Almacenar para un mínimo de 100 recetas. l Controlador plano de 19'' |
