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Recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo con cámara de acero inoxidable de alto vacío para películas de aleación

Recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo con cámara de acero inoxidable de alto vacío para películas de aleación

El recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo se puede utilizar para preparar películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de PTFE y similares

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Modelo:
TN-VTC-CC
Marca del producto:
TN

Descripción del Producto

Este recubridor por pulverización catódica utiliza tecnología de pulverización catódica con magnetrón CC, lo que permite una deposición de película eficiente y uniforme.Es capaz de depositar películas sobre diversos sustratos, incluidos vidrio, silicio y metal, con excelente adherencia y uniformidad.

El diseño de objetivo único de este recubridor permite la deposición de películas de una sola capa, así como la deposición secuencial de múltiples capas para estructuras de películas complejas.Con su potencia de pulverización y tiempo de deposición ajustables, ofrece flexibilidad para lograr el espesor y las propiedades de película deseados.

Equipada con un sistema de vacío confiable, esta recubridora puede alcanzar altos niveles de vacío, lo que garantiza un ambiente libre de contaminación para el proceso de recubrimiento.La cámara de acero inoxidable proporciona una excelente resistencia a la corrosión y garantiza un rendimiento duradero.

La interfaz fácil de usar y el panel de control intuitivo hacen que el funcionamiento sea sencillo y práctico.La recubridora está equipada con funciones de seguridad avanzadas, que incluyen protección contra sobrecorriente y apagado automático, lo que garantiza la seguridad tanto del usuario como del equipo.

Ya sea en laboratorios de investigación o entornos industriales, este recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único con cámara de acero inoxidable de alto vacío es una opción ideal para la deposición precisa y confiable de películas delgadas.Su versatilidad y construcción robusta lo hacen adecuado para una amplia gama de aplicaciones, incluidas ciencia de materiales, electrónica, óptica y más.

Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:

Instrumento de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo
Etapa de muestra	Dimensions	ø185mm
	Rango de calentamiento	Temperatura ambiente ~ 500 ℃
	Velocidad ajustable	1-20 rpm ajustable
magnetic control objetivo pistola	Plano objetivo	Objetivo plano circular
	vacío de pulverización	10Pa~0,2Pa
	Diámetro objetivo	50~50,8 mm
	Espesor objetivo	2 ~ 5 mm
	Tensión de aislamiento	>2000V
	Especificaciones de cables	SL-16
	Temperatura objetivo de la cabeza	≦65℃
real nulo Cavidad cuerpo	Tratamiento de la pared interior	Pulido electrolítico
	Tamaño de la cavidad	ø300mm × 300mm
	Material de la cavidad	acero inoxidable 304
	Ventana de observación	Ventana de cuarzo, diámetro φ100mm
	método abierto	Apertura superior, soporte auxiliar cilindro
gas cuerpo control sistema	Control de flujo	Medidor de flujo másico, rango 0~200SCCM gas argón
	Tipo de válvula de control	Válvula de solenoide
	Estado estático de la válvula de control	Normalmente cerrado
	Medición de linealidad	±1,5% FS
	Repetibilidad de la medición	±0,2% FS
	Medición del tiempo de respuesta	≤8 segundos (T95)
	Rango de presión de trabajo	0,3MPa
	Presión del cuerpo de válvula	3MPa
	Temperatura de trabajo	(5~45) ℃
	Cuerpo material	Acero inoxidable 316L
	Tasa de fuga del cuerpo de la válvula	1×10-8Pa.m3/s
	Uniones de tuberías	Racor de compresión de 1/4″
	Señal de entrada y salida	0~5V
	Fuente de alimentación	±15V（±5%）（+15V 50mA, －15V 200mA）
	Dimensiones totales mm	130 (ancho) × 102 (alto) × 28 (grosor)
	Interface de comunicación	Protocolo RS485 MODBUS
Fuente de alimentación DC	Fuerza	500W
	Tensión de salida	0~600V
	Duración del tiempo	65000 segundos
	Hora de inicio	1~10 segundos
Medición del espesor de la película	Requerimientos de energía	CC: 5 V (± 10 %) Corriente máxima 400mA
	Resolución	±0,03 Hz (5-6 MHz), 0,0136 Å / Medición (aluminio)
	Precisión de la medición	±0,5% de espesor + 1 cuenta
	Periodo de medición	100mS～1S/tiempo (se puede configurar)
	Rango de medición	500.000 Å (aluminio)
	Frecuencia de cristal	6MHz
	Interface de comunicación	Interfaz serie RS-232/485
	Mostrar dígitos	Pantalla LED de 8 dígitos
bomba molecular	Velocidad de bombeo de la bomba molecular	80L/S
	velocidad nominal	65000rpm
	Valor de vibración	≦0.1um
	Hora de inicio	≦4,5 min
	Falta del tiempo	<7min
	método de enfriamiento	Aire enfriado
	Temperatura del agua de refrigeración	≦37℃
	Caudal de agua de refrigeración	1L/minuto
	Dirección de instalación	Vertical ±5°
	Puerto de succión	150CF
	Conexión de escape	KF40
bomba delantera	Tasa de bombeo	1.1L/S(VRD-4)
	Vacío definitivo	5×10-2Pa
	Fuente de alimentación	CA: 220 V/50 Hz.
	Fuerza	400W
	Ruido	≦56dB
	Puerto de succión	KF40
	Conexión de escape	KF25
	Válvula de escape	La válvula de liberación de aire controlada electrónicamente y neumática está instalada en la cámara de vacío.
El vacío definitivo de toda la máquina.		≦5×10-4Pa
Tasa de aumento de la cámara de vacío		≦2.5Pa/h
Sistema de software		1 juego de software de seguimiento y gestión.
Objetivo de prueba		2 objetivos de cobre con un diámetro de 2 pulgadas y un espesor de 3 mm