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Presentamos nuestros sistemas CVD (deposición química de vapor) de vanguardia, diseñados para revolucionar el procesamiento de materiales de sustrato.Con la máxima precisión y confiabilidad, nuestros sistemas CVD están diseñados para atender una amplia gama de materiales, incluidos silicio, vidrio, metales y más.
Elaborados con experiencia líder en la industria, nuestros sistemas CVD garantizan un rendimiento excepcional y resultados consistentes, lo que los convierte en una opción ideal para diversas aplicaciones.Ya sea que trabaje con sustratos de vidrio delicados o superficies metálicas robustas, nuestros sistemas CVD ofrecen una calidad y eficiencia incomparables.
Equipados con tecnología avanzada, nuestros sistemas CVD ofrecen un proceso de deposición controlado y sin interrupciones.Con un control preciso de la temperatura, la presión y el flujo de gas, puede lograr las características de película deseadas con la máxima precisión.Este nivel de control garantiza recubrimientos uniformes y sin defectos, mejorando el rendimiento general y la durabilidad de sus productos.
Nuestros sistemas CVD están diseñados pensando en la facilidad de uso, con interfaces intuitivas y operaciones optimizadas.Con una formación mínima requerida, puede operar el sistema sin esfuerzo, ahorrando tiempo y recursos valiosos.
Además, nuestros sistemas CVD están diseñados para cumplir con los más altos estándares de seguridad, lo que garantiza un entorno de trabajo seguro.Con sólidas funciones de seguridad y sistemas de monitoreo integrales, puede estar tranquilo al utilizar nuestro equipo.
Invierta en nuestros sistemas CVD de última generación y descubra posibilidades ilimitadas para sus necesidades de procesamiento de materiales de sustrato.Experimente un rendimiento inigualable, una confiabilidad inigualable y una calidad excepcional con nuestros sistemas CVD de nivel profesional.Eleve sus capacidades de producción y manténgase a la vanguardia en el competitivo mercado actual.
RF fuente de alimentación | Señal frecuencia | 13,56MHz±0,005% | |
Fuerza rango de salida | 0~300W | ||
Máximo poder reflejado | 100W | ||
reflejado potencia (a máxima potencia) | <3W | ||
Fuerza estabilidad | ±0,1% | ||
horno tubular | Tubo material | Alto cuarzo pureza | |
Exterior diámetro del tubo | 100mm | ||
Tubo longitud | 1200 mm | ||
Horno longitud de la cámara | 440 mm | ||
Calefacción longitud de la zona | 200mm+200mm (dos zonas de temperatura) | ||
Constante longitud de la zona de temperatura | 200 mm | ||
Continuo temperatura de trabajo | |||
Temperatura precisión del control | ±1℃ | ||
Temperatura modo de control | 30 control de temperatura del programa de segmento | ||
Mostrar modo | LCD | ||
Sellando método | 304 brida de vacío de acero inoxidable | ||
Gas suministrar sistema | Modelo | CY-6Z | |
Canal números | 6 | ||
Medición unidad | Masa controlador de flujo | ||
Medición rango | A canal: 0~200SCCM Para H2 | Observaciones: Si se requieren otros rangos, especifique al realizar el pedido.De acuerdo con la Requisitos específicos del cliente, el medidor de flujo del tipo de gas correspondiente y el alcance es opcional. | |
B canal: 0~200SCCM para CH4 | |||
C canal: 0~200SCCM para C2H4 | |||
C canal: 0~500SCCM para norte2 | |||
D canal: 0~500SCCM para NH3 | |||
E canal: 0~500SCCM para Ar | |||
Precisión de la medición | ±1,5% FS | ||
Laboral diferencia de presión | -0,15 MPa ~ 0,15 MPa | ||
Conectando tubo | 304 acero inoxidable | ||
Gas canal | 304 válvula de aguja de acero inoxidable | ||
Interfaz especificación | 1/4' conector de virola para entrada y salida de gas | ||
Vacío sistema | Mecánico bomba | Doble etapa bomba de paletas rotativas | |
Bombeo tasa | 1.1L/S | ||
Vacío medición | Resistencia indicador | ||
Último vacío | 1.0E-1Pa | ||
Bombeo interfaz | KF16 | ||
Corredizo carril | Poder lograr el deslizamiento del horno de dos zonas de temperatura, para lograr una temperatura rápida levantarse y caer. | ||
Fuerza suministrar | CA 220 V. 50Hz | ||
Presentamos nuestros sistemas CVD (deposición química de vapor) de vanguardia, diseñados para revolucionar el procesamiento de materiales de sustrato.Con la máxima precisión y confiabilidad, nuestros sistemas CVD están diseñados para atender una amplia gama de materiales, incluidos silicio, vidrio, metales y más.
Elaborados con experiencia líder en la industria, nuestros sistemas CVD garantizan un rendimiento excepcional y resultados consistentes, lo que los convierte en una opción ideal para diversas aplicaciones.Ya sea que trabaje con sustratos de vidrio delicados o superficies metálicas robustas, nuestros sistemas CVD ofrecen una calidad y eficiencia incomparables.
Equipados con tecnología avanzada, nuestros sistemas CVD ofrecen un proceso de deposición controlado y sin interrupciones.Con un control preciso de la temperatura, la presión y el flujo de gas, puede lograr las características de película deseadas con la máxima precisión.Este nivel de control garantiza recubrimientos uniformes y sin defectos, mejorando el rendimiento general y la durabilidad de sus productos.
Nuestros sistemas CVD están diseñados pensando en la facilidad de uso, con interfaces intuitivas y operaciones optimizadas.Con una formación mínima requerida, puede operar el sistema sin esfuerzo, ahorrando tiempo y recursos valiosos.
Además, nuestros sistemas CVD están diseñados para cumplir con los más altos estándares de seguridad, lo que garantiza un entorno de trabajo seguro.Con sólidas funciones de seguridad y sistemas de monitoreo integrales, puede estar tranquilo al utilizar nuestro equipo.
Invierta en nuestros sistemas CVD de última generación y descubra posibilidades ilimitadas para sus necesidades de procesamiento de materiales de sustrato.Experimente un rendimiento inigualable, una confiabilidad inigualable y una calidad excepcional con nuestros sistemas CVD de nivel profesional.Eleve sus capacidades de producción y manténgase a la vanguardia en el competitivo mercado actual.
RF fuente de alimentación | Señal frecuencia | 13,56MHz±0,005% | |
Fuerza rango de salida | 0~300W | ||
Máximo poder reflejado | 100W | ||
reflejado potencia (a máxima potencia) | <3W | ||
Fuerza estabilidad | ±0,1% | ||
horno tubular | Tubo material | Alto cuarzo pureza | |
Exterior diámetro del tubo | 100mm | ||
Tubo longitud | 1200 mm | ||
Horno longitud de la cámara | 440 mm | ||
Calefacción longitud de la zona | 200mm+200mm (dos zonas de temperatura) | ||
Constante longitud de la zona de temperatura | 200 mm | ||
Continuo temperatura de trabajo | |||
Temperatura precisión del control | ±1℃ | ||
Temperatura modo de control | 30 control de temperatura del programa de segmento | ||
Mostrar modo | LCD | ||
Sellando método | 304 brida de vacío de acero inoxidable | ||
Gas suministrar sistema | Modelo | CY-6Z | |
Canal números | 6 | ||
Medición unidad | Masa controlador de flujo | ||
Medición rango | A canal: 0~200SCCM Para H2 | Observaciones: Si se requieren otros rangos, especifique al realizar el pedido.De acuerdo con la Requisitos específicos del cliente, el medidor de flujo del tipo de gas correspondiente y el alcance es opcional. | |
B canal: 0~200SCCM para CH4 | |||
C canal: 0~200SCCM para C2H4 | |||
C canal: 0~500SCCM para norte2 | |||
D canal: 0~500SCCM para NH3 | |||
E canal: 0~500SCCM para Ar | |||
Precisión de la medición | ±1,5% FS | ||
Laboral diferencia de presión | -0,15 MPa ~ 0,15 MPa | ||
Conectando tubo | 304 acero inoxidable | ||
Gas canal | 304 válvula de aguja de acero inoxidable | ||
Interfaz especificación | 1/4' conector de virola para entrada y salida de gas | ||
Vacío sistema | Mecánico bomba | Doble etapa bomba de paletas rotativas | |
Bombeo tasa | 1.1L/S | ||
Vacío medición | Resistencia indicador | ||
Último vacío | 1.0E-1Pa | ||
Bombeo interfaz | KF16 | ||
Corredizo carril | Poder lograr el deslizamiento del horno de dos zonas de temperatura, para lograr una temperatura rápida levantarse y caer. | ||
Fuerza suministrar | CA 220 V. 50Hz | ||
