| Cantidad: | |
|---|---|
TN-MSP500S-DCRF-B
TN
Recubridor por pulverización catódica con magnetrón DC RF de doble objetivo con tipo de objetivo inferior para revestimiento de metales nobles
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón DC RF de doble objetivo está equipado con un sistema de pulverización catódica con magnetrón DC RF de doble objetivo, lo que permite un recubrimiento eficiente y preciso de metales nobles.El tipo de objetivo inferior garantiza un recubrimiento uniforme en todo el sustrato, lo que da como resultado una deposición de película consistente y de alta calidad.
Con su tecnología avanzada, esta recubridora ofrece una excelente adhesión de la película, altas tasas de deposición y baja tensión de la película.También proporciona una amplia gama de parámetros de proceso, lo que permite la personalización y optimización de las condiciones del recubrimiento.La interfaz fácil de usar y los controles intuitivos facilitan la operación y el seguimiento del proceso de recubrimiento.
Esta recubridora por pulverización catódica es adecuada para laboratorios de investigación y desarrollo, universidades y aplicaciones industriales.Es ideal para diversas aplicaciones, como recubrimientos ópticos, dispositivos electrónicos, células solares, sensores y más.Su construcción robusta y su rendimiento confiable garantizan un funcionamiento eficiente y duradero.
En general, el recubridor por pulverización catódica con magnetrón DC RF de doble objetivo con tipo de objetivo inferior para recubrimiento de metales nobles es una solución versátil y confiable para la deposición de películas precisa y de alta calidad.Sus funciones avanzadas y su diseño fácil de usar lo convierten en una excelente opción para los profesionales en el campo.
Recubridor por pulverización catódica con magnetrón Parámetro técnico:
Modelo | TN-MSP500S-DCRF-B | |
Aporte | CA 220 V, 50 Hz. | |
Poder total | 6kW | |
Grado de vacío máximo | 5x10-4Pa | |
Parámetros de la tabla de muestra | Tamaño | 150 diámetro. |
Altura | 70 mm ajustable | |
Calefacción | ≤500 ℃ | |
Velocidad de rotación | 1-20 rpm | |
Parámetros del cabezal de pulverización catódica del magnetrón | Cantidad | 2 juegos, 2 pulgadas |
Modo de enfriamiento | Refrigerado por agua, caudal requerido 10 l/min. | |
Enfriador de agua | Refrigeración por agua circulante de 10 l/min. | |
Cámara de vacío | Tamaño | |
Material | Acero inoxidable | |
ventana de observación | 100 mm de diámetro. | |
modo abierto | puerta de apertura frontal | |
Controlador de flujo de gas | 1 canal 200sccm Ar; | |
Bomba aspiradora | Bombeo del sistema de bomba molecular, 600L/S | |
Medidor de espesor de película | Medidor de espesor de película vibratoria de cuarzo. Un juego, resolución 0,10 Å | |
Fuente de alimentación por pulverización | Fuente de alimentación CC: un juego, 500 W, para películas metálicas Fuente de alimentación RF: un juego, 500 W, para películas no metálicas | |
Modo operativo | Operación de computadora todo en uno | |
Dimensiones totales | 1090 mm x 900 mm x 1250 mm | |
Peso total | 350 kilos | |
Recubridor por pulverización catódica con magnetrón DC RF de doble objetivo con tipo de objetivo inferior para revestimiento de metales nobles
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón DC RF de doble objetivo está equipado con un sistema de pulverización catódica con magnetrón DC RF de doble objetivo, lo que permite un recubrimiento eficiente y preciso de metales nobles.El tipo de objetivo inferior garantiza un recubrimiento uniforme en todo el sustrato, lo que da como resultado una deposición de película consistente y de alta calidad.
Con su tecnología avanzada, esta recubridora ofrece una excelente adhesión de la película, altas tasas de deposición y baja tensión de la película.También proporciona una amplia gama de parámetros de proceso, lo que permite la personalización y optimización de las condiciones del recubrimiento.La interfaz fácil de usar y los controles intuitivos facilitan la operación y el seguimiento del proceso de recubrimiento.
Esta recubridora por pulverización catódica es adecuada para laboratorios de investigación y desarrollo, universidades y aplicaciones industriales.Es ideal para diversas aplicaciones, como recubrimientos ópticos, dispositivos electrónicos, células solares, sensores y más.Su construcción robusta y su rendimiento confiable garantizan un funcionamiento eficiente y duradero.
En general, el recubridor por pulverización catódica con magnetrón DC RF de doble objetivo con tipo de objetivo inferior para recubrimiento de metales nobles es una solución versátil y confiable para la deposición de películas precisa y de alta calidad.Sus funciones avanzadas y su diseño fácil de usar lo convierten en una excelente opción para los profesionales en el campo.
Recubridor por pulverización catódica con magnetrón Parámetro técnico:
Modelo | TN-MSP500S-DCRF-B | |
Aporte | CA 220 V, 50 Hz. | |
Poder total | 6kW | |
Grado de vacío máximo | 5x10-4Pa | |
Parámetros de la tabla de muestra | Tamaño | 150 diámetro. |
Altura | 70 mm ajustable | |
Calefacción | ≤500 ℃ | |
Velocidad de rotación | 1-20 rpm | |
Parámetros del cabezal de pulverización catódica del magnetrón | Cantidad | 2 juegos, 2 pulgadas |
Modo de enfriamiento | Refrigerado por agua, caudal requerido 10 l/min. | |
Enfriador de agua | Refrigeración por agua circulante de 10 l/min. | |
Cámara de vacío | Tamaño | |
Material | Acero inoxidable | |
ventana de observación | 100 mm de diámetro. | |
modo abierto | puerta de apertura frontal | |
Controlador de flujo de gas | 1 canal 200sccm Ar; | |
Bomba aspiradora | Bombeo del sistema de bomba molecular, 600L/S | |
Medidor de espesor de película | Medidor de espesor de película vibratoria de cuarzo. Un juego, resolución 0,10 Å | |
Fuente de alimentación por pulverización | Fuente de alimentación CC: un juego, 500 W, para películas metálicas Fuente de alimentación RF: un juego, 500 W, para películas no metálicas | |
Modo operativo | Operación de computadora todo en uno | |
Dimensiones totales | 1090 mm x 900 mm x 1250 mm | |
Peso total | 350 kilos | |
