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Recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo con cámara de acero inoxidable de alto vacío para películas de aleación

El recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo se puede utilizar para preparar películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de PTFE y similares
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  • TN-VTC-CC

  • TN

Este recubridor por pulverización catódica utiliza tecnología de pulverización catódica con magnetrón CC, lo que permite una deposición de película eficiente y uniforme.Es capaz de depositar películas sobre diversos sustratos, incluidos vidrio, silicio y metal, con excelente adherencia y uniformidad.


El diseño de objetivo único de este recubridor permite la deposición de películas de una sola capa, así como la deposición secuencial de múltiples capas para estructuras de películas complejas.Con su potencia de pulverización y tiempo de deposición ajustables, ofrece flexibilidad para lograr el espesor y las propiedades de película deseados.


Equipada con un sistema de vacío confiable, esta recubridora puede alcanzar altos niveles de vacío, lo que garantiza un ambiente libre de contaminación para el proceso de recubrimiento.La cámara de acero inoxidable proporciona una excelente resistencia a la corrosión y garantiza un rendimiento duradero.


La interfaz fácil de usar y el panel de control intuitivo hacen que el funcionamiento sea sencillo y práctico.La recubridora está equipada con funciones de seguridad avanzadas, que incluyen protección contra sobrecorriente y apagado automático, lo que garantiza la seguridad tanto del usuario como del equipo.


Ya sea en laboratorios de investigación o entornos industriales, este recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de objetivo único con cámara de acero inoxidable de alto vacío es una opción ideal para la deposición precisa y confiable de películas delgadas.Su versatilidad y construcción robusta lo hacen adecuado para una amplia gama de aplicaciones, incluidas ciencia de materiales, electrónica, óptica y más.

Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:


Instrumento de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón CC de un solo objetivo

Etapa de muestra

Dimensions

ø185mm

Rango de calentamiento

Temperatura ambiente ~ 500 ℃

Velocidad ajustable

1-20 rpm ajustable

magnetic

control

objetivo

pistola

Plano objetivo

Objetivo plano circular

vacío de pulverización

10Pa~0,2Pa

Diámetro objetivo

50~50,8 mm

Espesor objetivo

2 ~ 5 mm

Tensión de aislamiento

>2000V

Especificaciones de cables

SL-16

Temperatura objetivo de la cabeza

≦65℃

real

nulo

Cavidad

cuerpo

Tratamiento de la pared interior

Pulido electrolítico

Tamaño de la cavidad

ø300mm × 300mm

Material de la cavidad

acero inoxidable 304

Ventana de observación

Ventana de cuarzo, diámetro φ100mm

método abierto

Apertura superior, soporte auxiliar cilindro

gas

cuerpo

control

sistema

Control de flujo

Medidor de flujo másico, rango 0~200SCCM gas argón

Tipo de válvula de control

Válvula de solenoide

Estado estático de la válvula de control

Normalmente cerrado

Medición de linealidad

±1,5% FS

Repetibilidad de la medición

±0,2% FS

Medición del tiempo de respuesta

≤8 segundos (T95)

Rango de presión de trabajo

0,3MPa

Presión del cuerpo de válvula

3MPa

Temperatura de trabajo

(5~45) ℃

Cuerpo material

Acero inoxidable 316L

Tasa de fuga del cuerpo de la válvula

1×10-8Pa.m3/s

Uniones de tuberías

Racor de compresión de 1/4″

Señal de entrada y salida

0~5V

Fuente de alimentación

±15V(±5%)(+15V  50mA,  -15V  200mA)

Dimensiones totales mm

130 (ancho) × 102 (alto) × 28 (grosor)

Interface de comunicación

Protocolo RS485 MODBUS

Fuente de alimentación DC

Fuerza

500W

Tensión de salida

0~600V

Duración del tiempo

65000 segundos

Hora de inicio

1~10 segundos

Medición del espesor de la película

Requerimientos de energía

CC: 5 V (± 10 %)  Corriente máxima 400mA

Resolución

±0,03 Hz (5-6 MHz), 0,0136 Å / Medición (aluminio)

Precisión de la medición

±0,5% de espesor + 1 cuenta

Periodo de medición

100mS~1S/tiempo (se puede configurar)

Rango de medición

500.000 Å (aluminio)

Frecuencia de cristal

6MHz

Interface de comunicación

 Interfaz serie RS-232/485

Mostrar dígitos

Pantalla LED de 8 dígitos

bomba molecular

Velocidad de bombeo de la bomba molecular

80L/S

velocidad nominal

65000rpm

Valor de vibración

≦0.1um

Hora de inicio

≦4,5 min

Falta del tiempo

<7min

método de enfriamiento

Aire enfriado


Temperatura del agua de refrigeración

≦37℃

Caudal de agua de refrigeración

1L/minuto

Dirección de instalación

Vertical ±5°

Puerto de succión

150CF

Conexión de escape

KF40

bomba delantera

Tasa de bombeo

1.1L/S(VRD-4)

Vacío definitivo

5×10-2Pa

Fuente de alimentación

CA: 220 V/50 Hz.

Fuerza

400W

Ruido

≦56dB

Puerto de succión

KF40

Conexión de escape

KF25

Válvula de escape

La válvula de liberación de aire controlada electrónicamente y neumática está instalada en la cámara de vacío.

El vacío definitivo de toda la máquina.

≦5×10-4Pa

Tasa de aumento de la cámara de vacío

≦2.5Pa/h

Sistema de software

1 juego de software de seguimiento y gestión.

Objetivo de prueba

2 objetivos de cobre con un diámetro de 2 pulgadas y un espesor de 3 mm


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