| Cantidad: | |
|---|---|
TNO1200-60IIC-R
TN
El horno tubular giratorio, alimentación y recepción para limpieza CVD de PE en polvo es una solución de vanguardia diseñada para mejorar la eficiencia y precisión de los procesos PECVD.
Este producto innovador ofrece un mecanismo de alimentación y recepción perfecto y preciso para materiales en polvo utilizados en la limpieza de PECVD.Con su diseño de horno de tubo giratorio, garantiza un calentamiento y distribución uniformes del polvo, lo que da como resultado una deposición de película delgada consistente y de alta calidad.
El horno tubular rotatorio de alimentación y recepción para limpieza CVD de PE en polvo está equipado con tecnología de plasma avanzada, que permite la deposición de películas delgadas con una adhesión y uniformidad excepcionales.Esto asegura que las películas resultantes cumplan con los estrictos requisitos de la industria electrónica, garantizando un rendimiento y confiabilidad óptimos.
Diseñado con la máxima profesionalidad, este producto está fabricado con materiales y componentes de alta calidad, lo que garantiza durabilidad y rendimiento duradero.Su interfaz fácil de usar y sus controles intuitivos facilitan su operación y mantenimiento, lo que reduce el tiempo de inactividad y maximiza la productividad.
Con su diseño compacto y que ahorra espacio, el horno tubular rotatorio de alimentación y recepción para limpieza CVD de PE en polvo se puede integrar perfectamente en los sistemas PECVD existentes, minimizando el tiempo de instalación y configuración.Su construcción robusta y su ingeniería precisa garantizan un funcionamiento estable y confiable, incluso en entornos industriales exigentes.
En resumen, el horno tubular rotatorio de alimentación y recepción para limpieza CVD de PE en polvo es una solución de última generación que revoluciona el proceso de limpieza PECVD.Sus características avanzadas, diseño profesional y rendimiento excepcional lo convierten en una herramienta indispensable para la industria electrónica, ya que garantiza una deposición superior de películas delgadas y una calidad óptima del producto.
Parámetros técnicos
Horno tubular de zona de temperatura dual | Modelo del Producto | TNO1200-60IIC-R |
Potencia del equipo | 3kW | |
Material del tubo del horno | Cuarzo de alta pureza | |
Tamaño del tubo del horno | Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm (Tubo heteromórfico de cuarzo) | |
Longitud de la cámara del horno | 440 mm | |
Longitud de la zona de calentamiento | 200mm+200mm | |
Temperatura de funcionamiento | 0~1150℃ | |
Temperatura límite | 1200℃ | |
Precisión del control de temperatura | ±1℃ | |
Tipo de termopar | Termopar tipo K | |
Modo de control de temperatura | Control de temperatura del programa de 30 segmentos, Autoajuste de parámetros PID | |
Modo de visualización | Pantalla táctil LCD HD a todo color | |
Método de sellado | Brida de vacío de acero inoxidable 304 | |
Fuente de alimentación | CA: 220 V 50/60 Hz | |
Velocidad de rotación | 0~13rpm | |
Ángulo de inclinación | 0~35° | |
Medidor de flujo másico de 3 canales | Modelo del Producto | CY-3Z |
Número de rutas de gas | 3 canales | |
Tipo de caudalímetro | Medidor de flujo de masa | |
Rango de medición | Un canal: 0~100sccm;Canal B: 0~200 sccm;Canal C: 0~500 sccm | |
Precisión de la medición | ±1,5% | |
Diferencia de presión de trabajo | 0,1 ~ 0,5 MPa | |
Interfaz de tubería | Conector de virola de 1/4 de pulgada | |
Fuente de alimentación | CA 220 V 50/60 Hz. | |
Sistema de vacío | Bomba aspiradora | Bomba de paletas rotativa de dos etapas |
Velocidad de bombeo | 1,1 l/s | |
Puerto de bombeo | KF16 | |
Bomba de vacío final | 10E-1Pa | |
Fuente de alimentación | CA 220 V 50/60 Hz. | |
fuente de alimentación de radiofrecuencia | Frecuencia de señal | 13,56MHz±0,005% |
Rango de salida de potencia | 0~500W | |
Potencia máxima reflejada | 100W | |
Interfaz de salida RF | 50Ω, tipo N, hembra | |
Estabilidad de poder | ≤5W |
El horno tubular giratorio, alimentación y recepción para limpieza CVD de PE en polvo es una solución de vanguardia diseñada para mejorar la eficiencia y precisión de los procesos PECVD.
Este producto innovador ofrece un mecanismo de alimentación y recepción perfecto y preciso para materiales en polvo utilizados en la limpieza de PECVD.Con su diseño de horno de tubo giratorio, garantiza un calentamiento y distribución uniformes del polvo, lo que da como resultado una deposición de película delgada consistente y de alta calidad.
El horno tubular rotatorio de alimentación y recepción para limpieza CVD de PE en polvo está equipado con tecnología de plasma avanzada, que permite la deposición de películas delgadas con una adhesión y uniformidad excepcionales.Esto asegura que las películas resultantes cumplan con los estrictos requisitos de la industria electrónica, garantizando un rendimiento y confiabilidad óptimos.
Diseñado con la máxima profesionalidad, este producto está fabricado con materiales y componentes de alta calidad, lo que garantiza durabilidad y rendimiento duradero.Su interfaz fácil de usar y sus controles intuitivos facilitan su operación y mantenimiento, lo que reduce el tiempo de inactividad y maximiza la productividad.
Con su diseño compacto y que ahorra espacio, el horno tubular rotatorio de alimentación y recepción para limpieza CVD de PE en polvo se puede integrar perfectamente en los sistemas PECVD existentes, minimizando el tiempo de instalación y configuración.Su construcción robusta y su ingeniería precisa garantizan un funcionamiento estable y confiable, incluso en entornos industriales exigentes.
En resumen, el horno tubular rotatorio de alimentación y recepción para limpieza CVD de PE en polvo es una solución de última generación que revoluciona el proceso de limpieza PECVD.Sus características avanzadas, diseño profesional y rendimiento excepcional lo convierten en una herramienta indispensable para la industria electrónica, ya que garantiza una deposición superior de películas delgadas y una calidad óptima del producto.
Parámetros técnicos
Horno tubular de zona de temperatura dual | Modelo del Producto | TNO1200-60IIC-R |
Potencia del equipo | 3kW | |
Material del tubo del horno | Cuarzo de alta pureza | |
Tamaño del tubo del horno | Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm (Tubo heteromórfico de cuarzo) | |
Longitud de la cámara del horno | 440 mm | |
Longitud de la zona de calentamiento | 200mm+200mm | |
Temperatura de funcionamiento | 0~1150℃ | |
Temperatura límite | 1200℃ | |
Precisión del control de temperatura | ±1℃ | |
Tipo de termopar | Termopar tipo K | |
Modo de control de temperatura | Control de temperatura del programa de 30 segmentos, Autoajuste de parámetros PID | |
Modo de visualización | Pantalla táctil LCD HD a todo color | |
Método de sellado | Brida de vacío de acero inoxidable 304 | |
Fuente de alimentación | CA: 220 V 50/60 Hz | |
Velocidad de rotación | 0~13rpm | |
Ángulo de inclinación | 0~35° | |
Medidor de flujo másico de 3 canales | Modelo del Producto | CY-3Z |
Número de rutas de gas | 3 canales | |
Tipo de caudalímetro | Medidor de flujo de masa | |
Rango de medición | Un canal: 0~100sccm;Canal B: 0~200 sccm;Canal C: 0~500 sccm | |
Precisión de la medición | ±1,5% | |
Diferencia de presión de trabajo | 0,1 ~ 0,5 MPa | |
Interfaz de tubería | Conector de virola de 1/4 de pulgada | |
Fuente de alimentación | CA 220 V 50/60 Hz. | |
Sistema de vacío | Bomba aspiradora | Bomba de paletas rotativa de dos etapas |
Velocidad de bombeo | 1,1 l/s | |
Puerto de bombeo | KF16 | |
Bomba de vacío final | 10E-1Pa | |
Fuente de alimentación | CA 220 V 50/60 Hz. | |
fuente de alimentación de radiofrecuencia | Frecuencia de señal | 13,56MHz±0,005% |
Rango de salida de potencia | 0~500W | |
Potencia máxima reflejada | 100W | |
Interfaz de salida RF | 50Ω, tipo N, hembra | |
Estabilidad de poder | ≤5W |
