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Sistema PE-HPCVD (deposición de vapor físico-químico híbrido mejorado con plasma) para dichaslcogenuros de metales de transición

sio2 pecvd sio2 cvd recubrimiento de película delgada por plasma deposición química de vapor mejorada pecvd Zonas de calentamiento dobles Sistema CVD para producción de grafeno y sinterización de materiales


 
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  • TN-O1200-50IIT

  • TN

Este producto es un sistema de horno de tubo giratorio de doble zona de calentamiento con deposición físico-química de vapor híbrida mejorada con plasma de 1200 ℃.El equipo incluye un horno tubular de doble zona de calentamiento, un conjunto de fuente de evaporación de filamento de tungsteno, un conjunto de generador de plasma y un conjunto de sistema de caudalímetro másico.Su principio de funcionamiento es evaporar el reactivo en el extremo de entrada de gas a través de la fuente de evaporación y cargarlo en la zona de calentamiento del horno tubular a través del flujo de aire para llevar a cabo la reacción CVD.Al mismo tiempo, la reacción se ve favorecida por la mejora del plasma.Es adecuado para el tratamiento térmico de polvo compuesto inorgánico y la uniformidad del recubrimiento de la superficie (por ejemplo, preparar polvos catódicos de baterías de iones de litio con recubrimientos conductores en la superficie de la muestra).

Parámetros técnicos:

Dos   horno tubular de zona de calentamiento

Producto   modelo

TN-O1200-50IIT

Horno   material del tubo

Alto   cuarzo pureza

Tubo   diámetro

50mm

Horno   longitud del tubo

1200 mm

Horno   longitud de la cámara

440 mm

Calefacción   longitud de la zona

200mm+200mm

Operando   temperatura

0~1100℃

Temperatura   precisión del control

±1℃

Temperatura   modo de control

30   o control de temperatura del programa de 50 segmentos

Mostrar   modo

alta definición   pantalla táctil LCD a todo color

Sellando   método

304   brida de vacío de acero inoxidable

Fuerza   suministrar

C.A:   220V 50/60Hz 2.5kw

RF   sistema de salida

Fuerza   rango

0~500W   ajustable

laboral   frecuencia

13,56MHz+0,005%

Laboral   modo

Continuo   producción

emparejado   modo de impedancia

Él   Se puede combinar y el brillo se distribuye uniformemente por todo el horno.   tubo

Fuerza   estabilidad

≤2W

Normal   potencia reflejada de trabajo

≤3W

Amplificado   poder reflejado

≤70W

Armónico   componente

≤-50 dBc

En general   eficiencia

≥70%

Fuerza   Factor

≥90%

Suministrar   tensión/frecuencia

Fase única   Frecuencia CA (187 V ~ 153 V) 50/60 Hz

Control   modo

Interno   control/PLC  cantidad analógica/RS232/485   comunicación

Fuerza   configuración de protección

corriente continua   Protección contra sobrecorriente, protección contra sobrecalentamiento del amplificador de potencia,   protección de energía reflejada

Enfriamiento   método

Forzado   aire acondicionado

Brillo   zona

Bajo   Ar, la fuente de alimentación de radiofrecuencia y la bobina cooperan con el brillo para   llenar el tubo del horno

Evaporación   bote

Laboral   temperatura

1300℃

Evaporación   fuente

Tungsteno   cesta de alambre, crisol de alúmina cónico opcional

Par termoeléctrico

S   tipo termopar

Laboral   actual

≤30A

Máx.   fuerza

500W

Gas   sistema de entrega

Medidor de corriente

Cuatro canales   medidor de flujo de masa

Fluir   rango

MFC1   rango: 0~200sccm Rango MFC2: 0~200sccm

MFC3   rango: 0~500sccm Rango MFC4: 0~500sccm

Correspondiente   a los gases H2, CH4, N2, Ar.

Medición   exactitud

±1,5% FS

Repetibilidad

±0,2% FS

Precisión lineal

±1% FS

Tiempo de respuesta

≤4s

Presión de trabajo

-0,15 MPa ~ 0,15 MPa

Fluir   control

LCD   control de pantalla táctil, pantalla digital, cada canal de gas contiene válvula de aguja   para control individual.

Consumo   Interfaz

Él   Se puede conectar con tubería de acero inoxidable de 1/4NPS o 6 mm de diámetro exterior.

Salida   Interfaz

Él   Se puede conectar con tubería de acero inoxidable de 1/4NPS o 6 mm de diámetro exterior.

Conexión   método

Doble   conector de virola

Operando   temperatura

5~45℃

Gas   premezcla

Equipado   con dispositivo de premezcla de gas

Escape   sistema

Producto   modelo

CY-GZK103-A

Molecular   bomba

turbomolecular   bomba

Apoyo   bomba

Dos etapas   bomba de paletas rotativas

Bombeo   tasa

Molecular   bomba: 600L/S

Integral   Rendimiento de bombeo: 30 minutos El vacío puede alcanzar: 5×10E-3Pa

Giratorio   bomba de paletas: 1.1L/S

Último   vacío

5×10E-4Pa

Bombeo   puerto

KF40

Escape   interfaz

KF16

Vacío   medición

Compuesto   indicador de vacio


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